亚克是日语ヤケ的音译，是变色的意思，光学工厂把这个疵病认为是印子，疵病代号206。我找到了一篇文章，对此解释的比较全，推荐如下：
镜片常见不良及解决思路
& v((tZ ヤケ（腐蚀、发霉、压克）
rb drs 定义： 镜片表面被腐蚀。在对策时一定要区分是ヤケ还是脏污，才能找出真因。
-~8PI2 前言： 光学玻璃的结构:以硅酸盐为主（SiO3 ）加上 Mg(镁) Ba（钡 ） K（钾） La （钄） Pb（ 铅）等几十种离子混合而成。而Mg(镁) Ba（钡 ） K（钾） La （钄） Pb（铅）等是活性金属离子，它们是用来调节镜片的折射率（nd）、色散系数(vd)的添加剂.按理论分析正常状态的玻璃的结构是具有均匀性、混合地分布各种离子、离子键及化学键。但在加工过程中受各种因素的影响而使镜片结构发生变化（形成硅酸溶胶）。
1T|")D ヤケ定义： ヤケ即腐蚀、发霉，指镜片研磨完品或膜层上形成化学腐蚀层，从而从镜片表面看与正常状态有颜色差异。ヤケ大致可以分为膜上ヤケ和膜下ヤケ。下列为常见的几种现象：
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RN)XIf$@_
Nkj$6(N=zJ 几种相关名词：
KO8{eT9d 1镀前ヤケ（镜片表面本身污染/水分残留/溶剂残留，镀前已可见）
MF'Z?M Ø 镜片在研磨过程中研磨液（研磨液通常PH值6.5~7.5但在加工过程会发生，由于硅酸盐、金属离子与研磨液发生化学反应，造成PH值变化）对镜片的腐蚀，镀前反射光可见灰暗不同现状的痕迹；
E3j`e>Yz Ø 镀前透过光检查为白色雾状；
:$K=LV#Iru Ø 研磨完品未及时进行清洗（或擦拭），研磨残留（研磨液或水）对镜片的腐蚀；
3>7{Q_5 Ø 清洗后镜片暴露空气接触水分等太长，镜片受腐蚀；
2 c[ H A Ø 洗净烘干时水分残留；
)-5e Iy Ø 擦拭时后的溶剂残留；。
_J,rql@nG< 2、 镀膜色差：（非ヤケ，镀前不可见）
d'MZ%.# Ø 因镜片放置在镀膜伞的不同位置，基底温度不均匀；造成镀膜伞上、中、下膜色差异； Ø 镀膜蒸发源偏离原有设定位置，造成在镀膜伞上中下蒸发膜厚不均匀；
yW'{Z]09 Ø 镀膜使用离子源时，离子覆盖的范围没有调整合适，离子流密度不均匀造成；
2_ u+&7 3、 膜层脏污：（非ヤケ，镀前不可见）
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P Ø 膜下脏，指镀前未处理干净，镀膜后形成明显的膜色差异，透过光可见。
CtN\-E- Ø 膜上脏，包括普通可擦拭的脏和难擦拭的脏污；镀膜真空室长期未清洁（洁净度差），膜层致密度低，灰尘、脏污粘付到膜层上时难以擦拭；镀膜后膜层污染，经高温环境后形成膜层脏污；
KPz0;2} Ø 因镜片表面研磨表面Ra（粗糙度）大，镀膜前擦拭可感觉有涩感；镀膜后擦拭表面形成雾状，经超声波洗净后OK；
#$S~QS.g 4、 膜下ヤケ：
a+lNXlh= Ø 白ヤケ：镀后在透过光下能见白色雾状层，为镀前产生；镜片表面残留物（研磨保护漆）在真空室经高温烘烤分解，在表面形成白雾层，可用溶剂擦拭去除；镀前不可见；
JjI1^FRd Ø 镜片表面富含透明残留物经高温烘烤后，与镜片发生反应形成表面剧烈腐蚀；镀前不可见；
Q3hf =&$ Ø 色ヤケ：研磨后不明显，镀膜放置后加重；镀前不可见
};rp2 5i Ø 色斑： 研磨涂保护漆前已研磨好表面残留的水痕、研磨液没有及时去除彻底，涂好保护漆经高温烘烤好在表面形成腐蚀痕；
ui)mYR[8X 5、 膜色ヤケ：
&_ : 9.I 1 Ø 由于膜料特性及镀膜工艺不稳定造成膜层致密性差，镀后吸收水份与O2离子，擦拭无明显变化，烘烤或放置一段时间后会变严重或消失；
YFu,<8"swe 可通过测试高温与低温时分光曲线的变化（差异小于20nm）显现
[n/ c7Pe p%*s3E1.D 7P3/Ky@6 Ø 膜层结晶时高温下受损（某一层膜厚太薄≤160A），膜料与基底发生反应，高温下再结晶时不均匀，形成局部分光特性变化；
g`'!Vgd?M[ Ø 研磨在表面形成不同的折射率区域；
