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[原创]如何分析部分干涉成像系统（光刻机成像系统） [复制链接]

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离线markborn

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只看楼主倒序阅读楼主发表于: 2020-06-28

如何分析部分干涉成像系统（光刻机系统）

在光刻应用中，所使用的光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模?
在这里给大家分享一个案例，希望可以帮到大家。


这里是一步一步的如何在ZEMAX 中操作：https://sot.com.sg/coherent-imaging/

这里是案例的ZEMAX 文件：备注：我用的ZEMAX 是20年版本，如果您版本过低，可能无法正常打开，请谅解！

如果不能打开文件，请告知我，我转发给你。

回帖是对我分享的一个鼓励，谢谢回帖！

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共3条评分，光币+7

光学辉	光币 +1	优秀文章，支持！	2022-07-31
sxwpdpd	光币 +1	优秀资料，加分！	2020-08-03
天蓝色3230	光币 +5	-	2020-06-29

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离线天蓝色3230

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只看该作者 1楼发表于: 2020-06-29

感谢分享！

在线vurtne_000

高级工程师

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只看该作者 2楼发表于: 2020-06-30

感谢分享！

离线17310581236

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离线huangyang

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只看该作者 4楼发表于: 2020-07-08

呦西呦西

离线woshiyiyun

助理工程师

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只看该作者 5楼发表于: 2020-07-20

好东西谢谢

离线xxma94

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只看该作者 6楼发表于: 2020-07-27

谢谢分享学习学习

离线木子示羊

高级工程师

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只看该作者 7楼发表于: 2020-07-27

感谢分享

离线bluelalal

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只看该作者 8楼发表于: 2020-07-28

哇偶，正好需要

离线sxwpdpd

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只看该作者 9楼发表于: 2020-08-03

学习一下，学做尚光人。

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