-
UID：317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-02-11
- 在线时间1927小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 OljUK,I] Pon 2!$ 光栅结构广泛用于光谱仪、近眼显示系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法（FMM）以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中，可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的，并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中，介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。 C,hs!v6 K_bF)6"
 k/=J<?h0 1Z6<W~,1OM 本用例展示了...... NZ/gp"D? •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构，例如：
1Wtr_A - 矩形光栅界面 t8\F7F P - 过渡点列表界面 n'v[[ bmu - 锯齿光栅界面 a[]=*(AZI - 正弦光栅界面 GN?^7kI •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。 di>"\On- !
pR&&uG 光栅工具箱初始化 ZwB<
{? •初始化 r#JE7une T - 开始
Z K 1d3 光栅 EA|*|o 4) 通用光栅光路图 2HoTj| •注意：使用特殊类型的光栅，例如： 矩形形状， 9TBkVbqV 可直接选择特定的光路图。 q6f+tdg= ?< ]BLkx
 _,"T; i w <<>XIL 光栅结构设置 v{$X2z_$w •首先，必须定义基板（基块“Base Block”）的厚度和材料。 oS0l Tf\
 EeG7 %S
5( •在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈（stack）中定义。 QxH%4 )? •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。 E 'j>[C:U
rE;*MqYt&
 _?M34&.X
NE,2jeZQ . •例如，选择第一个界面上的堆栈。 9cp-Rw<tI m. pB]yq& 堆栈编辑器 K PSFy< •在堆栈编辑器(Stack Editor)中，可以从目录中添加或插入界面。 U BzX%:A •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。 J:Ea|tXK^ ? [l[y$9
 \ ,ARYwd
^[,Q2MHCT( 矩形光栅界面 }pdn-# NQz*P.q •一种可能的界面是矩形光栅界面。 F&%@ p & •此类界面适用于简单二元结构的配置。 <qT[ •在此示例中，由银制成的光栅位于玻璃基板上。 1PpZ*Y K3z •为此，增加了一个平面界面，以便将光栅结构与基块分开。 z0+ LD •在堆栈编辑器的视图中，根据折射率（黑暗表示更高），其他颜色表示不同的材料。 U>w#`Sy[
#<s6L"Z-
 ~7+7{9g Xyy;BO : 矩形光栅界面 H C(Vu •请注意：界面的顺序始终从基板表面开始计算。 >lQ@" U •所选界面在视图中以红色突出显示。 r&oR|-2hRk
 O B`(,m# •此外，此处无法定义光栅前方的介质（指最后一个接界面后面的介质）。 它自动取自光栅元件前面的材料。 b c=,$ •可以在光路编辑器（Light Path Editor）中更改此材质。 WHeyE3}p  h / 5|3 •堆栈周期（Stack Period）允许控制整个配置的周期。 nNz1gV:0X •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。 ^MIF+/bQ •如果是简单的光栅结构，建议选择“取决于界面周期”（Dependent from Period of Interface）选项，并选择适当的周期性界面索引。 [~* 5uSG 0gO_dyB  w=:o//~6j
WfpQ
 J9eOBom8e< J!Er%QUR 矩形光栅界面参数 1/+d@s#t •矩形光栅界面由以下参数定义 VK*Dm:G0 - 狭缝宽度（绝对或相对） d-c <dS+R - 光栅周期 IR;l{q&` - 调制深度 :B{Wf 2<z •可以选择设置横向移位和旋转。 (StX 1g'
:No`+X[Kq
 `ppyCUX
M.fAF L
高级选项和信息 X)o xNxZ[A •在传播菜单中，有几个高级选项可用。 &H 8wYs •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 ,1/O2aQ%\0 •可以设置总级次数或衰逝波级次数 '&hz *yk （evanescent orders）。 #lAC:>s3U •如果考虑金属光栅，这项功能非常实用。 |j $r@ •相反，在介质光栅的情况下，默认设置就足够了。 "Vh3hnS~ GsIVx!  J,4,#2M8
