亚克是日语ヤケ的音译,是变色的意思,光学工厂把这个疵病认为是印子,疵病代号206。我找到了一篇文章,对此解释的比较全,推荐如下:
镜片常见不良及解决思路
?@ oF@AEx= ヤケ(腐蚀、发霉、压克)
aJ+V]WmA 定义: 镜片表面被腐蚀。在对策时一定要区分是ヤケ还是脏污,才能找出真因。
J~2SGXH)^? 前言: 光学玻璃的结构:以硅酸盐为主(SiO3 )加上 Mg(镁) Ba(钡 ) K(钾) La (钄) Pb( 铅)等几十种离子混合而成。而Mg(镁) Ba(钡 ) K(钾) La (钄) Pb(铅)等是活性金属离子,它们是用来调节镜片的折射率(nd)、色散系数(vd)的添加剂.按理论分析正常状态的玻璃的结构是具有均匀性、混合地分布各种离子、离子键及化学键。但在加工过程中受各种因素的影响而使镜片结构发生变化(形成硅酸溶胶)。
'0HOL)cIz ヤケ定义: ヤケ即腐蚀、发霉,指镜片研磨完品或膜层上形成化学腐蚀层,从而从镜片表面看与正常状态有颜色差异。ヤケ大致可以分为膜上ヤケ和膜下ヤケ。下列为常见的几种现象:
j$)ogGu B]X8KzLu NIs 7v
"W7|Xp
TPN+jK 几种相关名词:
cyCh^- <l@ 1镀前ヤケ(镜片表面本身污染/水分残留/溶剂残留,镀前已可见)
} k2Q Ø 镜片在研磨过程中研磨液(研磨液通常PH值6.5~7.5但在加工过程会发生,由于硅酸盐、金属离子与研磨液发生化学反应,造成PH值变化)对镜片的腐蚀,镀前反射光可见灰暗不同现状的痕迹;
izl6L Ø 镀前透过光检查为白色雾状;
\l59/ZFan Ø 研磨完品未及时进行清洗(或擦拭),研磨残留(研磨液或水)对镜片的腐蚀;
-uYxc=4Lh Ø 清洗后镜片暴露空气接触水分等太长,镜片受腐蚀;
1{a%V$S[ Ø 洗净烘干时水分残留;
|[.-pA^ Ø 擦拭时后的溶剂残留;。
g+#awi7 2、 镀膜色差:(非ヤケ,镀前不可见)
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P Ø 因镜片放置在镀膜伞的不同位置,基底温度不均匀;造成镀膜伞上、中、下膜色差异; Ø 镀膜蒸发源偏离原有设定位置,造成在镀膜伞上中下蒸发膜厚不均匀;
#LasTN9 Ø 镀膜使用离子源时,离子覆盖的范围没有调整合适,离子流密度不均匀造成;
bT,_=7F 3、 膜层脏污:(非ヤケ,镀前不可见)
@su<h\) Ø 膜下脏,指镀前未处理干净,镀膜后形成明显的膜色差异,透过光可见。
v #+ECx Ø 膜上脏,包括普通可擦拭的脏和难擦拭的脏污;镀膜真空室长期未清洁(洁净度差),膜层致密度低,灰尘、脏污粘付到膜层上时难以擦拭;镀膜后膜层污染,经高温环境后形成膜层脏污;
QHNyH Ø 因镜片表面研磨表面Ra(粗糙度)大,镀膜前擦拭可感觉有涩感;镀膜后擦拭表面形成雾状,经超声波洗净后OK;
}Fjbj5w0 4、 膜下ヤケ:
"`% ,l|D Ø 白ヤケ:镀后在透过光下能见白色雾状层,为镀前产生;镜片表面残留物(研磨保护漆)在真空室经高温烘烤分解,在表面形成白雾层,可用溶剂擦拭去除;镀前不可见;
%B$ftsYXmu Ø 镜片表面富含透明残留物经高温烘烤后,与镜片发生反应形成表面剧烈腐蚀;镀前不可见;
Ev7.! Ø 色ヤケ:研磨后不明显,镀膜放置后加重;镀前不可见
;u<Ah?w=Z Ø 色斑: 研磨涂保护漆前已研磨好表面残留的水痕、研磨液没有及时去除彻底,涂好保护漆经高温烘烤好在表面形成腐蚀痕;
^QS`H@+Z 5、 膜色ヤケ:
]X6<yzu&+l Ø 由于膜料特性及镀膜工艺不稳定造成膜层致密性差,镀后吸收水份与O2离子,擦拭无明显变化,烘烤或放置一段时间后会变严重或消失;
:{%[6lE^G 可通过测试高温与低温时分光曲线的变化(差异小于20nm)显现
]E/0iM5 ;iKLf~a a aw*]b.f Ø 膜层结晶时高温下受损(某一层膜厚太薄≤160A),膜料与基底发生反应,高温下再结晶时不均匀,形成局部分光特性变化;
k'o[iKlu Ø 研磨在表面形成不同的折射率区域;
