如何分析部分
干涉成像系统 （光刻机系统）
8y;Rw#Dz k3~9;Z 在光刻应用中，所使用的
光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模?
K7
e~ %mY 在这里给大家分享一个案例， 希望可以帮到大家。
).T&fa" 6TtB3;5 xoaO=7\io 这里是一步一步的如何在
ZEMAX 中操作：
https://sot.com.sg/coherent-imaging/ ^Q6J$"Tj ,g*!NK_:5t 这里是案例的ZEMAX
文件： 备注： 我用的ZEMAX 是20年版本， 如果您版本过低，可能无法正常打开， 请谅解！
\br!77 &V"oJ}M/a 如果不能打开文件， 请告知我， 我转发给你。
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~+q1g[6 回帖是对我分享的一个鼓励， 谢谢回帖！
