亚克是日语ヤケ的音译,是变色的意思,光学工厂把这个疵病认为是印子,疵病代号206。我找到了一篇文章,对此解释的比较全,推荐如下:
镜片常见不良及解决思路
2}D,df'W4 ヤケ(腐蚀、发霉、压克)
D*|(
p6v1& 定义: 镜片表面被腐蚀。在对策时一定要区分是ヤケ还是脏污,才能找出真因。
G=vN;e_$_b 前言: 光学玻璃的结构:以硅酸盐为主(SiO3 )加上 Mg(镁) Ba(钡 ) K(钾) La (钄) Pb( 铅)等几十种离子混合而成。而Mg(镁) Ba(钡 ) K(钾) La (钄) Pb(铅)等是活性金属离子,它们是用来调节镜片的折射率(nd)、色散系数(vd)的添加剂.按理论分析正常状态的玻璃的结构是具有均匀性、混合地分布各种离子、离子键及化学键。但在加工过程中受各种因素的影响而使镜片结构发生变化(形成硅酸溶胶)。
g+:$X- r ヤケ定义: ヤケ即腐蚀、发霉,指镜片研磨完品或膜层上形成化学腐蚀层,从而从镜片表面看与正常状态有颜色差异。ヤケ大致可以分为膜上ヤケ和膜下ヤケ。下列为常见的几种现象:
J09*v)L 6(:)otz
|__d 8a ERk kSTp 
<inl{CX/ 几种相关名词:
!&Z*yH 1镀前ヤケ(镜片表面本身污染/水分残留/溶剂残留,镀前已可见)
:RPVT,O} Ø 镜片在研磨过程中研磨液(研磨液通常PH值6.5~7.5但在加工过程会发生,由于硅酸盐、金属离子与研磨液发生化学反应,造成PH值变化)对镜片的腐蚀,镀前反射光可见灰暗不同现状的痕迹;
[.M Ø 镀前透过光检查为白色雾状;
B<A:_'g Ø 研磨完品未及时进行清洗(或擦拭),研磨残留(研磨液或水)对镜片的腐蚀;
7^HpVcSM Ø 清洗后镜片暴露空气接触水分等太长,镜片受腐蚀;
x]H3Y3
Ø 洗净烘干时水分残留;
yxqTm%?y Ø 擦拭时后的溶剂残留;。
QT_Srw@ 2、 镀膜色差:(非ヤケ,镀前不可见)
Xe)Pg)J1 Ø 因镜片放置在镀膜伞的不同位置,基底温度不均匀;造成镀膜伞上、中、下膜色差异; Ø 镀膜蒸发源偏离原有设定位置,造成在镀膜伞上中下蒸发膜厚不均匀;
pH^ z Ø 镀膜使用离子源时,离子覆盖的范围没有调整合适,离子流密度不均匀造成;
{>S4#^@} 3、 膜层脏污:(非ヤケ,镀前不可见)
VIetcs Ø 膜下脏,指镀前未处理干净,镀膜后形成明显的膜色差异,透过光可见。
y*_K=}pk Ø 膜上脏,包括普通可擦拭的脏和难擦拭的脏污;镀膜真空室长期未清洁(洁净度差),膜层致密度低,灰尘、脏污粘付到膜层上时难以擦拭;镀膜后膜层污染,经高温环境后形成膜层脏污;
'=$TyiU Ø 因镜片表面研磨表面Ra(粗糙度)大,镀膜前擦拭可感觉有涩感;镀膜后擦拭表面形成雾状,经超声波洗净后OK;
m^z,,t9 4、 膜下ヤケ:
l+oDq'[q" Ø 白ヤケ:镀后在透过光下能见白色雾状层,为镀前产生;镜片表面残留物(研磨保护漆)在真空室经高温烘烤分解,在表面形成白雾层,可用溶剂擦拭去除;镀前不可见;
e!6eZ)l Ø 镜片表面富含透明残留物经高温烘烤后,与镜片发生反应形成表面剧烈腐蚀;镀前不可见;
Ec+22X Ø 色ヤケ:研磨后不明显,镀膜放置后加重;镀前不可见
r8sdzz% Ø 色斑: 研磨涂保护漆前已研磨好表面残留的水痕、研磨液没有及时去除彻底,涂好保护漆经高温烘烤好在表面形成腐蚀痕;
$\+"qs) 5、 膜色ヤケ:
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O]\ Ø 由于膜料特性及镀膜工艺不稳定造成膜层致密性差,镀后吸收水份与O2离子,擦拭无明显变化,烘烤或放置一段时间后会变严重或消失;
D^N[=q99&e 可通过测试高温与低温时分光曲线的变化(差异小于20nm)显现
bH_I7G&m ,dOMW+{ }&mj.hGv Ø 膜层结晶时高温下受损(某一层膜厚太薄≤160A),膜料与基底发生反应,高温下再结晶时不均匀,形成局部分光特性变化;