PeJ#9hI~rQ Ø 镀膜真空室内油污严重,存在大量各类杂质气体,加热后吸附在镜片表面,造成膜层结晶粗糙,膜层在大气中吸附各类气体水分,形成局部分光特性变化,可通过测试高温与低温时分光曲线的变化(差异小于20nm)显现;
#gC[L=01 Ø 已镀膜镜片在擦拭作业后表面残留的溶剂、水痕等没有去除干净,又放入高温环境下烘烤;
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p?XV<3Z 6、 雾状:(非ヤケ)
!6(3Y Ø 表面粗糙、半透明,主要因为材质软、研磨量不足或洗净时被化学溶剂腐蚀;
hY&Yp^"}]^ Ø 镜片长期被酸碱强烈腐蚀
r!Eh}0bL 7、 黑ヤケ
"9caoPI0~ Ø 镀膜膜料金属氧化物失O2造成(与O2反应不充分,特别是在使用离子源的时候),镜片置于白色背景可见底色;置于富氧环境中高温烘烤后,黑色斑点消失;
]RT Ø 多片研磨使用粘贴胶,没有彻底去除,
JWb + Ø 研磨液没有及时去除,镜片表面长期没有得到良好保护,点状腐蚀严重;
GAj%o]}u 8、 细伤痕:(非ヤケ)
P73GH Ø 研磨完品表面细(浅)、长、密的伤痕,主要因为材质软、砂挂残留、研磨量不足、研磨纸(粉)选择与配比不恰当,超洗加重潜伤等;
z=>fBb>w7 Ø 镜片表面研磨加工时由于研磨液(浓度、PH值、颗粒、温度)等影响,镜片表面在化学流布的作用下形成光滑表面,但超声波洗净后使潜在伤痕显现,同时伴有研磨液与洗剂的腐蚀;
91]|4k93 9、 水纹印ヤケ
16L YVvmW Ø 洗净烘干时IPA纯度下降,(或其他烘干剂烘干效果不好)水份未及时蒸干;
D{+@ ,C7B Ø 洗剂与除油剂经过剩余其他洗槽没有去除彻底,表面残留较多;
1/97_:M0~F Ø 镜片表面水分与残留雾在真空室内,经高温解析后形成H+/OH-,在镜片表面蒸发与凝结形成表面轻微腐蚀
Yz/Blh%V ヤケ关联图
'ZF6 Z9 Tw-NIT) PBn7{( x 通常处理思路:
,j_js8r 一. 目前所有对策都是加快流程,杜绝人为造成镜片表面的污染(手指痕、口水痕、其他污物);降低表面洁净镜片暴露于大气中被腐蚀的时间;提高膜层致密度;
GQbr}xX.# 1、 镀前ヤケ:
F!X0Wo= Ø 检查方法:
j}u L 2 反射光下“哈汽法”确认有无残留点状痕迹/水纹印;
@vl$[Z| 2 强光灯下确认有无脏污/白ヤケ;
AX v
q~XE 2 日光灯反光确认镜片有无黑ヤケ;
jYVs\h6 2、 镀膜色差
M@.l#
[@U Ø 对策/处理: 2 镀膜均匀度调整(镀膜专业人员)
_.JQ h 2.1.膜色ヤケ
3'z$@;Ev+ Ø 对策: 2 砂挂条件变更(钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等)à 确保砂挂完品表面粗糙度); 2 研磨条件变更(加工时间、研磨纸、研磨液(PH、浓度、颗粒度)、温度、压力条件等)à 确保研磨完品表面粗糙度); 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分,保持表面的洁净度(注意清洁方法与清洁辅料与更换周期); 2 镀前处理:使用手工表面返修(单轴机手工返修) Ø 试验/验证: 2 通过反射光下“哈汽法”,镀前检查确认表面光洁度; 2 使用透过光旋转检查研磨表面有无白雾、表面研磨刷子状痕迹; 2 通过镀前处理(手工返修)后镀制来验证研磨完品表面质量;
MqZ"Js 3、 膜层脏污:
~0p8joOH A、膜上脏污:
vqeH<$WHvy Ø 对策/处理:
!,`'VQw$ 2 膜系调整(如加镀SiO2,膜表面品质提升);
hju^x8
,=m 2 镀后延长烘烤时间,与镀膜使用离子源辅助镀膜(表面致密度提升);
U"r*kO% 2 镀后防尘措施(改善存放环境,降低泄大气前镜片温度,保持真空室内洁净度);
u !BU^@ P 2 防止镀膜后加工工序形成表面污染,如涂墨高温烘烤与粘合UV固化加重污染,造成表面脏污;
Y+"1'W 2 试验/验证:
G=cRdiy`C 2 擦拭变化,可擦拭与超声波清洗去除;
x {NBhq(4 B、膜下脏污:
.)