/_J{JGp9 Ø 镀膜真空室内油污严重，存在大量各类杂质气体，加热后吸附在镜片表面，造成膜层结晶粗糙，膜层在大气中吸附各类气体水分，形成局部分光特性变化，可通过测试高温与低温时分光曲线的变化（差异小于20nm）显现；
Co nik` Ø 已镀膜镜片在擦拭作业后表面残留的溶剂、水痕等没有去除干净，又放入高温环境下烘烤；
zdPJ>PNU 6、 雾状：（非ヤケ）
x#S E%j? Ø 表面粗糙、半透明，主要因为材质软、研磨量不足或洗净时被化学溶剂腐蚀；
&@@PJ!& Ø 镜片长期被酸碱强烈腐蚀
z@e(y@ 7、 黑ヤケ
C1_0 9Vc Ø 镀膜膜料金属氧化物失O2造成（与O2反应不充分，特别是在使用离子源的时候），镜片置于白色背景可见底色；置于富氧环境中高温烘烤后，黑色斑点消失；
C=oeRc'r1W Ø 多片研磨使用粘贴胶，没有彻底去除，
l:@=9Fp> Ø 研磨液没有及时去除，镜片表面长期没有得到良好保护，点状腐蚀严重；
WxYEu +_ 8、 细伤痕：（非ヤケ）
ef7 U7 Ø 研磨完品表面细（浅）、长、密的伤痕，主要因为材质软、砂挂残留、研磨量不足、研磨纸（粉）选择与配比不恰当，超洗加重潜伤等；
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Ø 镜片表面研磨加工时由于研磨液（浓度、PH值、颗粒、温度）等影响，镜片表面在化学流布的作用下形成光滑表面，但超声波洗净后使潜在伤痕显现，同时伴有研磨液与洗剂的腐蚀；
'L3MHTM>[ 9、 水纹印ヤケ
N}n E9z5 Ø 洗净烘干时IPA纯度下降，（或其他烘干剂烘干效果不好）水份未及时蒸干；
DRRQ] eK0 Ø 洗剂与除油剂经过剩余其他洗槽没有去除彻底，表面残留较多；
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d j"C Ø 镜片表面水分与残留雾在真空室内，经高温解析后形成H＋/OH-，在镜片表面蒸发与凝结形成表面轻微腐蚀
H0OO +MCe ヤケ关联图
)b]!IP3 [[T6X9 h C"'cUrcN 通常处理思路：
iTdamu`L 一. 目前所有对策都是加快流程，杜绝人为造成镜片表面的污染（手指痕、口水痕、其他污物）；降低表面洁净镜片暴露于大气中被腐蚀的时间；提高膜层致密度；
'vt Jl 1、 镀前ヤケ：
7=yM 40 Ø 检查方法：
;|XX ^ 2 反射光下“哈汽法”确认有无残留点状痕迹/水纹印；
>G!=lLy R 2 强光灯下确认有无脏污/白ヤケ；
+ @fEw 2 日光灯反光确认镜片有无黑ヤケ；
xPm{'J+b~ 2、 镀膜色差
O 95gdxc Ø 对策/处理： 2 镀膜均匀度调整（镀膜专业人员）
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O{^ 2.1.膜色ヤケ
bnL!PsG$K, Ø 对策: 2 砂挂条件变更（钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等）à 确保砂挂完品表面粗糙度）； 2 研磨条件变更（加工时间、研磨纸、研磨液（PH、浓度、颗粒度）、温度、压力条件等）à 确保研磨完品表面粗糙度）； 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分，保持表面的洁净度（注意清洁方法与清洁辅料与更换周期）； 2 镀前处理：使用手工表面返修（单轴机手工返修） Ø 试验/验证： 2 通过反射光下“哈汽法”，镀前检查确认表面光洁度； 2 使用透过光旋转检查研磨表面有无白雾、表面研磨刷子状痕迹； 2 通过镀前处理（手工返修）后镀制来验证研磨完品表面质量；
/8]K}yvR 3、 膜层脏污：
Q}\\0ajS) A、膜上脏污：
Q;>Yk_(S Ø 对策/处理：
4KxuSI^q 2 膜系调整（如加镀SiO2，膜表面品质提升）；
y,rdyt 2 镀后延长烘烤时间，与镀膜使用离子源辅助镀膜（表面致密度提升）；
1(T2:N(M-A 2 镀后防尘措施（改善存放环境，降低泄大气前镜片温度，保持真空室内洁净度）；
Z >R@ 2 防止镀膜后加工工序形成表面污染，如涂墨高温烘烤与粘合UV固化加重污染，造成表面脏污；
