如何分析部分
干涉成像系统 (光刻机系统)
h!L6NS_Q, wJQ"| 在光刻应用中,所使用的
光源不是完全相干的,如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模?
i>`!W|=_ 在这里给大家分享一个案例, 希望可以帮到大家。
g/ict2! $h( B2 eBW=bK~[VP 这里是一步一步的如何在
ZEMAX 中操作:
https://sot.com.sg/coherent-imaging/ *To5\| oG_-a(N 这里是案例的ZEMAX
文件: 备注: 我用的ZEMAX 是20年版本, 如果您版本过低,可能无法正常打开, 请谅解!
3M[b)At V. V=v7<I=] 如果不能打开文件, 请告知我, 我转发给你。
JBKCa 3 ZCbnDj 回帖是对我分享的一个鼓励, 谢谢回帖!