如何分析部分
干涉成像系统 （光刻机系统）
l,l6j";ohd o}/|"( K 在光刻应用中，所使用的
光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模?
Y \B6c^E) 在这里给大家分享一个案例， 希望可以帮到大家。
e:'56?| S !z3$@o >8O Y6wb 这里是一步一步的如何在
ZEMAX 中操作：
https://sot.com.sg/coherent-imaging/ p ?cc Bq QQV8Vlv" 这里是案例的ZEMAX
文件： 备注： 我用的ZEMAX 是20年版本， 如果您版本过低，可能无法正常打开， 请谅解！
Jkbeh. GCO: !,1 如果不能打开文件， 请告知我， 我转发给你。
M_ %-A N5sVRL" 7 回帖是对我分享的一个鼓励， 谢谢回帖！
