-
UID：317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-04-29
- 在线时间1766小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 ("J V:u.L+ 1f pS"_ } 光栅结构广泛用于光谱仪、近眼显示系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法（FMM）以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中，可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的，并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中，介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。 Ignv|TYG ? m_R U
 iP? ASqo{ EDidg "0p 本用例展示了...... ~ Dp:j*H •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构，例如： `j!2uRFe> - 矩形光栅界面 1={T cq\] - 过渡点列表界面 *A1TDc$ - 锯齿光栅界面 #!d^3 iB2 - 正弦光栅界面 [ls ?IFg •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。 % 6hw C}P
\kDM 光栅工具箱初始化 (~pEro]?+) •初始化 n40MP5R xY - 开始 SX=0f^ 光栅 On.x~ t 通用光栅光路图 Qdr-GODx •注意：使用特殊类型的光栅，例如： 矩形形状， JTh =JHJ 可直接选择特定的光路图。 -^jLU
FC zI:5I @ X
 dbUZGn~ nC!^,c 光栅结构设置 @ Rb1)$~# •首先，必须定义基板（基块“Base Block”）的厚度和材料。 AB &wn>q
 $E,DxDT •在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈（stack）中定义。 :0j`yo: w •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。 i`nw"8
9H%xZ(`vN
 hUhp2ibEs
O9=H
[b •例如，选择第一个界面上的堆栈。 I.0P7eA- S@G{|. )2 堆栈编辑器 9PGR#!!F$ •在堆栈编辑器(Stack Editor)中，可以从目录中添加或插入界面。 e, 0I~: •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。 ~5!TV,>ls Hr*Pi3 dSI
 hGo|2@sc
EbYH?hPo 矩形光栅界面 JR<-'
3R:i*8C •一种可能的界面是矩形光栅界面。 Heif FJn •此类界面适用于简单二元结构的配置。 JIKxY$GS •在此示例中，由银制成的光栅位于玻璃基板上。 J'c9577$ •为此，增加了一个平面界面，以便将光栅结构与基块分开。 5
^z ,'C •在堆栈编辑器的视图中，根据折射率（黑暗表示更高），其他颜色表示不同的材料。 gI5nWEM0{
<m:wuNEM
 NP'DuzC Dj. +5f' 矩形光栅界面 xy3%z •请注意：界面的顺序始终从基板表面开始计算。 }Q^a.`h •所选界面在视图中以红色突出显示。 [IBk-opap
 GiwA$^Hg\ •此外，此处无法定义光栅前方的介质（指最后一个接界面后面的介质）。 它自动取自光栅元件前面的材料。 V"jn rNs3 •可以在光路编辑器（Light Path Editor）中更改此材质。 .
\0=1P:  E(LE*J •堆栈周期（Stack Period）允许控制整个配置的周期。 %ys}Q!gR •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。 l d?.o/ •如果是简单的光栅结构，建议选择“取决于界面周期”（Dependent from Period of Interface）选项，并选择适当的周期性界面索引。 32P ]0&_O ZKPkx~,U[  2I 7 `
-%)
!XB
 k\%v;3nBK aBi:S3 qk 矩形光栅界面参数 R >&/n/l •矩形光栅界面由以下参数定义 t3g! 5 - 狭缝宽度（绝对或相对） NP*0WT_gB - 光栅周期 {=7i}xY]T - 调制深度 lFY8^#@ •可以选择设置横向移位和旋转。 f.^w/ GJO/
Z@/5 ~p
 Rj`Y X0?+
bR,Iq}p 高级选项和信息 a`Z f_;$@ •在传播菜单中，有几个高级选项可用。 w/6@R 4)p •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 :K:g yVrC •可以设置总级次数或衰逝波级次数 AI; =k （evanescent orders）。 Z"+!ayA7D •如果考虑金属光栅，这项功能非常实用。 >;W(Jb7e •相反，在介质光栅的情况下，默认设置就足够了。 ??V["o T wwn}enEz,x  e*s{/ a?, c iX2G •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。 zUqDX{I8 •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。 G)7sXEe •此外，有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。 =C)1NJx&~ •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。 <=M }[
