举例:设置三个光源,每个光源包含在一个圆锥体中,该圆锥体被建模为一个半径非常短的双曲面。声明该系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式(PUP 1),设置光线数为200;使用三种不同颜色追迹三个光源的光线,追迹光线数为200,来绘制一个旋转实体图。 !2\ r LN
RLE A$0H
.F>
ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE 2Q7R6*<N:
WAVL .6562700 .5875600 .4861300 &K_)#v`|
APS 1 0Q,g7K<d
GLOBAL v dbO(
NOSEQUENTIAL M4LP$N
UNITS MM ;rI@*An
OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3 ',3HlOJ:
0 AIR B0$:b!
1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000 ^VW
PdH/Fe
1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000 2I3h
MD0
1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR hDP/JN8y
1 CC -1.04500000 bUV >^d
1 AIR U/ V
2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000 %R#L
2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR NqHy%'R
2 AIR 5wB =>
END 8bK|:B#6,
Sgim3):Z
RSOL 10 20 2 0 123 +;BAV
PLOT r0t^g9K0
.LVQx
BLUE 3P~o"a>
PUP 1 200 2n><RZ/9
eg<bi@C1|
OBI INDEX 0 1 kh~'Cn "O
TRACE P 0 0 200 V6$xcAE"</
0tISXu-
OBI INDEX 0 0 D.D$#O_n.S
RED 'K@|3R
TRACE P 0 0 200 m^' uipa\
#Lsnr.80
OBI INDEX 0 -1 UX-&/eScN
GREEN kp?w2+rz
PUPIL 1 200 dca;'$
TRACE P 0 0 200 CO-_ea U(
END dpQG[vXe
Gir#"5F
NW~z&8L
评估光线分布的方法: DU%w1+u
1.查看在最终表面上的足迹图 Ze<K=Q%(i
在Edit Window中输入: IJTtqo
ZZQG?("S'
PUPIL 1 400 W{z.?$SH
RED $,I q;*7N
OBI IND 0 0 {NpM.;
PLOT 2 1 0 0 !-s!f&_
TRACE P 0 0 400 *"9><lJ-!
OBI IND 0 1 &aM7T_h8
BLUE FYs)MO
TRACE P 0 0 400 PcB_oG g
OBI IND 0 -1 01!s"wjf
GREEN -(#I3h;I
TRACE P 0 0 400 xI,2LGO
END '65LKD
IUR<.Y`
vVGDDDz/
HM>lg`S
2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像模型,再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。 "5cM54Z0
wf,7==
OBI INDEX 0 1 f%5zBYCgC
GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS G!4(BGx&
OBI INDEX 0 0 Gm*X'[\DD
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS Y*_)h\f
OBI INDEX 0 -1 A+@&"
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS $R<Me
0G!]=
FOR RECTANGLE I ZQHu h
SIZE 5 5 FP[!BUOf"
VARY Y POSITION FROM -50 TO 50 E.1J2Ne
PLOT a^ ,(v
这里,为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形探测器从下到上对其进行检查。 keRE==(D
4Llo`K4
"~TA SX_?
3.使用另一个特性 照明模式(IPAT),它会绘制最终表面的照明图案,以便检查最终表面光束的均匀性。 KfF!{g f
输入格式: U%0Ty|$Y
1+?^0%AC