亚克是日语ヤケ的音译，是变色的意思，光学工厂把这个疵病认为是印子，疵病代号206。我找到了一篇文章，对此解释的比较全，推荐如下：
镜片常见不良及解决思路
P=l 7m*m ヤケ（腐蚀、发霉、压克）
v[V7$.%5Q 定义： 镜片表面被腐蚀。在对策时一定要区分是ヤケ还是脏污，才能找出真因。
[9G=x[ 前言： 光学玻璃的结构:以硅酸盐为主（SiO3 ）加上 Mg(镁) Ba（钡 ） K（钾） La （钄） Pb（ 铅）等几十种离子混合而成。而Mg(镁) Ba（钡 ） K（钾） La （钄） Pb（铅）等是活性金属离子，它们是用来调节镜片的折射率（nd）、色散系数(vd)的添加剂.按理论分析正常状态的玻璃的结构是具有均匀性、混合地分布各种离子、离子键及化学键。但在加工过程中受各种因素的影响而使镜片结构发生变化（形成硅酸溶胶）。
s"R5'W\U ヤケ定义： ヤケ即腐蚀、发霉，指镜片研磨完品或膜层上形成化学腐蚀层，从而从镜片表面看与正常状态有颜色差异。ヤケ大致可以分为膜上ヤケ和膜下ヤケ。下列为常见的几种现象：
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几种相关名词：
NS-0-o|4# 1镀前ヤケ（镜片表面本身污染/水分残留/溶剂残留，镀前已可见）
S0M i Ø 镜片在研磨过程中研磨液（研磨液通常PH值6.5~7.5但在加工过程会发生，由于硅酸盐、金属离子与研磨液发生化学反应，造成PH值变化）对镜片的腐蚀，镀前反射光可见灰暗不同现状的痕迹；
yh rjML2K Ø 镀前透过光检查为白色雾状；
ld3H"p rR Ø 研磨完品未及时进行清洗（或擦拭），研磨残留（研磨液或水）对镜片的腐蚀；
3)I]bui Ø 清洗后镜片暴露空气接触水分等太长，镜片受腐蚀；
F}=_"IkZ Ø 洗净烘干时水分残留；
M fnfp{.) Ø 擦拭时后的溶剂残留；。
gegM&X o 2、 镀膜色差：（非ヤケ，镀前不可见）
>Y(JC#M; Ø 因镜片放置在镀膜伞的不同位置，基底温度不均匀；造成镀膜伞上、中、下膜色差异； Ø 镀膜蒸发源偏离原有设定位置，造成在镀膜伞上中下蒸发膜厚不均匀；
u h`5:V Ø 镀膜使用离子源时，离子覆盖的范围没有调整合适，离子流密度不均匀造成；
.5);W;`X 3、 膜层脏污：（非ヤケ，镀前不可见）
70 Ph^e) Ø 膜下脏，指镀前未处理干净，镀膜后形成明显的膜色差异，透过光可见。
k(o(:-+x Ø 膜上脏，包括普通可擦拭的脏和难擦拭的脏污；镀膜真空室长期未清洁（洁净度差），膜层致密度低，灰尘、脏污粘付到膜层上时难以擦拭；镀膜后膜层污染，经高温环境后形成膜层脏污；
e=3C*+lq\ Ø 因镜片表面研磨表面Ra（粗糙度）大，镀膜前擦拭可感觉有涩感；镀膜后擦拭表面形成雾状，经超声波洗净后OK；
yzZzaYv "/ 4、 膜下ヤケ：
+ s^nT{B@\ Ø 白ヤケ：镀后在透过光下能见白色雾状层，为镀前产生；镜片表面残留物（研磨保护漆）在真空室经高温烘烤分解，在表面形成白雾层，可用溶剂擦拭去除；镀前不可见；
"!CVm{7[ Ø 镜片表面富含透明残留物经高温烘烤后，与镜片发生反应形成表面剧烈腐蚀；镀前不可见；
c-_1tSh} Ø 色ヤケ：研磨后不明显，镀膜放置后加重；镀前不可见
8 Vf #t!t Ø 色斑： 研磨涂保护漆前已研磨好表面残留的水痕、研磨液没有及时去除彻底，涂好保护漆经高温烘烤好在表面形成腐蚀痕；
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5、 膜色ヤケ：
;" Aj80 Ø 由于膜料特性及镀膜工艺不稳定造成膜层致密性差，镀后吸收水份与O2离子，擦拭无明显变化，烘烤或放置一段时间后会变严重或消失；
2qojU%fiH 可通过测试高温与低温时分光曲线的变化（差异小于20nm）显现
,:2Z6~z{ rT\~VJ>+i yEk|(6+^ Ø 膜层结晶时高温下受损（某一层膜厚太薄≤160A），膜料与基底发生反应，高温下再结晶时不均匀，形成局部分光特性变化；
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j Ø 研磨在表面形成不同的折射率区域；
