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    [求助]关于光学镜片加工中的压克现象,有啥好的解决办法? [复制链接]

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    离线luyk
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-06
    小弟光学冷加工门外汉一枚,起初以为资源是可以共享的,后来慢慢的感觉光学行业,大家都守得太死了,也许是现在论坛落寞了吧,感觉不到十年前那种不懂就逛论坛的热闹景象了。很多专业的东西也不再有人愿意说了,大家都在闷着头搞自己的。行业里工作了十年二十年的大有人在,可是你去请教的时候总是一句搪塞了事。 }HL]yDO  
    N/[p <  
    言归正传,最近公司里被一个压克搞得鸡飞狗跳,基本上上线的80%机种镀膜洗净后压克比例都挺高的,小弟我又不懂这两个工程,但是耐不住看着心里着急,特来此求教,还望知道的师傅能不吝赐教。压克到底和哪些原因有关,出现如我司这种情况大概率的是哪里的问题。还请指点一二,谢谢了!
     
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    只看该作者 置顶 (来自10楼) 发表于: 2020-08-06
    — (cyqdesign) 执行 帖内置顶 操作 (2020-08-07 10:17) —
    亚克是日语ヤケ的音译,是变色的意思,光学工厂把这个疵病认为是印子,疵病代号206。我找到了一篇文章,对此解释的比较全,推荐如下:
    镜片常见不良及解决思路 
    6cpw~  
    ヤケ(腐蚀、发霉、压克) VQY&g;[d  
     定义: 镜片表面被腐蚀。在对策时一定要区分是ヤケ还是脏污,才能找出真因。 5pU2|Bk /  
     前言: 光学玻璃的结构:以硅酸盐为主(SiO3 )加上 Mg(镁)  Ba(钡 )  K(钾)  La (钄) Pb( 铅)等几十种离子混合而成。而Mg(镁)  Ba(钡 )  K(钾)  La (钄) Pb(铅)等是活性金属离子,它们是用来调节镜片的折射率(nd)、色散系数(vd)的添加剂.按理论分析正常状态的玻璃的结构是具有均匀性、混合地分布各种离子、离子键及化学键。但在加工过程中受各种因素的影响而使镜片结构发生变化(形成硅酸溶胶)。 G,TM-l_uw  
     ヤケ定义: ヤケ即腐蚀、发霉,指镜片研磨完品或膜层上形成化学腐蚀层,从而从镜片表面看与正常状态有颜色差异。ヤケ大致可以分为膜上ヤケ和膜下ヤケ。下列为常见的几种现象: r~+\ Y"rM  
    GRMiQa  
    OF%B[h&   
    *eIJwXE  
    'jmTXWq*  
    几种相关名词: 3VuW#m#j  
    1镀前ヤケ(镜片表面本身污染/水分残留/溶剂残留,镀前已可见) {)DHH:n  
    Ø 镜片在研磨过程中研磨液(研磨液通常PH值6.5~7.5但在加工过程会发生,由于硅酸盐、金属离子与研磨液发生化学反应,造成PH值变化)对镜片的腐蚀,镀前反射光可见灰暗不同现状的痕迹; }>)@WL:q  
     Ø 镀前透过光检查为白色雾状;  JBZUv  
    Ø 研磨完品未及时进行清洗(或擦拭),研磨残留(研磨液或水)对镜片的腐蚀;  MWI4Y@1bS  
    Ø 清洗后镜片暴露空气接触水分等太长,镜片受腐蚀; dp++%:j  
    Ø 洗净烘干时水分残留; 6Ztq  
     Ø 擦拭时后的溶剂残留;。 : q ti  
     2、 镀膜色差:(非ヤケ,镀前不可见)  KQcs3F@t  
    Ø 因镜片放置在镀膜伞的不同位置,基底温度不均匀;造成镀膜伞上、中、下膜色差异; Ø 镀膜蒸发源偏离原有设定位置,造成在镀膜伞上中下蒸发膜厚不均匀;  df*5,NV'-*  
