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    [求助]关于光学镜片加工中的压克现象,有啥好的解决办法? [复制链接]

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    离线luyk
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-06
    小弟光学冷加工门外汉一枚,起初以为资源是可以共享的,后来慢慢的感觉光学行业,大家都守得太死了,也许是现在论坛落寞了吧,感觉不到十年前那种不懂就逛论坛的热闹景象了。很多专业的东西也不再有人愿意说了,大家都在闷着头搞自己的。行业里工作了十年二十年的大有人在,可是你去请教的时候总是一句搪塞了事。 FZA8@J|Q4  
    6XQ)Q)  
    言归正传,最近公司里被一个压克搞得鸡飞狗跳,基本上上线的80%机种镀膜洗净后压克比例都挺高的,小弟我又不懂这两个工程,但是耐不住看着心里着急,特来此求教,还望知道的师傅能不吝赐教。压克到底和哪些原因有关,出现如我司这种情况大概率的是哪里的问题。还请指点一二,谢谢了!
     
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    只看该作者 置顶 (来自10楼) 发表于: 2020-08-06
    — (cyqdesign) 执行 帖内置顶 操作 (2020-08-07 10:17) —
    亚克是日语ヤケ的音译,是变色的意思,光学工厂把这个疵病认为是印子,疵病代号206。我找到了一篇文章,对此解释的比较全,推荐如下:
    镜片常见不良及解决思路 
    2}D,df'W4  
    ヤケ(腐蚀、发霉、压克) D*|( p6v1&  
     定义: 镜片表面被腐蚀。在对策时一定要区分是ヤケ还是脏污,才能找出真因。 G=vN;e_$_b  
     前言: 光学玻璃的结构:以硅酸盐为主(SiO3 )加上 Mg(镁)  Ba(钡 )  K(钾)  La (钄) Pb( 铅)等几十种离子混合而成。而Mg(镁)  Ba(钡 )  K(钾)  La (钄) Pb(铅)等是活性金属离子,它们是用来调节镜片的折射率(nd)、色散系数(vd)的添加剂.按理论分析正常状态的玻璃的结构是具有均匀性、混合地分布各种离子、离子键及化学键。但在加工过程中受各种因素的影响而使镜片结构发生变化(形成硅酸溶胶)。 g+:$X- r  
     ヤケ定义: ヤケ即腐蚀、发霉,指镜片研磨完品或膜层上形成化学腐蚀层,从而从镜片表面看与正常状态有颜色差异。ヤケ大致可以分为膜上ヤケ和膜下ヤケ。下列为常见的几种现象: J09*v )L  
    6(:)otz  
    |__d 8a  
    ERk kS Tp  
    <inl{CX/  
    几种相关名词: ! &Z*yH  
    1镀前ヤケ(镜片表面本身污染/水分残留/溶剂残留,镀前已可见) :RPVT,O}  
    Ø 镜片在研磨过程中研磨液(研磨液通常PH值6.5~7.5但在加工过程会发生,由于硅酸盐、金属离子与研磨液发生化学反应,造成PH值变化)对镜片的腐蚀,镀前反射光可见灰暗不同现状的痕迹; [.M  
     Ø 镀前透过光检查为白色雾状;  B<A:_'g  
    Ø 研磨完品未及时进行清洗(或擦拭),研磨残留(研磨液或水)对镜片的腐蚀;  7^HpVcSM  
    Ø 清洗后镜片暴露空气接触水分等太长,镜片受腐蚀; x]H3Y3  
    Ø 洗净烘干时水分残留; yxqTm%?y  
     Ø 擦拭时后的溶剂残留;。 QT_Srw@  
     2、 镀膜色差:(非ヤケ,镀前不可见)  Xe)Pg)J1  
    Ø 因镜片放置在镀膜伞的不同位置,基底温度不均匀;造成镀膜伞上、中、下膜色差异; Ø 镀膜蒸发源偏离原有设定位置,造成在镀膜伞上中下蒸发膜厚不均匀;  pH^ z  
    Ø 镀膜使用离子源时,离子覆盖的范围没有调整合适,离子流密度不均匀造成; {>S4 #^@}  
     3、 膜层脏污:(非ヤケ,镀前不可见)  VIetcs  
    Ø 膜下脏,指镀前未处理干净,镀膜后形成明显的膜色差异,透过光可见。  y*_K=}pk  
    Ø 膜上脏,包括普通可擦拭的脏和难擦拭的脏污;镀膜真空室长期未清洁(洁净度差),膜层致密度低,灰尘、脏污粘付到膜层上时难以擦拭;镀膜后膜层污染,经高温环境后形成膜层脏污;  '=$TyiU  