h?v8b+:0 Ø 镀膜真空室内油污严重，存在大量各类杂质气体，加热后吸附在镜片表面，造成膜层结晶粗糙，膜层在大气中吸附各类气体水分，形成局部分光特性变化，可通过测试高温与低温时分光曲线的变化（差异小于20nm）显现；
oUO3,2bn Ø 已镀膜镜片在擦拭作业后表面残留的溶剂、水痕等没有去除干净，又放入高温环境下烘烤；
w}#3 pU<< 6、 雾状：（非ヤケ）
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4 Ø 表面粗糙、半透明，主要因为材质软、研磨量不足或洗净时被化学溶剂腐蚀；
EV-sEl8ki Ø 镜片长期被酸碱强烈腐蚀
D+BiclJ 7、 黑ヤケ
w]nt_xj Ø 镀膜膜料金属氧化物失O2造成（与O2反应不充分，特别是在使用离子源的时候），镜片置于白色背景可见底色；置于富氧环境中高温烘烤后，黑色斑点消失；
q%QvBN Ø 多片研磨使用粘贴胶，没有彻底去除，
y5F"JjQAa Ø 研磨液没有及时去除，镜片表面长期没有得到良好保护，点状腐蚀严重；
pL!,1D! 8、 细伤痕：（非ヤケ）
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) Ø 研磨完品表面细（浅）、长、密的伤痕，主要因为材质软、砂挂残留、研磨量不足、研磨纸（粉）选择与配比不恰当，超洗加重潜伤等；
!#~KSO}zW2 Ø 镜片表面研磨加工时由于研磨液（浓度、PH值、颗粒、温度）等影响，镜片表面在化学流布的作用下形成光滑表面，但超声波洗净后使潜在伤痕显现，同时伴有研磨液与洗剂的腐蚀；
(EvY rm4 9、 水纹印ヤケ
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U@ Ø 洗净烘干时IPA纯度下降，（或其他烘干剂烘干效果不好）水份未及时蒸干；
#Hz 9@H Ø 洗剂与除油剂经过剩余其他洗槽没有去除彻底，表面残留较多；
j Neb*dPoK Ø 镜片表面水分与残留雾在真空室内，经高温解析后形成H＋/OH-，在镜片表面蒸发与凝结形成表面轻微腐蚀
_>n)HG ヤケ关联图
A+GRTwj zyO=x 4U8 o.w/ ? 通常处理思路：
63J3NwFt 一. 目前所有对策都是加快流程，杜绝人为造成镜片表面的污染（手指痕、口水痕、其他污物）；降低表面洁净镜片暴露于大气中被腐蚀的时间；提高膜层致密度；
ITg:OOQ 1、 镀前ヤケ：
'wtb"0 } Ø 检查方法：
Pksr9"Ah 2 反射光下“哈汽法”确认有无残留点状痕迹/水纹印；
GyMN;| 2 强光灯下确认有无脏污/白ヤケ；
M$.bC0}T 2 日光灯反光确认镜片有无黑ヤケ；
](v,2(}= 2、 镀膜色差
lNf );!}SM Ø 对策/处理： 2 镀膜均匀度调整（镀膜专业人员）
:3XvHL0rx 2.1.膜色ヤケ
[s`B0V`04 Ø 对策: 2 砂挂条件变更（钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等）à 确保砂挂完品表面粗糙度）； 2 研磨条件变更（加工时间、研磨纸、研磨液（PH、浓度、颗粒度）、温度、压力条件等）à 确保研磨完品表面粗糙度）； 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分，保持表面的洁净度（注意清洁方法与清洁辅料与更换周期）； 2 镀前处理：使用手工表面返修（单轴机手工返修） Ø 试验/验证： 2 通过反射光下“哈汽法”，镀前检查确认表面光洁度； 2 使用透过光旋转检查研磨表面有无白雾、表面研磨刷子状痕迹； 2 通过镀前处理（手工返修）后镀制来验证研磨完品表面质量；
Pz [UA J 3、 膜层脏污：
EpKZ.lCU A、膜上脏污：
$y,KDR7^ Ø 对策/处理：
65JG#^)KaX 2 膜系调整（如加镀SiO2，膜表面品质提升）；
j,;f#+O`g 2 镀后延长烘烤时间，与镀膜使用离子源辅助镀膜（表面致密度提升）；
l)o!&]2 2 镀后防尘措施（改善存放环境，降低泄大气前镜片温度，保持真空室内洁净度）；
AZE%fOG<i 2 防止镀膜后加工工序形成表面污染，如涂墨高温烘烤与粘合UV固化加重污染，造成表面脏污；
maHz3: 2 试验/验证：