hr$W t ?B •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。 3LGX ^J<f •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。 Drm#z05i[g •此外，有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。 ezimQ •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。 (P!r^87
Vu.VH([b]Q  O6*2oUKqK M[ {O%! 过渡点列表界面 "DaE(S& •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。 @k=UB& ?I •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。 lXtsnQOOK •同样，平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。 V>Dqw!  H9;0$Y(e- m tU{d^B 过渡点列表参数 Z8C~o)n9 •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。 <W]
RyEg` •上限（Upper Limit）必须设置为大于所需光栅周期一半的值，但在周期性结构的情况下自动设置。 4)"S /u E7'  8[b_E5!V [Ef6 @ •必须在周期化（Periodization）选项卡中设置此界面的周期。 rn^cajO^ •此处，可以定义x方向和y方向的周期。 [ Y+Ta, •在这种情况下，可以忽略内部和外部定义区域的设置，因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。 |I[/Fl: d| #&j. "
 vf&_
N Qb%o%z?hee 高级选项及信息 s\+|
ql •同样，可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。 (}g4}A@x Ez8k.]q u
 kEgpF{"%n
@E 8P>k q 正弦光栅界面 :V3z`}Rl •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。 F f{,zfN+3 •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。 *\.8*6*$! •如果使用单个界面来描述光栅结构，则会自动选择材料： xKR\w !+Z' - 脊的材料：基板的材料 AH{#R D - 凹槽材料：光栅前面的材料 ' -U&S " uli~ {IU  g,9&@g/ ">._&8KkE0 正弦光栅界面参数 q9 :g - 正弦光栅界面也由以下参数定义： X=+|(A,BdY •光栅周期 80zpR U" •调制深度 @( bg# - 可以选择设置横向移位和旋转。 aFaioE#h( - 由于这是光栅界面（类似于矩形和锯齿借口），因此不必选择周期。 ({ O~O5k 7fI2b,~  TZ63=m }*
\ *<d
3 高级选项和信息 5cGQ `l •同样，可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。 ?K+q~DzNSD
; j.-6#n
 !&xci})7a z auDw V= 高级选项及信息 MyZVx|7 E •如果增加层数（例如，增加2倍），则离散化变得光滑。 |
C^.[) $xT9e  (dfC}x(3h 锯齿光栅界面 iC3C~?,7 •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。 JK`$/l |7 •此界面允许配置闪耀结构的光栅。 &wAVO_s •如果使用单个界面来描述光栅结构，则会自动选择材料： Q 0G5<:wc - 脊的材料：基板的材料 2e HVl.C5 - 凹槽材料：光栅前面的材料 @DIEENiM GE`1j'^-
 CT5s`v!s /oW]? 9 锯齿光栅界面参数 iciKjXJ : •锯齿光栅界面也由以下参数定义： w3 ATsIw - 光栅周期 U?a n\rv - 调制深度 4(*PM&'R •此外，闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。 | p! ($ •可以选择设置横向移位和旋转。 x3g4 r_ •由于这是光栅界面（类似矩形和正弦型），因此不必选择周期。 Vpne-PW
IMr#5  .%y'q!? HMC-^4\%[ 高级选项和信息 jQxhR •同样，可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。 L2 +cVR  =\_gT=tZ 探测器位置的注释 K-~g IlbQ` 关于探测器位置的注释 Y0.'u{J* •在VirtualLab中，探测器默认位于基板后面的空气中。 ~Th,<w*o •如果光栅包含在复杂的光学装置中，则必须这样做。 J$sBfO D •但是，完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应，而实际情况并非如此。 ~|9VVeE •因此，为了计算光栅效率，应将探测器设置在基板材料内（同样适用于大多数光栅评估软件）。 I 1n,c d[ •可以避免这些干涉效应的不良影响。 V y$*v  6_ <~]W& od {\z
文件信息 ,#FP]$FK PxgJ7d
 5@% .wb4 T\n6^@.>
r88De=* QQ：2987619807 1cv~_j Fh
|
