举例：设置三个
光源，每个光源包含在一个圆锥体中，该圆锥体被建模为一个半径非常短的双
曲面。声明该
系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式（PUP 1），设置
光线数为200；使用三种不同颜色追迹三个光源的光线，追迹光线数为200，来绘制一个旋转实体图。
CC?L~/gPN RLE
f{s}[ p~ ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE
l* ~ ".q;S WAVL .6562700 .5875600 .4861300
P0 R8
f APS 1
,ALE fepo GLOBAL
@|3PV NOSEQUENTIAL
s8i@HO UNITS MM
Fj q~^_8 OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3
Wq5 Nc 0 AIR
\^l273 1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000
8G GC)2 1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000
zk\YW'x|r 1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR
BKd03s= 1 CC -1.04500000
:Nr y | 1 AIR
PubO|Mf 2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000
<oFZFlY@ 2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR
oP[ R?zN 2 AIR
[(*ObvEF END
I.C,y\ ]@Gw$ RSOL 10 20 2 0 123
;nzzt~aCC PLOT
UbWeE,T~S UEm~5,>$0 BLUE
#*J+4a w3 PUP 1 200
`$kKTc:f d&N[ \5 q OBI INDEX 0 1
"pa}']7# TRACE P 0 0 200
[ I
XX#^F |.asg OBI INDEX 0 0
w +^z{3> RED
hxt,%al TRACE P 0 0 200
nnw5
!q_ a$}n4p OBI INDEX 0 -1
28u3B2\$ GREEN
N;\G=q]
9 PUPIL 1 200
*hm;C+<~ TRACE P 0 0 200
f( %r)% END
7v{X?86& 
APne! 1Tb'f^M$ 评估光线分布的方法：
ap
5D6y+ 1.查看在最终表面上的足迹图
A2C|YmHk 在Edit Window中输入：
3#d? _^Ds[VAgA PUPIL 1 400
Or({|S9d2 RED
;*~ y4'{z OBI IND 0 0
=1:dK o8 PLOT 2 1 0 0
:)djHPP* TRACE P 0 0 400
].A>ORS/ OBI IND 0 1
|i/Iv BLUE
E/<5JhI9~ TRACE P 0 0 400
[@"7qKd1 OBI IND 0 -1
Ao2m" ym GREEN
K3CT xU( TRACE P 0 0 400
&,4 3&pFU END
>TnV
Lx< 
&5x
]9 l^LYSZg'R8 1@i 8ASL 2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像
模型，再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。
#]g9O ?0$ H@j
D % OBI INDEX 0 1
+"~~; J$ GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS
4ONou&T OBI INDEX 0 0
Vm3e6Y,K GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
``Yw-|&:Ae OBI INDEX 0 -1
Ep s2 GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
"Z\^d R +W xZB FOR RECTANGLE
=7*k>]o SIZE 5 5
65@,FDg*i VARY Y POSITION FROM -50 TO 50
)/B'
ODa PLOT
T({]fc!c 这里，为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形
探测器从下到上对其进行检查。
&*w)/W 
NHL -ll-R Q\! 0V@$ 3.使用另一个特性
照明模式（IPAT），它会绘制最终表面的照明图案，以便检查最终表面
光束的均匀性。
PX5K-|R 输入格式：
_ +"V5z 
x|TLMu=3=
