如何分析部分
干涉成像系统 （光刻机系统）
4+j:]poYG{ zP$Ef7bB 在光刻应用中，所使用的
光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模?
4|[)D/N 在这里给大家分享一个案例， 希望可以帮到大家。
FY6!)/P0I7 >4N= P0= #O2e[ E- 这里是一步一步的如何在
ZEMAX 中操作：
https://sot.com.sg/coherent-imaging/ Kgw_c:/' 'z.:
e+Q_ 这里是案例的ZEMAX
文件： 备注： 我用的ZEMAX 是20年版本， 如果您版本过低，可能无法正常打开， 请谅解！
z'+k]N9Q^ &z" sT*3 如果不能打开文件， 请告知我， 我转发给你。
6EeK5XLf, ij/5m-{6) 回帖是对我分享的一个鼓励， 谢谢回帖！
