1. 摘要
JtSuD>H`" DxE(9j 高NA物镜广泛用于光刻,显微等技术。因此,聚焦
仿真中考虑光的矢量性质至关重要。
VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头进行
光线追迹和场追迹分析。通过场追迹,可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦光斑失对称现象。利用
相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究,进而加深对矢量效应的理解。
NKRaQr mYntU^4f mfj4`3:NV s.f`.o 2. 建模任务
=n> iQS $5ZR[\$ TFAYVK~ es.jh 3. 概述
n;e."^5 ;gZwQ6)i 示例
系统包含了高
数值孔径物镜 U*
-% M 下一步,我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
Tm(Q@ ,h3269$J H|grbTv, eV"d v*R 4. 光线追迹仿真
=6.8bZT\ b{Z^)u2X 首先,选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
xR\D(FLVS 点击“Go!”。
}rO?5 随即获得3D光线追迹结果
sjkWz2]S pYYqGv^oa H+S~ bzz SNQz8(O 然后,选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。
&?P=arU 点击“Go!”。
6H(fk1E 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
;b, -$A hu bfK~ _<u8%\ LEYWH%y 5. 场追迹仿真
`'z(--J}` *ah>-}- 转换到场追迹,并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
z7OZ4R: 点击“Go!”。
A8=e?% .OVW4svX $sU5=, =gxgS<bde 6. 场追迹结果(相机探测器)
08<k'Oi] i_j9/k F Q8RK~?` 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
>2l13^Y 下图所示为通过叠加Ex,Ey和Ez分量得到的强度分布:由于在高NA条件下相对较大Ez分量,导致聚焦光斑明显的失对称性。
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3MNhH 7. 场追迹结果(电磁场探测器)
>yV)d/ 利用电磁场探测器,我们可以获得多有电磁场分量的结果
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文件信息
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:zizca4 5~ _eN (lyt"Ty (来源:讯技光电)