vnDmFqelz Ø 研磨在表面形成不同的折射率区域;
%z=`JhE"Q Ø 镀膜真空室内油污严重,存在大量各类杂质气体,加热后吸附在镜片表面,造成膜层结晶粗糙,膜层在大气中吸附各类气体水分,形成局部分光特性变化,可通过测试高温与低温时分光曲线的变化(差异小于20nm)显现;
b"^\)|*4; Ø 已镀膜镜片在擦拭作业后表面残留的溶剂、水痕等没有去除干净,又放入高温环境下烘烤;
&ryiG 6、 雾状:(非ヤケ)
{JTmP `&l Ø 表面粗糙、半透明,主要因为材质软、研磨量不足或洗净时被化学溶剂腐蚀;
Ohc^d"[7 Ø 镜片长期被酸碱强烈腐蚀
#iiwD| 7、 黑ヤケ
8*vFdoE_oO Ø 镀膜膜料金属氧化物失O2造成(与O2反应不充分,特别是在使用离子源的时候),镜片置于白色背景可见底色;置于富氧环境中高温烘烤后,黑色斑点消失;
O
/vWd" Ø 多片研磨使用粘贴胶,没有彻底去除,
#T[%6(QW Ø 研磨液没有及时去除,镜片表面长期没有得到良好保护,点状腐蚀严重;
)TM!ms+K 8、 细伤痕:(非ヤケ)
D_Guc8* Ø 研磨完品表面细(浅)、长、密的伤痕,主要因为材质软、砂挂残留、研磨量不足、研磨纸(粉)选择与配比不恰当,超洗加重潜伤等;
#o~[1K+Yq Ø 镜片表面研磨加工时由于研磨液(浓度、PH值、颗粒、温度)等影响,镜片表面在化学流布的作用下形成光滑表面,但超声波洗净后使潜在伤痕显现,同时伴有研磨液与洗剂的腐蚀;
aJa.U^1{ 9、 水纹印ヤケ
D6Dn&/>Zp Ø 洗净烘干时IPA纯度下降,(或其他烘干剂烘干效果不好)水份未及时蒸干;
u9BjgK(M Ø 洗剂与除油剂经过剩余其他洗槽没有去除彻底,表面残留较多;
;>5, Ø 镜片表面水分与残留雾在真空室内,经高温解析后形成H+/OH-,在镜片表面蒸发与凝结形成表面轻微腐蚀
pVY4q0@ ヤケ关联图
3XnE y
+ (VEp~BW@-R YKNb59k 通常处理思路:
hc"6u\> 一. 目前所有对策都是加快流程,杜绝人为造成镜片表面的污染(手指痕、口水痕、其他污物);降低表面洁净镜片暴露于大气中被腐蚀的时间;提高膜层致密度;
'g2vX&=$A 1、 镀前ヤケ:
\PzN XQ$ Ø 检查方法:
W5|j1He& 2 反射光下“哈汽法”确认有无残留点状痕迹/水纹印;
(N7O+3+G 2 强光灯下确认有无脏污/白ヤケ;
*G\=i
A 2 日光灯反光确认镜片有无黑ヤケ;
zqY)dk 2、 镀膜色差
2!BsEvB( Ø 对策/处理: 2 镀膜均匀度调整(镀膜专业人员)
sx:Hv1d 2.1.膜色ヤケ
UP R/XQ Ø 对策: 2 砂挂条件变更(钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等)à 确保砂挂完品表面粗糙度); 2 研磨条件变更(加工时间、研磨纸、研磨液(PH、浓度、颗粒度)、温度、压力条件等)à 确保研磨完品表面粗糙度); 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分,保持表面的洁净度(注意清洁方法与清洁辅料与更换周期); 2 镀前处理:使用手工表面返修(单轴机手工返修) Ø 试验/验证: 2 通过反射光下“哈汽法”,镀前检查确认表面光洁度; 2 使用透过光旋转检查研磨表面有无白雾、表面研磨刷子状痕迹; 2 通过镀前处理(手工返修)后镀制来验证研磨完品表面质量;
b22LT52 3、 膜层脏污:
+3)[>{~1Z A、膜上脏污:
CGkI\E Ø 对策/处理:
vsc&Ju%k 2 膜系调整(如加镀SiO2,膜表面品质提升);
*N`;I@Q"[ 2 镀后延长烘烤时间,与镀膜使用离子源辅助镀膜(表面致密度提升);
~+=E"9Oo 2 镀后防尘措施(改善存放环境,降低泄大气前镜片温度,保持真空室内洁净度);
*CzCUu:%t 2 防止镀膜后加工工序形成表面污染,如涂墨高温烘烤与粘合UV固化加重污染,造成表面脏污;
