如何分析部分
干涉成像系统 （光刻机系统）
4]R3*F 7]Yd-vA 在光刻应用中，所使用的
光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模?
`w }"0+V 在这里给大家分享一个案例， 希望可以帮到大家。
XD Q1gg` .j.=|5nVo4 |szfup~5es 这里是一步一步的如何在
ZEMAX 中操作：
https://sot.com.sg/coherent-imaging/ XQPJ(.G ~>|U %3}] 这里是案例的ZEMAX
文件： 备注： 我用的ZEMAX 是20年版本， 如果您版本过低，可能无法正常打开， 请谅解！
x(~l[hT b"V-!.02 如果不能打开文件， 请告知我， 我转发给你。
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C 回帖是对我分享的一个鼓励， 谢谢回帖！
