[原创]如何分析部分干涉成像系统 （光刻机成像系统） [复制链接]

如何分析部分干涉成像系统 （光刻机系统） }M'h5x  
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在光刻应用中，所使用的光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模? 'bGL@H  
在这里给大家分享一个案例， 希望可以帮到大家。     g <^Y^~+E  
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这里是一步一步的如何在ZEMAX 中操作：https://sot.com.sg/coherent-imaging/ "u5Hm ^H  
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这里是案例的ZEMAX 文件： 备注： 我用的ZEMAX 是20年版本， 如果您版本过低，可能无法正常打开， 请谅解！ I'2:>44>I6  
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如果不能打开文件， 请告知我， 我转发给你。   Gc>bli<-  
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回帖是对我分享的一个鼓励， 谢谢回帖！  

https://sot.com.sg/coherent-imaging/ 大佬这个链接打不开，在光刻系统里为什么会有相干部分呢？我们如何评价这部分呢？

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let us learn photolithography design.

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谢谢楼主