    Ø 镀膜使用离子源时,离子覆盖的范围没有调整合适,离子流密度不均匀造成; uqM yoIc  
     3、 膜层脏污:(非ヤケ,镀前不可见)  7uT:b!^f[  
    Ø 膜下脏,指镀前未处理干净,镀膜后形成明显的膜色差异,透过光可见。  GFfq+=se  
    Ø 膜上脏,包括普通可擦拭的脏和难擦拭的脏污;镀膜真空室长期未清洁(洁净度差),膜层致密度低,灰尘、脏污粘付到膜层上时难以擦拭;镀膜后膜层污染,经高温环境后形成膜层脏污;  V<D.sd<  
    Ø 因镜片表面研磨表面Ra(粗糙度)大,镀膜前擦拭可感觉有涩感;镀膜后擦拭表面形成雾状,经超声波洗净后OK;  p>vn7;s2#  
    4、 膜下ヤケ: !icT/5  
     Ø 白ヤケ:镀后在透过光下能见白色雾状层,为镀前产生;镜片表面残留物(研磨保护漆)在真空室经高温烘烤分解,在表面形成白雾层,可用溶剂擦拭去除;镀前不可见; Kk(9O06j  
     Ø 镜片表面富含透明残留物经高温烘烤后,与镜片发生反应形成表面剧烈腐蚀;镀前不可见; 'D6T8B4  
     Ø 色ヤケ:研磨后不明显,镀膜放置后加重;镀前不可见 9m|kgY# 4  
    Ø 色斑:  研磨涂保护漆前已研磨好表面残留的水痕、研磨液没有及时去除彻底,涂好保护漆经高温烘烤好在表面形成腐蚀痕; \I["2C]3M  
    5、 膜色ヤケ:  xBUya4w  
    Ø 由于膜料特性及镀膜工艺不稳定造成膜层致密性差,镀后吸收水份与O2离子,擦拭无明显变化,烘烤或放置一段时间后会变严重或消失; oHMo>*?  
    可通过测试高温与低温时分光曲线的变化(差异小于20nm)显现 jAy^J(+  
    ?6(I V]  
    \=+b}mKV m  
    Ø 膜层结晶时高温下受损(某一层膜厚太薄≤160A),膜料与基底发生反应,高温下再结晶时不均匀,形成局部分光特性变化; }K1JU`Lz  
     Ø 研磨在表面形成不同的折射率区域; 3= DNb+D!  
     Ø 镀膜真空室内油污严重,存在大量各类杂质气体,加热后吸附在镜片表面,造成膜层结晶粗糙,膜层在大气中吸附各类气体水分,形成局部分光特性变化,可通过测试高温与低温时分光曲线的变化(差异小于20nm)显现;  9Rn? :B~W:  
    Ø 已镀膜镜片在擦拭作业后表面残留的溶剂、水痕等没有去除干净,又放入高温环境下烘烤; N;Dni#tQ`  
     6、 雾状:(非ヤケ)  AgOp.~*Z~V  
    Ø 表面粗糙、半透明,主要因为材质软、研磨量不足或洗净时被化学溶剂腐蚀; v$(lZa1  
    Ø 镜片长期被酸碱强烈腐蚀  \ {qI4=  
    7、 黑ヤケ  8 %%f%y  
    Ø 镀膜膜料金属氧化物失O2造成(与O2反应不充分,特别是在使用离子源的时候),镜片置于白色背景可见底色;置于富氧环境中高温烘烤后,黑色斑点消失;  uum;q-"  
    Ø 多片研磨使用粘贴胶,没有彻底去除, ^ "i l}8`  
     Ø 研磨液没有及时去除,镜片表面长期没有得到良好保护,点状腐蚀严重; vohoLeJTj  
     8、 细伤痕:(非ヤケ) &j?#3Qt'_  
     Ø 研磨完品表面细(浅)、长、密的伤痕,主要因为材质软、砂挂残留、研磨量不足、研磨纸(粉)选择与配比不恰当,超洗加重潜伤等; %YSpCI  
     Ø 镜片表面研磨加工时由于研磨液(浓度、PH值、颗粒、温度)等影响,镜片表面在化学流布的作用下形成光滑表面,但超声波洗净后使潜在伤痕显现,同时伴有研磨液与洗剂的腐蚀;  ?6L&WB  
    9、 水纹印ヤケ GiP`dtK   
     Ø 洗净烘干时IPA纯度下降,(或其他烘干剂烘干效果不好)水份未及时蒸干; L f"i !  
