举例:设置三个光源,每个光源包含在一个圆锥体中,该圆锥体被建模为一个半径非常短的双曲面。声明该系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式(PUP 1),设置光线数为200;使用三种不同颜色追迹三个光源的光线,追迹光线数为200,来绘制一个旋转实体图。 5KJN](x+
RLE dxlaoyv:
ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE {.2A+JT,
WAVL .6562700 .5875600 .4861300 tE/s|v#O
APS 1 }YHoWYR
GLOBAL O#Ab1FQn
NOSEQUENTIAL jj8AV lN
UNITS MM ot P7;l
OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3 _A%} >:q
0 AIR T!eb=oy
1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000 j;eR9jI$T
1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000 z8+3/jLN0B
1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR 5DKR1z:
1 CC -1.04500000 NZ`W`#{
1 AIR u=
(
kii=/
2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000 HgY"nrogt$
2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR )|f!}( p
2 AIR DzX5_ kA
END w@Ut[
;6^
lqe;lWC0Z
RSOL 10 20 2 0 123 rgheq<B:
PLOT aloP@U/\Sn
Pb=J4Lvz(d
BLUE `WHP#z
PUP 1 200 Kxb_9y0`r
jE_a++
OBI INDEX 0 1 b8v?@s~
TRACE P 0 0 200 rWI6L3,i+
bJ~]nj 3
OBI INDEX 0 0 2w93 ~j
RED 'VCF{0{H~
TRACE P 0 0 200 hh`7b ,+ 4
n?vrsqmZ
OBI INDEX 0 -1 iO4YZ!
GREEN DOiL3i"H
PUPIL 1 200 e"P>b? OY
TRACE P 0 0 200 YuXq
END !q!.OQ
09pnM|8A
SN O'*?
评估光线分布的方法: 5F$ elW
1.查看在最终表面上的足迹图 GMRw+z4
在Edit Window中输入: dN
J2pfvv
~=i9]%g?
PUPIL 1 400 5
rkIK
RED z
7OTL<h
OBI IND 0 0 I:[^><?E
PLOT 2 1 0 0 K"-.K]O8E%
TRACE P 0 0 400 _c?&G`
OBI IND 0 1 ]cLO-A
BLUE u-0-~TwD
TRACE P 0 0 400 4M'y9 (
OBI IND 0 -1 p7}xgUxX
GREEN ?n9gqwO
TRACE P 0 0 400 !_)*L+7f_
END Jj}+tQf
l[mXbQd
rI)op1K
}6MHIr=o
2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像模型,再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。 smW
7zGE
Fu:VRul=5$
OBI INDEX 0 1 eS9uKb5n(
GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS ZAVj q;bq
OBI INDEX 0 0 H->J.5~,K
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS Zoh[tO
OBI INDEX 0 -1 GV'Y'
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS ZW
n j-
NL%5'8F>,
FOR RECTANGLE > f,G3Ay
SIZE 5 5 VeidB!GyP
VARY Y POSITION FROM -50 TO 50 -bT1Qh
X
PLOT gnF]m0LR
这里,为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形探测器从下到上对其进行检查。 hDI_qZ
8?AFvua}r
?bu-6pkx]
3.使用另一个特性 照明模式(IPAT),它会绘制最终表面的照明图案,以便检查最终表面光束的均匀性。 <z+5+h|^
输入格式: AdDlS~\?
f"j~{b7