如何分析部分
干涉成像系统 （光刻机系统）
e${)w-R/e ncx(pp 在光刻应用中，所使用的
光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模?
\%p34K\ 在这里给大家分享一个案例， 希望可以帮到大家。
Z y _V9j[n w4fW<ISg u<n Lag 这里是一步一步的如何在
ZEMAX 中操作：
https://sot.com.sg/coherent-imaging/ Zk [&IBE_ i<(X r 这里是案例的ZEMAX
文件： 备注： 我用的ZEMAX 是20年版本， 如果您版本过低，可能无法正常打开， 请谅解！
a<fUI%_ #0Tq=:AE> 如果不能打开文件， 请告知我， 我转发给你。
/x1MPP>fu z,|{fKtY} 回帖是对我分享的一个鼓励， 谢谢回帖！