Ej#mk Ø 对策/处理:---- 镀前处理
$4{sPHi)I 2 洗净处理(确认洗剂浓度与PH值,提高超声波强度,延长洗净时间,特殊洗净工艺);
1K9.3n 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分,保持表面的洁净度(注意清洁方法与清洁辅料与更换周期); 2 研磨完品表面手指痕、口水痕、其他污染即时去除;
Cu+p!hV 2 手工返修处理(研磨粉、CaCO3+干油等擦拭);
Ge2Klyi Ø 试验/验证:
;KQU%
k$ 2 镀前反射光下“哈汽法”确认,
<W0(!<U 2 镀后不可擦拭
{bXN[=j 4、 膜下ヤケ:
l!,tssQ Ø 对策/处理:---- 镀前处理
M+&~sX*a 2 研磨条件变更(考虑材质对研磨液等调整)
a[K&;) 2 考虑材质调整研磨工艺:
ql@2<V{ n 采取研磨后直接镀膜工艺:
LLgw1 @-D 芯取à研磨à手工擦拭、检查à镀膜;
g4^-B n 采取易ヤケ面后加工工艺(避免多片加工、采取单元一个流作业等);
@}q, ';H7 n 缩短研磨后到镀膜的时间(检查前置、免洗净);
gkmof^ n 研磨完品清擦(吸水棉布,擦拭后达可镀清洁度),二次清擦法,及时更换擦布;
QP'sS*saJ n 已擦拭好研磨完品防潮、防湿(研磨后立即泡IPA,卤素灯烘干+PE袋+干燥剂等);
A$wC!P|; n 先镀易ヤケ面
9?\cm}^? 2 洗净处理(考虑材质及镜片形状对洗净条件进行调整,如洗净液、镜片放置方向等)
k1z`92" 2 手工处理(研磨粉、CaCO3+干油等擦拭)
.JKH=?~\ Ø 试验/验证:
+'m9b7+v 2 通过手工处理确认镀后品质
M]o]D;N~l 2 镀前强光灯下可见、哈气法检查
HAH\#WE 5、 膜色ヤケ:
vGi<" Sn7 Ø 对策/处理:
PY.HZ/#d 2 镀膜工艺改进(膜层致密度提高(蒸发速率、基底温度、离子源使用、实际真空度、镀膜膜料、真空室的洁净度));
M5VW1Ns 2 使用高能离子去除表面残留污染,例如:使用SHINCRON SID-1100镀膜;
Hdyl]q-(P 2 镀前、镀后烘烤时间加长 2 镀后完品防尘、防湿 Ø 试验/验证: 2 一般擦拭不变化(研磨粉、CaCO3擦拭变化,膜层破坏)
$ #!oejLD 2 放置变化(变重/消失)
5J`w8[; 6、 雾状:
aA?Qr&]M Ø 对策/处理:
,[
2N3iH 2 砂挂加工条件改善(钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等)
W"%n5) à 确保砂挂完品表面粗糙度);
3rRIrrYO 2 研磨条件变更(加工时间、研磨纸、研磨液、压力条件等)
}C @xl9S " à 确保研磨完品表面粗糙度);
jga;q 2 研磨完后追加黑毛纸抛光;
uYeb RCdR 2 洗净条件改善(洗剂、时间、温度等);
4(htdn6 \ 2 镀膜第一层加AL2O3等,离子源电压(160V~120V)调整,与离子电流密度增加,离子源反应气体流量适当增加;
)Cdw_Yx 2 膜层致密度提高;
pBAAwHD Ø 试验/验证:
4Y?fbb< 2 对不同粗糙度的砂挂完品试验,确认砂挂外观对研磨完品的影响程度
Ihf>FMl: 2 通过手擦、洗净两种工艺后的品质确认洗净的影响程度
J0Yb_(w 7、 黑ヤケ
<7y/)b@ Ø 反射光检查
%sc w]oF Ø 对策
{U-z(0 2 镀膜时O2的增加
w#1BHx 2 研磨液残留及时去除,表面脏污及时清理
2Ug_3ZuU 8、 :细伤痕
NzZ(Nz5 Ø 同雾状
,xU#uyB 9、 水纹ヤケ
`n6cpX5 Ø 更换烘干剂
{ 5 r]G 以上