举例:设置三个光源,每个光源包含在一个圆锥体中,该圆锥体被建模为一个半径非常短的双曲面。声明该系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式(PUP 1),设置光线数为200;使用三种不同颜色追迹三个光源的光线,追迹光线数为200,来绘制一个旋转实体图。 F&az":
RLE !^?qU;|
ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE CN\=9Rvs
WAVL .6562700 .5875600 .4861300 fEwifSp.
APS 1 Sc_5FX\Yx
GLOBAL `tVy_/3(9
NOSEQUENTIAL QNpuTZn#Q
UNITS MM d.AC%&W
OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3 |r !G,
0 AIR t^U^Tr
1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000 eGvOA\y:
1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000 EEwWucQ
1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR c\K<sM{
1 CC -1.04500000 X~L!e}Rz
1 AIR 2*'ciH37
2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000 $3\,h;y
2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR z_n\5.
2 AIR 3{RL \gh$"
END EO:avH.*0
="(>>C1-
RSOL 10 20 2 0 123 &F6C
PLOT x7$ax79ly
&S-er{]]
BLUE =:~(m
PUP 1 200 $^h?:L:1n
y-a|Lu*
OBI INDEX 0 1 onnugj3
TRACE P 0 0 200 !*vBW/
&<0ZUI |S3
OBI INDEX 0 0 Yqj+hC6>,
RED ~ffwLgu!
TRACE P 0 0 200 qqvF-mDN
1`l;xw1W
OBI INDEX 0 -1 wW5Yw
i
GREEN I$j|Rq
PUPIL 1 200 xS+rHC
TRACE P 0 0 200 D^?_"wjW
END
-oh7d$~
UA(;fZ@
bEI!Ja
评估光线分布的方法: U^ ?=
0+
1.查看在最终表面上的足迹图 (U9a@1
在Edit Window中输入: 3U;1D2"AE
e U;jP]FA
PUPIL 1 400 Y/lN@
RED ti9}*8
OBI IND 0 0 P
{H{UKs#
PLOT 2 1 0 0 vr4S9`,
TRACE P 0 0 400
] .5OX84
OBI IND 0 1 - _t&+5]
BLUE WQKj]:qk0
TRACE P 0 0 400 ZqK]jT6V/X
OBI IND 0 -1 AP w6
GREEN `{}@@]
TRACE P 0 0 400 ( 3;`bvYH"
END Zi4d]
l &Z(K,6
%),!2_ x~
JXm?2/
2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像模型,再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。 .'lN4x
Dl A Z"C
OBI INDEX 0 1 ? OsS`)T
GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS t.U{Bu
P
OBI INDEX 0 0 TSQhX~RN
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS r0btC@Hxy
OBI INDEX 0 -1 _6rKC*Pe1
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS 4bI*jEc\[
JIV8q HC
FOR RECTANGLE fSI %c3
SIZE 5 5 @T7PZB&xnl
VARY Y POSITION FROM -50 TO 50 'vlrc[|/
PLOT tcOnM w
这里,为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形探测器从下到上对其进行检查。 zs8I
NvHN -^2
9v~5qv;
3.使用另一个特性 照明模式(IPAT),它会绘制最终表面的照明图案,以便检查最终表面光束的均匀性。 [z+x"9l0!
输入格式: |-61(X.
7$_
:sJ