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摘要 `/EGyN6X cd$m25CxC 复杂光学光栅结构被广泛用于多种应用,如光谱仪、近眼显示系统等。利用傅里叶模态法(FMM,或称RCWA) VirtualLab Fusion 提供了一种用于任意光栅结构严格分析的简单方法。利用图形用户界面,用户可以设置堆栈的几何形状,从而产生复杂的光栅结构。本案例主要集中于具有二维周期光栅结构的配置。 2oNk93D
I?ae\X@M 1. 本案例主要说明: |j#C|V%kV 如何在光栅工具箱中配置二维光栅结构,通过: SjwyLc - 基于介质的定义类型 LIZRoG8 - 基于表面的定义类型 ?TU }~} 计算前如何改变高级选型并检查定义的结构。 `C$:Yf]%nG 注意:在VirtualLab中,具有二维周期性的光栅结构称作3D光栅。因此,层状光栅(一维光栅)被称为2D光栅。 L$IQuy Q\
U:~g3 2. 光栅工具箱初始化 aC%m- m 初始化 y0'Rmk, - 开始→ N4L|;? 光栅→ E
,|xJjh 一般光栅光路图(3D光栅) dIRm q+d^ 1:f9J
1n:8s'\ 注意:对于特殊类型的光栅,如柱状光栅,可以直接选择特定的光路图。 S$Q8>u6Wk }Ub6eXf(2 3. 光栅结构配置 =
c>Qx"Sw 首先,必须先定义基底的厚度与材料 oAPb*;} 在VirtualLab中,光栅结构有一个所谓的堆栈进行定义 J|w\@inQ 堆栈可以附属在基底的一侧或两侧。 YwZ
Z{+n 例如,堆栈选择附属在第一表面。 =gJb^
Gx(w K)Q]a30 基于介质的定义类型 S5G6Rj@W (例如:柱状光栅) %2XHNW 1. 堆栈编辑器 ;)!Sp:mHX 在堆栈编辑器中,可以从库中增加和插入界面和介质。 #ZYVc|sT+ 为了以特殊材料定义光栅,必须添加两个平面界面作为边界。 @>E2?CV 1DvR[Lx%
2Fq<*pxAY
4*e0 hWp 两个平面界面间的介质可以使均匀的,也可以是调制的。 D (h18 通过使用后者,可以非常有效地描述复杂的光栅结构,如柱状光栅。、 Bc6|n :;u XI22+@d6 Lz:(6`S 2. 柱状光栅介质 BI $ 在库目录“LightTrans Defined”中,在柱状介质库中可以找到铬柱。 .h>8@5/s 这种类型的介质可以模拟柱状结构以及衬底上的销孔。 &<UMBAS
?zQA 在本例中,由铬组成的矩形柱位于熔融石英基底上 +eX@U;J,g 在堆栈编辑器的视图中,不同的材料根据折射率(深色意味着更高)用其他颜色表示。 V\^EfQ 注意:堆栈编辑器总是提供x-z平面的横断面视图。 ?ON-+u 请注意:界面的顺序总是从基板的表面开始计算。 }w1~K'ck}> 选中的界面以红色高亮显示。 `kU/NKq 此外,这里不能定义光栅前面的介质(后一个界面后面)。它是自动从光栅元件前面的材料中取出的。 ho0@ l
D,g1<:< 可以在光学设置编辑器中更改此材料。 sfOHarww Oh'Y0_oB> o]p|-<I Q 堆栈周期允许控制整个配置的周期。 ]Yvga!S"C 对于具有二维周期性的光栅,周期必须在x和y方向上定义。 [&nh5|f 该周期也用于FMM算法的周期性边界条件。对于简单的光栅结构,建议从介质周期中选择“相关的”(Dependent)选项,并选择适当的周期介质指数。 Hrz f'a|^ qHP78&wUx 3. 柱状光栅介质参数 `g6h9GC6 通过以下参数定义柱状光栅: -$WYj"
Nqrmp" ] 基材(凹槽的介质) x
>^Si/t 柱状材料(脊的材料) <~n$1aA 柱的形状(矩形或椭圆形) /l<<_uk$ x方向(水平方向)柱距 9M1d%jT y方向(垂直方向)柱距 OBP1B@|l$+ 行移(允许行位移) w);6K[+; 光栅周期在x和y方向 ]- 4QNc= ijdXU8 根据柱栅的尺寸和距离自动计算柱栅的周期。 &bp=`=* 因此,它不能单独设置,框显示为灰色。 NN1$'"@NL 2w-51tqm q7-L53.x 4. 高级选项&信息 EoxQ
*/ 在传播菜单中有几个高级选项可用。 jMN[J|us51 propagation method选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 gF5a5T, 可以设置每个方向上考虑的总阶数或倏逝波阶数。 * C6a?] 这可能是有用的,尤其是如果考虑金属光栅。 CBD6b l|A
^-[ ?#] 相反,对于电介质光栅,默认设置就足够了。 y(=#WlK} Advanced Settings选项卡提供关于结构分解的信息。 w&B#goS 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散性。默认设置适用于几乎所有光栅结构。 vJU*>U,
0#YX=vjX7 此外,还提供了关于层数和转换点的信息。 jD`d#R 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述。折射率用色标表示。 zdEPDdB 定义的柱栅分解预览(俯视图)。 ]/B$br'O{? •VirtualLab建议将其离散化为2层(1层表示基底)。 !k/Pv\j/R IW%|G =pk)3<GwF 基于界面的定义类型 +5&wOgx (例如:截锥光栅) @bnG:np 1. 堆栈编辑器 {!K-E9_,S )"m!YuS Y 2. 截锥光栅 DVkB$2] 在本例中,使用了“截锥光栅界面”。 {M?vBgR\B 这种类型的界面可以模拟圆形的高透射结构。 Iy.rqc/86 在本例中,锥体是由位于同一材料基体上的熔融二氧化硅制成的。 aKd+CO:
Y"6w,_'m 在堆栈编辑器的视图中,不同的材料根据折射率(深色意味着更高)用其他颜色表示。 yH<$k^0r* 注意:堆栈编辑器总是提供x-z平面的横断面视图。 Zb134b' 请注意:界面的顺序总是从基底的表面开始计算。 x
$zKzfHW 选中的界面以红色高亮显示。 F1Hh7
F 此外,这里不能定义光栅前面的介质(后一个界面后面)。它是自动从光栅元件前面的材料中取出的。 if]Noe 这种材料可以在光学设置编辑器中更改。 60)iw4<wf
}irn'`I 此外,锥体的材料会自动从界面之后的材料中取出。 F|HJH"2*&q 在本例中,这意味着使用基底(基块)的材料。 4#'("#R 如果光栅结构是由不同的材料制成的,则必须添加额外的平面界面,以便将光栅结构与底座分离。 ]Y| 9?9d 然后根据需要选择截锥与平面界面之间的材料。 mnID3=JF 堆栈周期允许控制整个配置的周期。 Cb_oS4vM 对于具有二维周期性的光栅,周期必须在x和y方向上定义。 1<h>B: 该周期也用于FMM算法的周期性边界条件。 BkZV!Eg 对于简单的光栅结构,建议从介质周期中选择“相关的”(Dependent)选项,并选择适当的周期介质指数。 )|I5j];L 3. 截锥光栅参数 .<K
iMh 柱栅是一个可编程接口,由以下参数定义: ]D!k& |