亚克是日语ヤケ的音译,是变色的意思,光学工厂把这个疵病认为是印子,疵病代号206。我找到了一篇文章,对此解释的比较全,推荐如下:
镜片常见不良及解决思路
6cpw~ ヤケ(腐蚀、发霉、压克)
VQY&g;[d 定义: 镜片表面被腐蚀。在对策时一定要区分是ヤケ还是脏污,才能找出真因。
5pU2|Bk / 前言: 光学玻璃的结构:以硅酸盐为主(SiO3 )加上 Mg(镁) Ba(钡 ) K(钾) La (钄) Pb( 铅)等几十种离子混合而成。而Mg(镁) Ba(钡 ) K(钾) La (钄) Pb(铅)等是活性金属离子,它们是用来调节镜片的折射率(nd)、色散系数(vd)的添加剂.按理论分析正常状态的玻璃的结构是具有均匀性、混合地分布各种离子、离子键及化学键。但在加工过程中受各种因素的影响而使镜片结构发生变化(形成硅酸溶胶)。
G,TM-l_uw ヤケ定义: ヤケ即腐蚀、发霉,指镜片研磨完品或膜层上形成化学腐蚀层,从而从镜片表面看与正常状态有颜色差异。ヤケ大致可以分为膜上ヤケ和膜下ヤケ。下列为常见的几种现象:
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Y"rM GRMiQa OF%B[h&
*eIJwXE 'jmTXWq* 几种相关名词:
3VuW#m#j 1镀前ヤケ(镜片表面本身污染/水分残留/溶剂残留,镀前已可见)
{)DHH:n Ø 镜片在研磨过程中研磨液(研磨液通常PH值6.5~7.5但在加工过程会发生,由于硅酸盐、金属离子与研磨液发生化学反应,造成PH值变化)对镜片的腐蚀,镀前反射光可见灰暗不同现状的痕迹;
}>)@WL:q Ø 镀前透过光检查为白色雾状;
JB ZUv Ø 研磨完品未及时进行清洗(或擦拭),研磨残留(研磨液或水)对镜片的腐蚀;
MWI4Y@1bS Ø 清洗后镜片暴露空气接触水分等太长,镜片受腐蚀;
dp++%:j Ø 洗净烘干时水分残留;
6Ztq Ø 擦拭时后的溶剂残留;。
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ti 2、 镀膜色差:(非ヤケ,镀前不可见)
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Ø 因镜片放置在镀膜伞的不同位置,基底温度不均匀;造成镀膜伞上、中、下膜色差异; Ø 镀膜蒸发源偏离原有设定位置,造成在镀膜伞上中下蒸发膜厚不均匀;
df*5,NV'-* Ø 镀膜使用离子源时,离子覆盖的范围没有调整合适,离子流密度不均匀造成;
uqM yoIc 3、 膜层脏污:(非ヤケ,镀前不可见)
7uT:b!^f[ Ø 膜下脏,指镀前未处理干净,镀膜后形成明显的膜色差异,透过光可见。
GFfq+=se Ø 膜上脏,包括普通可擦拭的脏和难擦拭的脏污;镀膜真空室长期未清洁(洁净度差),膜层致密度低,灰尘、脏污粘付到膜层上时难以擦拭;镀膜后膜层污染,经高温环境后形成膜层脏污;
V<D.sd< Ø 因镜片表面研磨表面Ra(粗糙度)大,镀膜前擦拭可感觉有涩感;镀膜后擦拭表面形成雾状,经超声波洗净后OK;
p>vn7;s2# 4、 膜下ヤケ:
!icT/5 Ø 白ヤケ:镀后在透过光下能见白色雾状层,为镀前产生;镜片表面残留物(研磨保护漆)在真空室经高温烘烤分解,在表面形成白雾层,可用溶剂擦拭去除;镀前不可见;
Kk(9O06j Ø 镜片表面富含透明残留物经高温烘烤后,与镜片发生反应形成表面剧烈腐蚀;镀前不可见;
'D6T8B4 Ø 色ヤケ:研磨后不明显,镀膜放置后加重;镀前不可见
9m|kgY# 4 Ø 色斑: 研磨涂保护漆前已研磨好表面残留的水痕、研磨液没有及时去除彻底,涂好保护漆经高温烘烤好在表面形成腐蚀痕;
\I["2C]3M 5、 膜色ヤケ:
xBUya4w Ø 由于膜料特性及镀膜工艺不稳定造成膜层致密性差,镀后吸收水份与O2离子,擦拭无明显变化,烘烤或放置一段时间后会变严重或消失;
o HMo>*? 可通过测试高温与低温时分光曲线的变化(差异小于20nm)显现
jAy^J(+ ?6(I V] \=+b}mKV
m Ø 膜层结晶时高温下受损(某一层膜厚太薄≤160A),膜料与基底发生反应,高温下再结晶时不均匀,形成局部分光特性变化;
