1. 摘要
#m6W7_ LjY@b 高NA物镜广泛用于光刻,显微等技术。因此,聚焦
仿真中考虑光的矢量性质至关重要。
VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头进行
光线追迹和场追迹分析。通过场追迹,可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦光斑失对称现象。利用
相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究,进而加深对矢量效应的理解。
`^'0__<M uXm}THI 0RGqpJxk L',7@W 2. 建模任务
@M=\u-jJ. ~^v*f :BVYS|% _qU;`Q 3. 概述
&]jCoBj+_ K'zBDrkW-x 示例
系统包含了高
数值孔径物镜 iXD=_^^o . 下一步,我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
*zl-R*bM$ TLT6z[ LR%P\~ 3}x6IM2 4. 光线追迹仿真
!HSX:qAP$ P%y$e0 首先,选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
)Kg_E6 点击“Go!”。
y;ymyy& 随即获得3D光线追迹结果
a{+;&j[! ?a{>QyL 2^ kK2D$o G&@vTcF 然后,选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。
^)S<Ha 点击“Go!”。
}ZkGH}K_} 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
@i>o+>V jFGY`9Zw0 m?]=
=9 szas(7kDS 5. 场追迹仿真
KDu~,P] )(W%Hmi 转换到场追迹,并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
'tMS5d)4: 点击“Go!”。
2,e>gP\] gM_MK8py WlRaD%Q gbu@& 6. 场追迹结果(相机探测器)
Mk|*=#e; wOr pp3I x4[
Fn3JL 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
I^!c1S 下图所示为通过叠加Ex,Ey和Ez分量得到的强度分布:由于在高NA条件下相对较大Ez分量,导致聚焦光斑明显的失对称性。
s,]z6L0 eGi|S'L' ?RU_SCp- 7. 场追迹结果(电磁场探测器)
XE?,)8 利用电磁场探测器,我们可以获得多有电磁场分量的结果
$##LSTA "J*LR =`MMB|{6 _2rxDd1#. 8.
文件信息
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Nl $*vj7V_ M<cm] 更多信息
%lqrq<Xn Ct pc]lJ} lCK|PY* (来源:讯技光电)