举例:设置三个
光源,每个光源包含在一个圆锥体中,该圆锥体被建模为一个半径非常短的双
曲面。声明该
系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式(PUP 1),设置
光线数为200;使用三种不同颜色追迹三个光源的光线,追迹光线数为200,来绘制一个旋转实体图。
|*"uj RLE
dhpEBJ ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE
C)/uX5 WAVL .6562700 .5875600 .4861300
WK]SHiHD APS 1
YbF}(iM GLOBAL
W'6~`t NOSEQUENTIAL
PhF3' "> UNITS MM
.?9+1.` OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3
l@nkR&4[ 0 AIR
TLzg* 1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000
v:(_-8:F 1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000
Z3Os9X9p 1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR
8SK}#44Xz 1 CC -1.04500000
O`U&0lKi' 1 AIR
@47MJzC 2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000
o0^'xVv 2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR
'x
BBQP 2 AIR
;|e {J$ END
di}YHMTx :<4:h.gO8 RSOL 10 20 2 0 123
Q^4j PLOT
Ks:~Z9r} mw";l$Aq} BLUE
fQc2K|V PUP 1 200
#bgW{&_y X64OX9:YF OBI INDEX 0 1
:ak D TRACE P 0 0 200
Z=n#XJO15 \ Xow#@[ OBI INDEX 0 0
DesvnV'{`
RED
[R-4e; SRh TRACE P 0 0 200
6?Ul)' n}PK0 OBI INDEX 0 -1
)vO;=%GQ GREEN
~` v7 PUPIL 1 200
.g_BKeU TRACE P 0 0 200
z|[#6X6tT END
fRC(Yyx
,A9pj k' IO~d.Ra 评估光线分布的方法:
zd AqGQfc 1.查看在最终表面上的足迹图
#=UEx
在Edit Window中输入:
p"f=[awp 3/mVdU?U PUPIL 1 400
mz;S*ONlV RED
uhvmh OBI IND 0 0
(-Rh%ZHH PLOT 2 1 0 0
rMAH YH9 TRACE P 0 0 400
[,)yc/{* OBI IND 0 1
|xyr6gY BLUE
| iEhe TRACE P 0 0 400
5f2ah4 g OBI IND 0 -1
]C^D5(t/cd GREEN
[?VYxX@ TRACE P 0 0 400
'{WYho! END
Y\luz`v
p%
ESp& 4&;.>{:; BFmYbK 2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像
模型,再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。
vUl5%r2O4 "f\2/4EIl OBI INDEX 0 1
'gd3 w~ GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS
[?$ZB),L8 OBI INDEX 0 0
x;"! GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
peqoLeJI OBI INDEX 0 -1
aZ^P*|_K3 GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
!U.Xb6 fI(u-z~, FOR RECTANGLE
o.U$\9MNP SIZE 5 5
`"QUA G VARY Y POSITION FROM -50 TO 50
R>H*MvN PLOT
QxCZ<| 这里,为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形
探测器从下到上对其进行检查。
D ODo
!
_l,?Y;OF -G&>b
D 3.使用另一个特性
照明模式(IPAT),它会绘制最终表面的照明图案,以便检查最终表面
光束的均匀性。
q#wg2 输入格式:
;Vc@]6Ck
Q#P=t83