PM7/fv *,  Hp!F?J7sx )zo ;r!eP 过渡点列表界面 .vMi <U; •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。 y k2j&}M •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。 vE(Hy&Q& •同样，平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。 p;Kr664  rI/KrBM 7i. aZ2a% 过渡点列表参数 JB<4 m4- •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。 % R"Fx$tQ •上限（Upper Limit）必须设置为大于所需光栅周期一半的值，但在周期性结构的情况下自动设置。 7I|Mq {'!~j !1'j  QUf_fe!,| rej[G! •必须在周期化（Periodization）选项卡中设置此界面的周期。 O5
SX"A •此处，可以定义x方向和y方向的周期。 ~ \P.gSiz •在这种情况下，可以忽略内部和外部定义区域的设置，因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。 FhGbQJ?[3 7[L C*nrr
 >pKI' Ry C7 高级选项及信息 z61
o6mb •同样，可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。 -|mABHjx* o/R-1\Dn
 #Z : r
P}gh-5x 正弦光栅界面 \Z 8!iruN •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。 &D:88 •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。 A@UnrbX : •如果使用单个界面来描述光栅结构，则会自动选择材料： 8 CCA/6 - 脊的材料：基板的材料 Sc&_6} K - 凹槽材料：光栅前面的材料 d9s "y?8 tBrVg<]t  ",a
fv{C Mt u8zm 正弦光栅界面参数 rlD@O~P4 - 正弦光栅界面也由以下参数定义： ^IpS 3y •光栅周期 T~la,>p|} •调制深度 qp Z ". - 可以选择设置横向移位和旋转。 j.o)!S A - 由于这是光栅界面（类似于矩形和锯齿借口），因此不必选择周期。 < javZJ N}\i!YUD  <T['J]k% nN[,$`JD, 高级选项和信息 V%))%?3x_ •同样，可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。 ;k >{I8L~
'2NeuK -KD
 ipsNiFv: xe d$z 高级选项及信息 [X|P(&\hQd •如果增加层数（例如，增加2倍），则离散化变得光滑。 m|!sY[! 8 _>R 'u[  * {uu_O 锯齿光栅界面 + EM '- •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。 x[]n\\a? •此界面允许配置闪耀结构的光栅。 sviGS&J9h •如果使用单个界面来描述光栅结构，则会自动选择材料： dG1qrh9_- - 脊的材料：基板的材料 !$j'F? 2 > - 凹槽材料：光栅前面的材料
'{),gV. IlH*s/
 dme_Ivt zDX-}t_'q 锯齿光栅界面参数 ZW2U9 •锯齿光栅界面也由以下参数定义： (u *-( - 光栅周期 'C(YUlT2?P - 调制深度 #U^@)g 6 •此外，闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。 1|2X0Xm{ •可以选择设置横向移位和旋转。 xR$xAcoSB •由于这是光栅界面（类似矩形和正弦型），因此不必选择周期。 dH8H<K~
C/)Xd^#  W}Z'zU?[ K?) &8S 高级选项和信息 E;k'bz •同样，可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。 leiP/D6s  cO'
\s 探测器位置的注释 %{ax oGd 关于探测器位置的注释 NT :p6(s^ •在VirtualLab中，探测器默认位于基板后面的空气中。 7Y:1ji0 l •如果光栅包含在复杂的光学装置中，则必须这样做。 JBp^@j{_ •但是，完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应，而实际情况并非如此。 *U8Pjb1 •因此，为了计算光栅效率，应将探测器设置在基板材料内（同样适用于大多数光栅评估软件）。 Ig~lD>dnr' •可以避免这些干涉效应的不良影响。
t;{/Q&C  .^ soX} g$~ktr+%
文件信息 \It8+^d@ 2ACN5lyUS
 I6~.sTl ^ As^ hY^p
.hXxh)F QQ：2987619807 -b8Vz}Y
|
