1. 摘要
l#Y,R 0 6.nCV 0xA 高NA物镜广泛用于光刻，显微等技术。因此，聚焦
仿真中考虑光的矢量性质至关重要。
VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头进行
光线追迹和场追迹分析。通过场追迹，可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦光斑失对称现象。利用
相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究，进而加深对矢量效应的理解。
)e a>% !58@p LJw EVC]sUT 54 R#W:t 2. 建模任务
MC.) 2B7 "8jf81V* 8(&[Rs?K \B,@ `dw 3. 概述
{d Msz
9c,'k#k 示例
系统包含了高
数值孔径物镜 MH9q ;?.J 下一步，我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
JL}_72gs V_}"+&W9 ywm8N%]v %^GfS@t 4. 光线追迹仿真
l bl?k5 =BAW[%1b 首先，选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
( !fKNia@S 点击“Go!”。
f=gW]x7'R+ 随即获得3D光线追迹结果
k(7&N0V%zz .P%bkD6M MSqVlj -g Sa_8R
然后，选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。
}1i`6`y1 点击“Go!”。
e+ BQww 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
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# w~& _w+:Dv~*a &L Zn
FR `FDiX7M 5. 场追迹仿真
f:|1_ j zFw s:_ i 转换到场追迹，并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
(G4at2YLd 点击“Go!”。
udUyh%n JZ*/,|1}EC =llvuUd\n u jq =F 6. 场追迹结果(相机探测器)
FvXZ <(A{ l2rd9 -T "ZoRZ'i 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
>#~& - 3 下图所示为通过叠加Ex，Ey和Ez分量得到的强度分布：由于在高NA条件下相对较大Ez分量，导致聚焦光斑明显的失对称性。
A) %/[GD2 Bsq P?/ q #ClnG* 7. 场追迹结果(电磁场探测器)
| w1Bq 利用电磁场探测器，我们可以获得多有电磁场分量的结果
D4-ifs P Cc' 37~6~P i6tf2oqO7 Ug t.&IA 8.
文件信息
," Wr" &5spTMw8 AJ? r,!) 5k3 b3& 更多信息
bv9i*] ?{|q5n LX7FaW （来源：讯技光电）