}K1JU`Lz Ø 研磨在表面形成不同的折射率区域;
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DNb+D! Ø 镀膜真空室内油污严重,存在大量各类杂质气体,加热后吸附在镜片表面,造成膜层结晶粗糙,膜层在大气中吸附各类气体水分,形成局部分光特性变化,可通过测试高温与低温时分光曲线的变化(差异小于20nm)显现;
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:B~W: Ø 已镀膜镜片在擦拭作业后表面残留的溶剂、水痕等没有去除干净,又放入高温环境下烘烤;
N;Dni#tQ` 6、 雾状:(非ヤケ)
AgOp.~*Z~V Ø 表面粗糙、半透明,主要因为材质软、研磨量不足或洗净时被化学溶剂腐蚀;
v$(lZa1 Ø 镜片长期被酸碱强烈腐蚀
\ {qI4= 7、 黑ヤケ
8%%f%y Ø 镀膜膜料金属氧化物失O2造成(与O2反应不充分,特别是在使用离子源的时候),镜片置于白色背景可见底色;置于富氧环境中高温烘烤后,黑色斑点消失;
uum;q-" Ø 多片研磨使用粘贴胶,没有彻底去除,
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"i l}8` Ø 研磨液没有及时去除,镜片表面长期没有得到良好保护,点状腐蚀严重;
vohoLeJTj 8、 细伤痕:(非ヤケ)
&j?#3Qt'_ Ø 研磨完品表面细(浅)、长、密的伤痕,主要因为材质软、砂挂残留、研磨量不足、研磨纸(粉)选择与配比不恰当,超洗加重潜伤等;
%YSpCI Ø 镜片表面研磨加工时由于研磨液(浓度、PH值、颗粒、温度)等影响,镜片表面在化学流布的作用下形成光滑表面,但超声波洗净后使潜在伤痕显现,同时伴有研磨液与洗剂的腐蚀;
?6L&WB 9、 水纹印ヤケ
GiP`dtK
Ø 洗净烘干时IPA纯度下降,(或其他烘干剂烘干效果不好)水份未及时蒸干;
L f"i
! Ø 洗剂与除油剂经过剩余其他洗槽没有去除彻底,表面残留较多;
QU%I43 Ø 镜片表面水分与残留雾在真空室内,经高温解析后形成H+/OH-,在镜片表面蒸发与凝结形成表面轻微腐蚀
B;R.# ^@/ ヤケ关联图
#O$ JoRT&rkd fMGbODAvY 通常处理思路:
%STliJ 一. 目前所有对策都是加快流程,杜绝人为造成镜片表面的污染(手指痕、口水痕、其他污物);降低表面洁净镜片暴露于大气中被腐蚀的时间;提高膜层致密度;
AZzuI* 1、 镀前ヤケ:
P&j(,7 Ø 检查方法:
NZP.0coY 2 反射光下“哈汽法”确认有无残留点状痕迹/水纹印;
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${$b{ 2 强光灯下确认有无脏污/白ヤケ;
#
altx=6' 2 日光灯反光确认镜片有无黑ヤケ;
|}{B1A 2、 镀膜色差
B=>RH!& Ø 对策/处理: 2 镀膜均匀度调整(镀膜专业人员)
z\0CE]#T 2.1.膜色ヤケ
Pt@%4 :&-h Ø 对策: 2 砂挂条件变更(钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等)à 确保砂挂完品表面粗糙度); 2 研磨条件变更(加工时间、研磨纸、研磨液(PH、浓度、颗粒度)、温度、压力条件等)à 确保研磨完品表面粗糙度); 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分,保持表面的洁净度(注意清洁方法与清洁辅料与更换周期); 2 镀前处理:使用手工表面返修(单轴机手工返修) Ø 试验/验证: 2 通过反射光下“哈汽法”,镀前检查确认表面光洁度; 2 使用透过光旋转检查研磨表面有无白雾、表面研磨刷子状痕迹; 2 通过镀前处理(手工返修)后镀制来验证研磨完品表面质量;
Eo\UAc 3、 膜层脏污:
4l!@=qwn A、膜上脏污:
XYS'.6k( Ø 对策/处理:
lc2 i`MC 2 膜系调整(如加镀SiO2,膜表面品质提升);
Ypeiy`. 2 镀后延长烘烤时间,与镀膜使用离子源辅助镀膜(表面致密度提升);