C>NQ-w^ 2 试验/验证:
/-><k,mL? 2 擦拭变化,可擦拭与超声波清洗去除;
-nOq \RYV B、膜下脏污:
J+lGh9G Ø 对策/处理:---- 镀前处理
z$66\/V'] 2 洗净处理(确认洗剂浓度与PH值,提高超声波强度,延长洗净时间,特殊洗净工艺);
T30Zk*V 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分,保持表面的洁净度(注意清洁方法与清洁辅料与更换周期); 2 研磨完品表面手指痕、口水痕、其他污染即时去除;
ldYeX+J
_ 2 手工返修处理(研磨粉、CaCO3+干油等擦拭);
svqvG7 Ø 试验/验证:
Nkx0CG* 2 镀前反射光下“哈汽法”确认,
I=o'+>az 2 镀后不可擦拭
s+'XQs^{aj 4、 膜下ヤケ:
,&[7u9@ Ø 对策/处理:---- 镀前处理
HZ{n&iJ 2 研磨条件变更(考虑材质对研磨液等调整)
:,47rN,qa 2 考虑材质调整研磨工艺:
]H>+m
9 n 采取研磨后直接镀膜工艺:
cFDxjX?~ 芯取à研磨à手工擦拭、检查à镀膜;
?|lI Xz n 采取易ヤケ面后加工工艺(避免多片加工、采取单元一个流作业等);
LZ4xfB( n 缩短研磨后到镀膜的时间(检查前置、免洗净);
D,E$_0 n 研磨完品清擦(吸水棉布,擦拭后达可镀清洁度),二次清擦法,及时更换擦布;
_Ds@lVY n 已擦拭好研磨完品防潮、防湿(研磨后立即泡IPA,卤素灯烘干+PE袋+干燥剂等);
zWb-pF| n 先镀易ヤケ面
JCNk\@0i* 2 洗净处理(考虑材质及镜片形状对洗净条件进行调整,如洗净液、镜片放置方向等)
/,LfA2^_j{ 2 手工处理(研磨粉、CaCO3+干油等擦拭)
;$z7[+M Ø 试验/验证:
P2t_T'R} 2 通过手工处理确认镀后品质
b[yE~EQxr 2 镀前强光灯下可见、哈气法检查
'bC]M3P 5、 膜色ヤケ:
s%^o*LQ|9 Ø 对策/处理:
^EuW(
" 2 镀膜工艺改进(膜层致密度提高(蒸发速率、基底温度、离子源使用、实际真空度、镀膜膜料、真空室的洁净度));
2uEhOi0I 2 使用高能离子去除表面残留污染,例如:使用SHINCRON SID-1100镀膜;
gJK KR]4* 2 镀前、镀后烘烤时间加长 2 镀后完品防尘、防湿 Ø 试验/验证: 2 一般擦拭不变化(研磨粉、CaCO3擦拭变化,膜层破坏)
\q,s?`+B 2 放置变化(变重/消失)
i%MA"I\9 6、 雾状:
-,|ha>r Ø 对策/处理:
g}m+f]| 2 砂挂加工条件改善(钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等)
OT;cfkf7 à 确保砂挂完品表面粗糙度);
L{<7.?{Y 2 研磨条件变更(加工时间、研磨纸、研磨液、压力条件等)
DFc [z"[ à 确保研磨完品表面粗糙度);
<}]{~y 2 研磨完后追加黑毛纸抛光;
S~> 5INud 2 洗净条件改善(洗剂、时间、温度等);
GkciA{ 2 镀膜第一层加AL2O3等,离子源电压(160V~120V)调整,与离子电流密度增加,离子源反应气体流量适当增加;
|AC6sfA+ 2 膜层致密度提高;
KJdzv!l= Ø 试验/验证:
GQ[pG{_+ 2 对不同粗糙度的砂挂完品试验,确认砂挂外观对研磨完品的影响程度
K#wK1 Sv 2 通过手擦、洗净两种工艺后的品质确认洗净的影响程度
kN.B/itvA 7、 黑ヤケ
9ad6uTc Ø 反射光检查
rH.gF43O: Ø 对策
!*_K.1' 2 镀膜时O2的增加
V_f`0\[x 2 研磨液残留及时去除,表面脏污及时清理
G5;V.#"Z[ 8、 :细伤痕
*i@T!O(1)M Ø 同雾状
-bm,:Iy! 9、 水纹ヤケ
+sRP<as Ø 更换烘干剂
r:NH6tAL 以上