    Ø 因镜片表面研磨表面Ra(粗糙度)大,镀膜前擦拭可感觉有涩感;镀膜后擦拭表面形成雾状,经超声波洗净后OK;  m^ z,,t9  
    4、 膜下ヤケ: l+oDq'[q"  
     Ø 白ヤケ:镀后在透过光下能见白色雾状层,为镀前产生;镜片表面残留物(研磨保护漆)在真空室经高温烘烤分解,在表面形成白雾层,可用溶剂擦拭去除;镀前不可见; e!6eZ)l  
     Ø 镜片表面富含透明残留物经高温烘烤后,与镜片发生反应形成表面剧烈腐蚀;镀前不可见; Ec+22X  
     Ø 色ヤケ:研磨后不明显,镀膜放置后加重;镀前不可见 r8sdzz%  
    Ø 色斑:  研磨涂保护漆前已研磨好表面残留的水痕、研磨液没有及时去除彻底,涂好保护漆经高温烘烤好在表面形成腐蚀痕; $\+"qs)  
    5、 膜色ヤケ:  ohtT O]\  
    Ø 由于膜料特性及镀膜工艺不稳定造成膜层致密性差,镀后吸收水份与O2离子,擦拭无明显变化,烘烤或放置一段时间后会变严重或消失; D^N[=q99&e  
    可通过测试高温与低温时分光曲线的变化(差异小于20nm)显现 bH_I7G&m  
    ,dOMW+{  
    }&mj.hGv  
    Ø 膜层结晶时高温下受损(某一层膜厚太薄≤160A),膜料与基底发生反应,高温下再结晶时不均匀,形成局部分光特性变化; vnDmFqelz  
     Ø 研磨在表面形成不同的折射率区域; %z=`JhE"Q  
     Ø 镀膜真空室内油污严重,存在大量各类杂质气体,加热后吸附在镜片表面,造成膜层结晶粗糙,膜层在大气中吸附各类气体水分,形成局部分光特性变化,可通过测试高温与低温时分光曲线的变化(差异小于20nm)显现;  b"^\)|*4;  
    Ø 已镀膜镜片在擦拭作业后表面残留的溶剂、水痕等没有去除干净,又放入高温环境下烘烤; &ryiG  
     6、 雾状:(非ヤケ)  {JTmP`&l  
    Ø 表面粗糙、半透明,主要因为材质软、研磨量不足或洗净时被化学溶剂腐蚀; Ohc^d"[7  
    Ø 镜片长期被酸碱强烈腐蚀  #iiwD|  
    7、 黑ヤケ  8*vFdoE_oO  
    Ø 镀膜膜料金属氧化物失O2造成(与O2反应不充分,特别是在使用离子源的时候),镜片置于白色背景可见底色;置于富氧环境中高温烘烤后,黑色斑点消失;  O /vWd "  
    Ø 多片研磨使用粘贴胶,没有彻底去除, #T[%6(QW  
     Ø 研磨液没有及时去除,镜片表面长期没有得到良好保护,点状腐蚀严重; )TM!ms+K  
     8、 细伤痕:(非ヤケ) D_Guc8*  
     Ø 研磨完品表面细(浅)、长、密的伤痕,主要因为材质软、砂挂残留、研磨量不足、研磨纸(粉)选择与配比不恰当,超洗加重潜伤等; #o~[1K+Yq  
     Ø 镜片表面研磨加工时由于研磨液(浓度、PH值、颗粒、温度)等影响,镜片表面在化学流布的作用下形成光滑表面,但超声波洗净后使潜在伤痕显现,同时伴有研磨液与洗剂的腐蚀;  aJa.U^1{  
    9、 水纹印ヤケ D6Dn&/>Zp  
     Ø 洗净烘干时IPA纯度下降,(或其他烘干剂烘干效果不好)水份未及时蒸干; u9BjgK(M  
     Ø 洗剂与除油剂经过剩余其他洗槽没有去除彻底,表面残留较多; ;>5,  
     Ø 镜片表面水分与残留雾在真空室内,经高温解析后形成H+/OH-,在镜片表面蒸发与凝结形成表面轻微腐蚀 pVY4q0@  
    ヤケ关联图 3XnE y +  
    (VEp~BW@-R  
    YKNb59k  
    通常处理思路: hc"6u\>  
    一. 目前所有对策都是加快流程,杜绝人为造成镜片表面的污染(手指痕、口水痕、其他污物);降低表面洁净镜片暴露于大气中被腐蚀的时间;提高膜层致密度; 'g2vX&=$A  
     1、 镀前ヤケ:  \PzN XQ$  
    Ø 检查方法: W5 |j1He&  
     2 反射光下“哈汽法”确认有无残留点状痕迹/水纹印;  (N7O+3+G  
    2 强光灯下确认有无脏污/白ヤケ;  *G\=i A  
    2 日光灯反光确认镜片有无黑ヤケ;  zqY)dk  
     2、 镀膜色差 2!BsEvB(  
