如何分析部分
干涉成像系统 (光刻机系统)
}3OKC2K~
wwyPl 在光刻应用中,所使用的
光源不是完全相干的,如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模?
8]U{;|'; 在这里给大家分享一个案例, 希望可以帮到大家。
d%o&+l# 5.MGaU^Z$ zc;|fHW~O 这里是一步一步的如何在
ZEMAX 中操作:
https://sot.com.sg/coherent-imaging/ CW,Wx: Y HlH64w2^R 这里是案例的ZEMAX
文件: 备注: 我用的ZEMAX 是20年版本, 如果您版本过低,可能无法正常打开, 请谅解!
%y@Hh= {qN 5MsY 如果不能打开文件, 请告知我, 我转发给你。
~1>.A(,=z U15H@h 回帖是对我分享的一个鼓励, 谢谢回帖!