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    [原创]如何分析部分干涉成像系统 (光刻机成像系统) [复制链接]

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    离线markborn
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 06-28
    如何分析部分干涉成像系统 (光刻机系统) / <WB%O  
    !s#25}9zX5  
    在光刻应用中,所使用的光源不是完全相干的,如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模? mh]'/C_*<w  
    在这里给大家分享一个案例, 希望可以帮到大家。     Rkm1fYf  
       V0 x[sEW  
    #}L75  
    这里是一步一步的如何在ZEMAX 中操作:https://sot.com.sg/coherent-imaging/ x/Se /C  
           #+HLb  
    这里是案例的ZEMAX 文件: 备注: 我用的ZEMAX 是20年版本, 如果您版本过低,可能无法正常打开, 请谅解! BL<.u  
    9K~2!<  
    如果不能打开文件, 请告知我, 我转发给你。   pDb5t>  
    gO%#'Eb2  
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    天蓝色3230 光币 +5 - 06-29
     
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    只看该作者 1楼 发表于: 06-29
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    只看该作者 3楼 发表于: 07-03
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    离线huangyang
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    只看该作者 4楼 发表于: 07-08
    呦西呦西
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