B~k{f} 2 擦拭变化，可擦拭与超声波清洗去除；
Mpyza%zj B、膜下脏污：
gK;dfrU.8Y Ø 对策/处理：---- 镀前处理
("PZ!z1m1 2 洗净处理（确认洗剂浓度与PH值，提高超声波强度，延长洗净时间，特殊洗净工艺）；
|bSAn*6b 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分，保持表面的洁净度（注意清洁方法与清洁辅料与更换周期）； 2 研磨完品表面手指痕、口水痕、其他污染即时去除；
.a :7|L#a 2 手工返修处理（研磨粉、CaCO3+干油等擦拭）；
rqiH!R Ø 试验/验证：
tmoCy0qWz 2 镀前反射光下“哈汽法”确认，
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2 镀后不可擦拭
f*rub. y 4、 膜下ヤケ：
[%R?^ *] Ø 对策/处理：---- 镀前处理
xzOvc<u 2 研磨条件变更（考虑材质对研磨液等调整）
Sz<:WY/(x 2 考虑材质调整研磨工艺：
#<B?+gzFM{ n 采取研磨后直接镀膜工艺：
\p( 0H6 芯取à研磨à手工擦拭、检查à镀膜；
-T1R}ew*t n 采取易ヤケ面后加工工艺（避免多片加工、采取单元一个流作业等）；
sk<S`J,M/_ n 缩短研磨后到镀膜的时间（检查前置、免洗净）；
"%+||IyW n 研磨完品清擦（吸水棉布，擦拭后达可镀清洁度），二次清擦法，及时更换擦布；
xzA!,75@U n 已擦拭好研磨完品防潮、防湿（研磨后立即泡IPA，卤素灯烘干+PE袋+干燥剂等）；
:Zkjtr.\ n 先镀易ヤケ面
t Dah@_ 2 洗净处理（考虑材质及镜片形状对洗净条件进行调整，如洗净液、镜片放置方向等）
!`7ev V: 2 手工处理（研磨粉、CaCO3+干油等擦拭）
m <z? 6VC Ø 试验/验证：
Qj1%'wWG 2 通过手工处理确认镀后品质
PPrv VGP
2 镀前强光灯下可见、哈气法检查
fKFD>u 0% 5、 膜色ヤケ：
Yc-5Mr8*, Ø 对策/处理：
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/;p 2 镀膜工艺改进（膜层致密度提高（蒸发速率、基底温度、离子源使用、实际真空度、镀膜膜料、真空室的洁净度））；
A{B $$ 7% 2 使用高能离子去除表面残留污染，例如：使用SHINCRON SID－1100镀膜；
W ^Fkjqpv 2 镀前、镀后烘烤时间加长 2 镀后完品防尘、防湿 Ø 试验/验证： 2 一般擦拭不变化（研磨粉、CaCO3擦拭变化，膜层破坏）
J Q*~le* 2 放置变化（变重/消失）
MIl\Bn 6、 雾状：
roAHkI Ø 对策/处理：
g8&& W_BI 2 砂挂加工条件改善（钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等）
|x1Ttr, à 确保砂挂完品表面粗糙度）；
B/K=\qmm 2 研磨条件变更（加工时间、研磨纸、研磨液、压力条件等）
tC$+;_=+F à 确保研磨完品表面粗糙度）；
s/~pr.>-l 2 研磨完后追加黑毛纸抛光；
<3tf(?*,k] 2 洗净条件改善（洗剂、时间、温度等）；
/Us+>vg! 2 镀膜第一层加AL2O3等,离子源电压（160V～120V）调整，与离子电流密度增加，离子源反应气体流量适当增加；
:.l\lj0Yf 2 膜层致密度提高；
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I4s Ø 试验/验证：
yB *aG 2 对不同粗糙度的砂挂完品试验，确认砂挂外观对研磨完品的影响程度
pX3E l$p 2 通过手擦、洗净两种工艺后的品质确认洗净的影响程度
,K6ODtw. 7、 黑ヤケ
Zn. S65J*u Ø 反射光检查
NcwUK \ Ø 对策
s2QgR37s> 2 镀膜时O2的增加
pp*MHM)x|q 2 研磨液残留及时去除，表面脏污及时清理
Yz0HB EA 8、 ：细伤痕
o](O RS$~ Ø 同雾状
:4X,5X7tW= 9、 水纹ヤケ
JUDZ_cGr Ø 更换烘干剂
X 2| Z! 以上