     Ø 洗剂与除油剂经过剩余其他洗槽没有去除彻底,表面残留较多; QU%I43  
     Ø 镜片表面水分与残留雾在真空室内,经高温解析后形成H+/OH-,在镜片表面蒸发与凝结形成表面轻微腐蚀 B;R.#^@/  
    ヤケ关联图 #O$  
    JoRT&rkd  
    fMGbODAvY  
    通常处理思路: %STliJ  
    一. 目前所有对策都是加快流程,杜绝人为造成镜片表面的污染(手指痕、口水痕、其他污物);降低表面洁净镜片暴露于大气中被腐蚀的时间;提高膜层致密度; AZzuI*  
     1、 镀前ヤケ:  P&j (,7  
    Ø 检查方法: NZP.0coY  
     2 反射光下“哈汽法”确认有无残留点状痕迹/水纹印;  /" ${$b{  
    2 强光灯下确认有无脏污/白ヤケ;  # altx=6'  
    2 日光灯反光确认镜片有无黑ヤケ;  |} {B1A  
     2、 镀膜色差 B=>RH!&  
    Ø 对策/处理: 2 镀膜均匀度调整(镀膜专业人员)    z\0 CE]#T  
     2.1.膜色ヤケ  Pt@%4 :&-h  
    Ø 对策: 2 砂挂条件变更(钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等)à 确保砂挂完品表面粗糙度); 2 研磨条件变更(加工时间、研磨纸、研磨液(PH、浓度、颗粒度)、温度、压力条件等)à 确保研磨完品表面粗糙度); 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分,保持表面的洁净度(注意清洁方法与清洁辅料与更换周期); 2 镀前处理:使用手工表面返修(单轴机手工返修) Ø 试验/验证: 2 通过反射光下“哈汽法”,镀前检查确认表面光洁度; 2 使用透过光旋转检查研磨表面有无白雾、表面研磨刷子状痕迹; 2 通过镀前处理(手工返修)后镀制来验证研磨完品表面质量;  Eo\UAc  
    3、 膜层脏污: 4l!@=qwn  
     A、膜上脏污:  XYS'.6k(  
    Ø 对策/处理:  lc2i`MC  
    2 膜系调整(如加镀SiO2,膜表面品质提升);  Ypeiy `.  
    2 镀后延长烘烤时间,与镀膜使用离子源辅助镀膜(表面致密度提升);  @%tRhG  
    2 镀后防尘措施(改善存放环境,降低泄大气前镜片温度,保持真空室内洁净度);  txZ?=8j_Y  
    2 防止镀膜后加工工序形成表面污染,如涂墨高温烘烤与粘合UV固化加重污染,造成表面脏污;  PqyA1  
    2 试验/验证: 6ZKsz5:=  
     2 擦拭变化,可擦拭与超声波清洗去除; by'DQ 00  
     B、膜下脏污:  vKq^D(&cl  
    Ø 对策/处理:---- 镀前处理  f;&]:2.j  
    2 洗净处理(确认洗剂浓度与PH值,提高超声波强度,延长洗净时间,特殊洗净工艺);  %V1Z~HC  
    2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分,保持表面的洁净度(注意清洁方法与清洁辅料与更换周期); 2 研磨完品表面手指痕、口水痕、其他污染即时去除;  <V7>?U l  
    2 手工返修处理(研磨粉、CaCO3+干油等擦拭); a 4=N9X  
     Ø 试验/验证: % r-V2)  
     2 镀前反射光下“哈汽法”确认, %]gn?`O  
     2 镀后不可擦拭  H;U)b{  
    4、 膜下ヤケ:  DUL4noq{  
    Ø 对策/处理:---- 镀前处理 #'-Sh7ycW  
     2 研磨条件变更(考虑材质对研磨液等调整) ybeKiv9  
     2 考虑材质调整研磨工艺: Q\GDrdA  
     n 采取研磨后直接镀膜工艺: N0K){  
    芯取à研磨à手工擦拭、检查à镀膜; _bzqd" 31I  
     n 采取易ヤケ面后加工工艺(避免多片加工、采取单元一个流作业等); V7Z4T6j4  
     n 缩短研磨后到镀膜的时间(检查前置、免洗净); ]J* ,g,  
     n 研磨完品清擦(吸水棉布,擦拭后达可镀清洁度),二次清擦法,及时更换擦布;  6\u!E~zy  
     n 已擦拭好研磨完品防潮、防湿(研磨后立即泡IPA,卤素灯烘干+PE袋+干燥剂等); L4b:F0  
     n 先镀易ヤケ面  4-kZJ\]  
    2 洗净处理(考虑材质及镜片形状对洗净条件进行调整,如洗净液、镜片放置方向等) (]RM6i7  
     2 手工处理(研磨粉、CaCO3+干油等擦拭) DNR~_3Aq  
    Ø 试验/验证: ik"sq}u_]E  
     2 通过手工处理确认镀后品质  ],ZzI  
     2 镀前强光灯下可见、哈气法检查 A%Xt|=^_  
