举例:设置三个
光源,每个光源包含在一个圆锥体中,该圆锥体被建模为一个半径非常短的双
曲面。声明该
系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式(PUP 1),设置
光线数为200;使用三种不同颜色追迹三个光源的光线,追迹光线数为200,来绘制一个旋转实体图。
FH+X< RLE
7nek,8b ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE
fQJ`&9m*BF WAVL .6562700 .5875600 .4861300
\8 `7E1d APS 1
apo)cR GLOBAL
jk9f{Iu NOSEQUENTIAL
2.D2
o UNITS MM
0%ul6LvM OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3
EtKq.<SJ 0 AIR
_MBhwNBxZ 1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000
eV[{c %wN: 1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000
b=,BLe\ 1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR
`tk oS 1 CC -1.04500000
wJy]Vyd 1 AIR
b/M/)o!C 2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000
3~~X,ZL 2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR
7q?ZieR 2 AIR
.a.HaBBV END
;W,* B.~ u>*a@3$f RSOL 10 20 2 0 123
IT| h;NUG PLOT
2d D"^z{ ~#r>@C BLUE
A2|Bbqd PUP 1 200
@dWA1tM Uwc%'=@ OBI INDEX 0 1
)|~&(+Q?] TRACE P 0 0 200
ZcN0:xU ;6G]~}>o OBI INDEX 0 0
6}^x#9\ RED
q+?&w'8 TRACE P 0 0 200
hX.cdt_? uY]';OtG OBI INDEX 0 -1
7Qd4L. GREEN
6] x6FeuS PUPIL 1 200
>w3C
Ku< TRACE P 0 0 200
WLUgiW(0$ END
x{1 v(n8+=
MhMiSsZ !db=Iz5) 评估光线分布的方法:
w
<r*& 1.查看在最终表面上的足迹图
y\FQt];z) 在Edit Window中输入:
Z",0 $Gxu REh"/d PUPIL 1 400
*~PB RED
/TMVPnvz. OBI IND 0 0
$u<;X^ PLOT 2 1 0 0
G4|C227EO TRACE P 0 0 400
{"p ~M7 OBI IND 0 1
XJ7B?Zg BLUE
OxJHhF TRACE P 0 0 400
>WZ.Dj0n OBI IND 0 -1
jJ2rfdfj GREEN
VzT*^PFBg TRACE P 0 0 400
D$FTnY END
,$6si
*d8
%FQ nAP*w6m0j Es[3Ppz 2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像
模型,再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。
aj?ZVa6 +Z"Wa0wA OBI INDEX 0 1
=c6d$ GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS
@1j*\gYz OBI INDEX 0 0
@WazSL;N GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
eEqcAUn OBI INDEX 0 -1
9O- otAGM GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
6nA9r5Ghv _N5pxe` FOR RECTANGLE
dw6ysOR@ SIZE 5 5
,zjz "7' VARY Y POSITION FROM -50 TO 50
gbdzS6XW~ PLOT
PcsYy]Q/ 这里,为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形
探测器从下到上对其进行检查。
?8753{wk
:a8Sy(" <SE-:T]sBz 3.使用另一个特性
照明模式(IPAT),它会绘制最终表面的照明图案,以便检查最终表面
光束的均匀性。
gYt=_+- 输入格式:
m+M^we*R
J{4=:feIC?