1. 摘要
|XKOXa3. 5vD3K!\u 高NA物镜广泛用于光刻,显微等技术。因此,聚焦
仿真中考虑光的矢量性质至关重要。
VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头进行
光线追迹和场追迹分析。通过场追迹,可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦光斑失对称现象。利用
相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究,进而加深对矢量效应的理解。
<nDNiM# #^|| ]g/N w4\BD&7V &Nc[$H7< 2. 建模任务
U/ ?F:QD4 zlH28V oW0gU?Rr)u $hh+0hs 3. 概述
vqq6B/r@Fu JC=dYP} 示例
系统包含了高
数值孔径物镜 h`=r)D 下一步,我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
9Ei5z6Vk/+ p-.Ri^p LU%#mY R"@7m!IA 4. 光线追迹仿真
i8K_vo2Z) a$d:_,\" 首先,选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
C
8N%X2R 点击“Go!”。
vX ?aB!nkw 随即获得3D光线追迹结果
*-0>3 -$.0Dc)3! yE#g5V& {@3z\wMK$ 然后,选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。
6,X+1EXY 点击“Go!”。
J,??x0GDx, 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
u^t$cLIZ D&/I1=\( n+2%tW ~(P&g7u 5. 场追迹仿真
S#tY@h@XV U9
#w 转换到场追迹,并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
m^<p8KZ 点击“Go!”。
eIH$"f;L / 2xSNalC +1QK}H~ ,[* ;UR 6. 场追迹结果(相机探测器)
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Ke!'gohv Br!9x{q* 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
3@_Elu 下图所示为通过叠加Ex,Ey和Ez分量得到的强度分布:由于在高NA条件下相对较大Ez分量,导致聚焦光斑明显的失对称性。
/,2rjJ#b .1#kDM %Ds+GM- 7. 场追迹结果(电磁场探测器)
B2Z_]q$n* 利用电磁场探测器,我们可以获得多有电磁场分量的结果
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文件信息
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`XKVr `\CVV*hP ?6"{!s{v (来源:讯技光电)