1. 摘要
L6+C]t}>6 vM(Xip7 高NA物镜广泛用于光刻,显微等技术。因此,聚焦
仿真中考虑光的矢量性质至关重要。
VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头进行
光线追迹和场追迹分析。通过场追迹,可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦光斑失对称现象。利用
相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究,进而加深对矢量效应的理解。
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P$ucL~r 2. 建模任务
=WK04\H |n`PESf_ zb :kanb- =IZ[_ /@ 3. 概述
90fs:. Lc]1$ 示例
系统包含了高
数值孔径物镜 #byJqy&e 下一步,我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
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)3%@9 4. 光线追迹仿真
,?(ciO) % :/_ f 首先,选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
8eJE>g1J 点击“Go!”。
Ie@Jb{x 随即获得3D光线追迹结果
VI_+v[Hk/ ? %(spV ?#BV+#( sn"fK=,#g 然后,选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。
O~PChUU*Y 点击“Go!”。
Yw)Fbt^ 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
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_! 5. 场追迹仿真
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(&$ 转换到场追迹,并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
B!;+_%P76 点击“Go!”。
GeV+/^u !^WHZv4 4h8*mMghs wL3,g2- L 6. 场追迹结果(相机探测器)
<a|@t@R I[D8""U m`}{V5; 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
G1d(,4Xp 下图所示为通过叠加Ex,Ey和Ez分量得到的强度分布:由于在高NA条件下相对较大Ez分量,导致聚焦光斑明显的失对称性。
O/b+CSS1 cWa)#:JOV A@$kLex 7. 场追迹结果(电磁场探测器)
rs]I 利用电磁场探测器,我们可以获得多有电磁场分量的结果
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文件信息
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