@%tRhG 2 镀后防尘措施(改善存放环境,降低泄大气前镜片温度,保持真空室内洁净度);
txZ?=8j_Y 2 防止镀膜后加工工序形成表面污染,如涂墨高温烘烤与粘合UV固化加重污染,造成表面脏污;
PqyA1 2 试验/验证:
6ZKsz5:= 2 擦拭变化,可擦拭与超声波清洗去除;
by'DQ 00 B、膜下脏污:
vKq^D(&cl Ø 对策/处理:---- 镀前处理
f;&]:2.j 2 洗净处理(确认洗剂浓度与PH值,提高超声波强度,延长洗净时间,特殊洗净工艺);
%V1Z~HC 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分,保持表面的洁净度(注意清洁方法与清洁辅料与更换周期); 2 研磨完品表面手指痕、口水痕、其他污染即时去除;
<V7>?U l 2 手工返修处理(研磨粉、CaCO3+干油等擦拭);
a 4=N9X Ø 试验/验证:
%r-V2) 2 镀前反射光下“哈汽法”确认,
%]gn?`O 2 镀后不可擦拭
H;U)b{ 4、 膜下ヤケ:
DUL4noq{ Ø 对策/处理:---- 镀前处理
#'-Sh7ycW 2 研磨条件变更(考虑材质对研磨液等调整)
ybeKiv9 2 考虑材质调整研磨工艺:
Q\GDrdA n 采取研磨后直接镀膜工艺:
N0K){ 芯取à研磨à手工擦拭、检查à镀膜;
_bzqd"
31I n 采取易ヤケ面后加工工艺(避免多片加工、采取单元一个流作业等);
V7Z4T6j4 n 缩短研磨后到镀膜的时间(检查前置、免洗净);
]J* ,g, n 研磨完品清擦(吸水棉布,擦拭后达可镀清洁度),二次清擦法,及时更换擦布;
6\u!E~zy n 已擦拭好研磨完品防潮、防湿(研磨后立即泡IPA,卤素灯烘干+PE袋+干燥剂等);
L4b:F0 n 先镀易ヤケ面
4-kZJ\] 2 洗净处理(考虑材质及镜片形状对洗净条件进行调整,如洗净液、镜片放置方向等)
(]RM6i7 2 手工处理(研磨粉、CaCO3+干油等擦拭)
DNR~_3Aq Ø 试验/验证:
ik"sq}u_]E 2 通过手工处理确认镀后品质
],ZzI 2 镀前强光灯下可见、哈气法检查
A%Xt|=^_ 5、 膜色ヤケ:
?E9D Xg Ø 对策/处理:
N7b1.]< 2 镀膜工艺改进(膜层致密度提高(蒸发速率、基底温度、离子源使用、实际真空度、镀膜膜料、真空室的洁净度));
28hHabd| 2 使用高能离子去除表面残留污染,例如:使用SHINCRON SID-1100镀膜;
!" JfOu 2 镀前、镀后烘烤时间加长 2 镀后完品防尘、防湿 Ø 试验/验证: 2 一般擦拭不变化(研磨粉、CaCO3擦拭变化,膜层破坏)
7R3fqU.Rq 2 放置变化(变重/消失)
nLwiCfe 6、 雾状:
ui"3ak+F Ø 对策/处理:
Fhv2V,nZ< 2 砂挂加工条件改善(钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等)
CvPioi à 确保砂挂完品表面粗糙度);
qC_mu)6 2 研磨条件变更(加工时间、研磨纸、研磨液、压力条件等)
l
akp à 确保研磨完品表面粗糙度);
v}sY|p" 2 研磨完后追加黑毛纸抛光;
\XF}?*8 2 洗净条件改善(洗剂、时间、温度等);
~XydQJ^* 2 镀膜第一层加AL2O3等,离子源电压(160V~120V)调整,与离子电流密度增加,离子源反应气体流量适当增加;
c{>uqPTY 2 膜层致密度提高;
)jCo%P/ Ø 试验/验证:
D?~8za`5 2 对不同粗糙度的砂挂完品试验,确认砂挂外观对研磨完品的影响程度
[k[u*5hP|F 2 通过手擦、洗净两种工艺后的品质确认洗净的影响程度
zf.-I 7、 黑ヤケ
hKNY+S})g Ø 反射光检查
T#
lP!c Ø 对策
FZ|CqD"# 2 镀膜时O2的增加
!j1[$% =# 2 研磨液残留及时去除,表面脏污及时清理
`k;KBW 8、 :细伤痕
5tv<8~:K Ø 同雾状
C{Asp 9、 水纹ヤケ
X 6lH|R Ø 更换烘干剂
'~ 4pl0TWc 以上