举例:设置三个
光源,每个光源包含在一个圆锥体中,该圆锥体被建模为一个半径非常短的双
曲面。声明该
系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式(PUP 1),设置
光线数为200;使用三种不同颜色追迹三个光源的光线,追迹光线数为200,来绘制一个旋转实体图。
hmk5
1 RLE
'Q,<_L" ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE
.gg0: WAVL .6562700 .5875600 .4861300
nwH|Hs riU APS 1
Ia"
Mi+{ GLOBAL
ueo3i1 NOSEQUENTIAL
#R|4(HlL UNITS MM
Y:BrAa[ OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3
l%/,Ef*3 0 AIR
Ut@)<N 1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000
n&&y\?n 1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000
P~>nlm82] 1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR
+O6@)?pI 1 CC -1.04500000
{'C74s
1 AIR
ga%77t|jm3 2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000
H-lRgJdc 2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR
e#{L~3 2 AIR
{+}Lc$O#C END
Os+=} %)]RM/e8 RSOL 10 20 2 0 123
a)b@en;v PLOT
F@3,>~[%I EB,>k1IJ BLUE
JOk`emle PUP 1 200
jL>r*=K)% 9a unv OBI INDEX 0 1
L}nc'smvM TRACE P 0 0 200
#k, kpL<a b2H6}s"=w OBI INDEX 0 0
n_hD RED
d~%Rnic6* TRACE P 0 0 200
af{K4:I -`o:W?V$u OBI INDEX 0 -1
$!lxVZ> GREEN
huE#VY
/t PUPIL 1 200
uqH;1T;s TRACE P 0 0 200
v-qS 'N4 END
ZO^+KE"
-B!pg7>'## A 78{b^0* 评估光线分布的方法:
i"@?eq#h 1.查看在最终表面上的足迹图
1??RX}8[L+ 在Edit Window中输入:
NeP1 # kPe9G PUPIL 1 400
M"V@>E\L RED
n\4+xZr OBI IND 0 0
!JA63 PLOT 2 1 0 0
%iNDRLR%I TRACE P 0 0 400
7[\B{N9&W OBI IND 0 1
@VAhmYz BLUE
usip>y TRACE P 0 0 400
Lb/_ULo6-V OBI IND 0 -1
2UquN0 GREEN
# L R[6l TRACE P 0 0 400
3z<t# END
Oh: -Y]m=
ub%q<sE* s zg1.& Qt$Q/<8U 2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像
模型,再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。
"%Ak[04' }e$);A| OBI INDEX 0 1
V !$m{)Y GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS
#S5vX<"9 OBI INDEX 0 0
K!X8KPo GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
KpL82 OBI INDEX 0 -1
5+r#]^eQY- GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
w pvaTHo |^{IHF\ FOR RECTANGLE
0IK']C SIZE 5 5
ZO~N|s6B^ VARY Y POSITION FROM -50 TO 50
]_h"2| PLOT
/T@lHxX 这里,为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形
探测器从下到上对其进行检查。
4 ET
P
<fxYTd<#D[ (\T?p9 3.使用另一个特性
照明模式(IPAT),它会绘制最终表面的照明图案,以便检查最终表面
光束的均匀性。
|v+b?@ 输入格式:
LYKepk
x]:mc%4-Z