    Ø 对策/处理: 2 镀膜均匀度调整(镀膜专业人员)    sx:Hv1d  
     2.1.膜色ヤケ   UPR/XQ  
    Ø 对策: 2 砂挂条件变更(钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等)à 确保砂挂完品表面粗糙度); 2 研磨条件变更(加工时间、研磨纸、研磨液(PH、浓度、颗粒度)、温度、压力条件等)à 确保研磨完品表面粗糙度); 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分,保持表面的洁净度(注意清洁方法与清洁辅料与更换周期); 2 镀前处理:使用手工表面返修(单轴机手工返修) Ø 试验/验证: 2 通过反射光下“哈汽法”,镀前检查确认表面光洁度; 2 使用透过光旋转检查研磨表面有无白雾、表面研磨刷子状痕迹; 2 通过镀前处理(手工返修)后镀制来验证研磨完品表面质量;  b22LT52  
    3、 膜层脏污: +3)[> {~1Z  
     A、膜上脏污:  CGkI\E  
    Ø 对策/处理:  vsc&Ju%k  
    2 膜系调整(如加镀SiO2,膜表面品质提升);  *N`;I@Q"[  
    2 镀后延长烘烤时间,与镀膜使用离子源辅助镀膜(表面致密度提升);  ~+=E"9Oo  
    2 镀后防尘措施(改善存放环境,降低泄大气前镜片温度,保持真空室内洁净度);  *CzCUu:%t  
    2 防止镀膜后加工工序形成表面污染,如涂墨高温烘烤与粘合UV固化加重污染,造成表面脏污;  C>NQ-w^  
    2 试验/验证: /-><k,mL?  
     2 擦拭变化,可擦拭与超声波清洗去除; -nOq\RYV  
     B、膜下脏污:   J+lGh9G  
    Ø 对策/处理:---- 镀前处理  z$66\/V']  
    2 洗净处理(确认洗剂浓度与PH值,提高超声波强度,延长洗净时间,特殊洗净工艺);  T30Zk*V  
    2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分,保持表面的洁净度(注意清洁方法与清洁辅料与更换周期); 2 研磨完品表面手指痕、口水痕、其他污染即时去除;  ldYeX+J _  
    2 手工返修处理(研磨粉、CaCO3+干油等擦拭); svqvG7  
     Ø 试验/验证: Nkx0CG*  
     2 镀前反射光下“哈汽法”确认, I=o'+>az  
     2 镀后不可擦拭  s+'XQs^{aj  
    4、 膜下ヤケ:  ,&[7u9@  
    Ø 对策/处理:---- 镀前处理 HZ{n&iJ  
     2 研磨条件变更(考虑材质对研磨液等调整) :,47rN,qa  
     2 考虑材质调整研磨工艺: ]H>+m 9  
     n 采取研磨后直接镀膜工艺: cFDxjX?~  
    芯取à研磨à手工擦拭、检查à镀膜; ?|lIXz  
     n 采取易ヤケ面后加工工艺(避免多片加工、采取单元一个流作业等); LZ4xfB (  
     n 缩短研磨后到镀膜的时间(检查前置、免洗净); D,E$_0  
     n 研磨完品清擦(吸水棉布,擦拭后达可镀清洁度),二次清擦法,及时更换擦布; _Ds@lVY  
     n 已擦拭好研磨完品防潮、防湿(研磨后立即泡IPA,卤素灯烘干+PE袋+干燥剂等); zWb -pF|  
     n 先镀易ヤケ面  JCNk\@0i*  
    2 洗净处理(考虑材质及镜片形状对洗净条件进行调整,如洗净液、镜片放置方向等) /,LfA2^_j{  
     2 手工处理(研磨粉、CaCO3+干油等擦拭) ;$z7[+M  
    Ø 试验/验证: P2t_T'R}  
     2 通过手工处理确认镀后品质 b[yE~EQxr  
     2 镀前强光灯下可见、哈气法检查 'bC]M3P  
     5、 膜色ヤケ: s%^o*LQ|9  
     Ø 对策/处理:  ^EuW( "  
    2 镀膜工艺改进(膜层致密度提高(蒸发速率、基底温度、离子源使用、实际真空度、镀膜膜料、真空室的洁净度));  2uEhOi0I  
    2 使用高能离子去除表面残留污染,例如:使用SHINCRON SID-1100镀膜;  gJKKR]4*  