( 5Q< xJ 2 试验/验证：
Yg5o!A 2 擦拭变化，可擦拭与超声波清洗去除；
9 9: .j= B、膜下脏污：
V!. Y M)B Ø 对策/处理：---- 镀前处理
*"_W1}^ 2 洗净处理（确认洗剂浓度与PH值，提高超声波强度，延长洗净时间，特殊洗净工艺）；
KAE %Wwjr 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分，保持表面的洁净度（注意清洁方法与清洁辅料与更换周期）； 2 研磨完品表面手指痕、口水痕、其他污染即时去除；
.,'4&} N} 2 手工返修处理（研磨粉、CaCO3+干油等擦拭）；
sd+_NtH Ø 试验/验证：
B+Qo {- 2 镀前反射光下“哈汽法”确认，
H~#$AD+H 2 镀后不可擦拭
QPp31o.!5 4、 膜下ヤケ：
C[Q4OAFG Ø 对策/处理：---- 镀前处理
%$b}o7U"s 2 研磨条件变更（考虑材质对研磨液等调整）
&?p( UY7'" 2 考虑材质调整研磨工艺：
,ko#z}Z4r, n 采取研磨后直接镀膜工艺：
Sru0j/|H\ 芯取à研磨à手工擦拭、检查à镀膜；
I8@leT\9M n 采取易ヤケ面后加工工艺（避免多片加工、采取单元一个流作业等）；
;{wzw8! n 缩短研磨后到镀膜的时间（检查前置、免洗净）；
( -q0!]E n 研磨完品清擦（吸水棉布，擦拭后达可镀清洁度），二次清擦法，及时更换擦布；
&.2% p n 已擦拭好研磨完品防潮、防湿（研磨后立即泡IPA，卤素灯烘干+PE袋+干燥剂等）；
1+3-Z>^ e n 先镀易ヤケ面
6||% T$_;} 2 洗净处理（考虑材质及镜片形状对洗净条件进行调整，如洗净液、镜片放置方向等）
%LHt {:9. 2 手工处理（研磨粉、CaCO3+干油等擦拭）
kc$ W"J@ Ø 试验/验证：
x{!+ 4W;S 2 通过手工处理确认镀后品质
C a ED(0 2 镀前强光灯下可见、哈气法检查
.#tA .%
5、 膜色ヤケ：
K ~-V([tWg Ø 对策/处理：
9i_@3OVl 2 镀膜工艺改进（膜层致密度提高（蒸发速率、基底温度、离子源使用、实际真空度、镀膜膜料、真空室的洁净度））；
>\'}&oi 2 使用高能离子去除表面残留污染，例如：使用SHINCRON SID－1100镀膜；
u&= {hJ&7 2 镀前、镀后烘烤时间加长 2 镀后完品防尘、防湿 Ø 试验/验证： 2 一般擦拭不变化（研磨粉、CaCO3擦拭变化，膜层破坏）
L f a&JKd 2 放置变化（变重/消失）
tr0kTW$Ad 6、 雾状：
9+ve0P7$ Ø 对策/处理：
[-W~ o.` 2 砂挂加工条件改善（钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等）
J<"Z6 '0v à 确保砂挂完品表面粗糙度）；
e$ QMR.' 2 研磨条件变更（加工时间、研磨纸、研磨液、压力条件等）
@HI@ PZ> à 确保研磨完品表面粗糙度）；
~3Qa-s;g 2 研磨完后追加黑毛纸抛光；
G] xN #O; 2 洗净条件改善（洗剂、时间、温度等）；
K0'p*[yO/j 2 镀膜第一层加AL2O3等,离子源电压（160V～120V）调整，与离子电流密度增加，离子源反应气体流量适当增加；
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2 膜层致密度提高；
]3]B$ Ø 试验/验证：
&l`_D?{<# 2 对不同粗糙度的砂挂完品试验，确认砂挂外观对研磨完品的影响程度
)9/iH( 2 通过手擦、洗净两种工艺后的品质确认洗净的影响程度
5 xUZeLj 7、 黑ヤケ
lxD~l#)^ln Ø 反射光检查
M`=\ijUwN Ø 对策
$b^ niL 2 镀膜时O2的增加
YGyw^$.w 2 研磨液残留及时去除，表面脏污及时清理
LoJEchRK 8、 ：细伤痕
t ycVcr \( Ø 同雾状
6 AY~ >p 9、 水纹ヤケ
pXQ$n:e Ø 更换烘干剂
lt5Knz2G,Z 以上
