[原创]如何分析部分干涉成像系统 （光刻机成像系统） [复制链接]

如何分析部分干涉成像系统 （光刻机系统） HRn Q*  
H|JPqBNRh  
在光刻应用中，所使用的光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模? #ueWU  
在这里给大家分享一个案例， 希望可以帮到大家。     0%&ZR=y(
G  
   U[,."w]T  
> mk>VM  
这里是一步一步的如何在ZEMAX 中操作：https://sot.com.sg/coherent-imaging/ E^qJ5pr_P  
       `\_>P@qz  
这里是案例的ZEMAX 文件： 备注： 我用的ZEMAX 是20年版本， 如果您版本过低，可能无法正常打开， 请谅解！ :7>oFz  
l!qhK'']V"  
如果不能打开文件， 请告知我， 我转发给你。   jlXzfDT  
`ECY:3"$KA  
回帖是对我分享的一个鼓励， 谢谢回帖！  

感谢分享！

感谢分享！

感谢分享 kI?+\k\V`  

呦西呦西

好东西谢谢

谢谢分享 学习学习 5rb<u>e{  

感谢分享

哇偶，正好需要 gR+P!Eow  

学习一下，学做尚光人。 ,.kmUd