    2 镀前、镀后烘烤时间加长 2 镀后完品防尘、防湿 Ø 试验/验证: 2 一般擦拭不变化(研磨粉、CaCO3擦拭变化,膜层破坏)  \q,s?`+B  
    2 放置变化(变重/消失) i%MA"I\9  
     6、 雾状: -,|ha>r  
     Ø 对策/处理: g}m+f] |  
     2 砂挂加工条件改善(钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等) OT;cfkf7  
    à 确保砂挂完品表面粗糙度); L{<7.?{Y  
     2 研磨条件变更(加工时间、研磨纸、研磨液、压力条件等) DFc [z"[  
    à 确保研磨完品表面粗糙度); <}]{~y  
     2 研磨完后追加黑毛纸抛光;  S~> 5INud  
    2 洗净条件改善(洗剂、时间、温度等); GkciA{  
     2 镀膜第一层加AL2O3等,离子源电压(160V~120V)调整,与离子电流密度增加,离子源反应气体流量适当增加;  |AC6sfA+  
    2 膜层致密度提高; KJdz v!l=  
     Ø 试验/验证: GQ[pG{ _+  
     2 对不同粗糙度的砂挂完品试验,确认砂挂外观对研磨完品的影响程度  K#wK1 Sv  
    2 通过手擦、洗净两种工艺后的品质确认洗净的影响程度  kN.B/itvA  
    7、 黑ヤケ  9ad6uTc  
    Ø 反射光检查 rH.gF43O:  
     Ø 对策  !*_K.1'  
    2 镀膜时O2的增加  V_f`0\[x  
    2 研磨液残留及时去除,表面脏污及时清理  G5;V.#"Z[  
    8、 :细伤痕  *i@T!O(1)M  
    Ø 同雾状 -bm,:Iy!  
     9、 水纹ヤケ  +sRP<as  
    Ø 更换烘干剂  r :NH6tAL  
    以上 
    3条评分光币+20
    zjfzjf 光币 +5 优秀文章,支持! 2020-08-11
    luyk 光币 +5 热心助人,鼓励! 2020-08-07
    zhangyuqian1 光币 +10 优秀资料,加分! 2020-08-07
    离线滴滴滴
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    只看该作者 1楼 发表于: 2020-08-06
    同问学习
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    只看该作者 2楼 发表于: 2020-08-06
    加油,先自己干吧
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    只看该作者 3楼 发表于: 2020-08-06
    加工的事情不是很懂,有时间我问问同事
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    只看该作者 4楼 发表于: 2020-08-06
    共同学习
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    只看该作者 5楼 发表于: 2020-08-06
    技术共享,基本就是梦想!
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    只看该作者 6楼 发表于: 2020-08-06
    回 misszy 的帖子
    misszy:加工的事情不是很懂,有时间我问问同事 (2020-08-06 10:47)  p%8 v`  
    0[9I0YBJ  
    先谢过了
    离线zhang2020
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    只看该作者 7楼 发表于: 2020-08-06
    刚接触光学,但是感觉没人领进门自己学起来好难,自己加油闷头干吧,技术共享真的很难呀,也想找个大佬带着。
    离线不懂想问
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    只看该作者 8楼 发表于: 2020-08-06
    可以去知网先找找相关文献