     5、 膜色ヤケ: ?E9DXg  
     Ø 对策/处理:  N7b1.]<  
    2 镀膜工艺改进(膜层致密度提高(蒸发速率、基底温度、离子源使用、实际真空度、镀膜膜料、真空室的洁净度));  28hHabd|  
    2 使用高能离子去除表面残留污染,例如:使用SHINCRON SID-1100镀膜;  !" JfOu  
    2 镀前、镀后烘烤时间加长 2 镀后完品防尘、防湿 Ø 试验/验证: 2 一般擦拭不变化(研磨粉、CaCO3擦拭变化,膜层破坏)  7R3fqU.Rq  
    2 放置变化(变重/消失) nLwiCf e  
     6、 雾状: ui "3ak+F  
     Ø 对策/处理: Fhv2V,nZ<  
     2 砂挂加工条件改善(钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等) CvPioi  
    à 确保砂挂完品表面粗糙度); qC_mu)6  
     2 研磨条件变更(加工时间、研磨纸、研磨液、压力条件等) l akp  
    à 确保研磨完品表面粗糙度); v}sY|p"  
     2 研磨完后追加黑毛纸抛光;  \X F}?*8  
    2 洗净条件改善(洗剂、时间、温度等); ~XydQJ^*  
     2 镀膜第一层加AL2O3等,离子源电压(160V~120V)调整,与离子电流密度增加,离子源反应气体流量适当增加;  c{>uqPTY  
    2 膜层致密度提高; )jCo%P/  
     Ø 试验/验证: D?~8za`5  
     2 对不同粗糙度的砂挂完品试验,确认砂挂外观对研磨完品的影响程度  [k[u*5hP|F  
    2 通过手擦、洗净两种工艺后的品质确认洗净的影响程度  zf.- I  
    7、 黑ヤケ  hKNY+S})g  
    Ø 反射光检查 T# lP!c  
     Ø 对策  FZ|CqD"#  
    2 镀膜时O2的增加  !j1[$% =#  
    2 研磨液残留及时去除,表面脏污及时清理  `k; KBW  
    8、 :细伤痕  5tv<8~:K  
    Ø 同雾状 C{Asp  
     9、 水纹ヤケ  X 6 lH|R  
    Ø 更换烘干剂  '~ 4pl0TWc  
    以上 
    3条评分光币+20
    zjfzjf 光币 +5 优秀文章,支持! 2020-08-11
    luyk 光币 +5 热心助人,鼓励! 2020-08-07
    zhangyuqian1 光币 +10 优秀资料,加分! 2020-08-07
    离线滴滴滴
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    只看该作者 1楼 发表于: 2020-08-06
    同问学习
    离线静飘扬
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    只看该作者 2楼 发表于: 2020-08-06
    加油,先自己干吧
    离线misszy
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    只看该作者 3楼 发表于: 2020-08-06
    加工的事情不是很懂,有时间我问问同事
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    只看该作者 4楼 发表于: 2020-08-06
    共同学习
    离线wmh1985
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    只看该作者 5楼 发表于: 2020-08-06
    技术共享,基本就是梦想!
    离线luyk
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    只看该作者 6楼 发表于: 2020-08-06
    回 misszy 的帖子
    misszy:加工的事情不是很懂,有时间我问问同事 (2020-08-06 10:47)  vC9@,[  
    +cfziQ$'  
    先谢过了
    离线zhang2020
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    只看该作者 7楼 发表于: 2020-08-06
    刚接触光学,但是感觉没人领进门自己学起来好难,自己加油闷头干吧,技术共享真的很难呀,也想找个大佬带着。
    离线不懂想问
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    只看该作者 8楼 发表于: 2020-08-06
    可以去知网先找找相关文献