1. 摘要
+0M0g_sk Bh7dAV( 高NA物镜广泛用于光刻，显微等技术。因此，聚焦
仿真中考虑光的矢量性质至关重要。
VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头进行
光线追迹和场追迹分析。通过场追迹，可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦光斑失对称现象。利用
相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究，进而加深对矢量效应的理解。
@"n]v)[4 U b`vf4EB .Ix[&+LsY \ Z_29L w= 2. 建模任务
y)b=7sU bdHHOpXM 8b< ' jft 9lB$i2G>Zw 3. 概述
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M 9KoQS 示例
系统包含了高
数值孔径物镜 c:2LG_ mQ 下一步，我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
0?=a $0_C m:c .dei5 t>eeOWk3 0lS=-am 4. 光线追迹仿真
40 %<E EU .!/'< 首先，选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
n W:Bo# 点击“Go!”。
H4uHCkj 随即获得3D光线追迹结果
y0,>_MS KdC'#$ QFIYnxY9 !CR#Fyt+9 然后，选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。
n"f: 6|< 点击“Go!”。
m[tsG=XBN 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
4}Yn!"jW& eDsc_5I gq050Bl) 3y yVI# 5. 场追迹仿真
sv2XD}} #dkSAS 转换到场追迹，并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
I.ku Y D62 点击“Go!”。
13f 'zx(AO +Os9}uKf ))E| SAr n= FOB0= 6. 场追迹结果(相机探测器)
=*KY) X "]U_o<V 7myYs7N8[ 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
\ %QA)T% 下图所示为通过叠加Ex，Ey和Ez分量得到的强度分布：由于在高NA条件下相对较大Ez分量，导致聚焦光斑明显的失对称性。
q:9CFAX0= *`V r P K,dEa<p 7. 场追迹结果(电磁场探测器)
QUW x\hqE 利用电磁场探测器，我们可以获得多有电磁场分量的结果
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3' drS>~lSxB =jvL2ps < 8.
文件信息
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H7 ( [midNC +, （来源：讯技光电）
