举例:设置三个光源,每个光源包含在一个圆锥体中,该圆锥体被建模为一个半径非常短的双曲面。声明该系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式(PUP 1),设置光线数为200;使用三种不同颜色追迹三个光源的光线,追迹光线数为200,来绘制一个旋转实体图。 ExG(*[l
RLE eu5te0{G
ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE CtY-Gs
WAVL .6562700 .5875600 .4861300 o^epXIrIPi
APS 1 g}%ODa !H
GLOBAL CFFb>d
NOSEQUENTIAL n~629 &
UNITS MM [+o{0o>
OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3 F>\,`wP
0 AIR CmB_g?K
1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000 Q# hRnM
1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000 g!^N#o
1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR /[TOy2/;%b
1 CC -1.04500000 i\CA6I
1 AIR 2_pF#M9
2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000 xCZ_x$bk
2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR 44e]sT.B
2 AIR 2E40&
END W5u5!L/
'bx}[
RSOL 10 20 2 0 123 e]1=&:eX#d
PLOT ]\yB,
IBNg2Y
BLUE _4>DuklH,
PUP 1 200 [h-6;.e
+ nR("Il
OBI INDEX 0 1 jnqp"
Ult>
TRACE P 0 0 200 :=Zd)i)3
P8c_GEna
OBI INDEX 0 0 )>ML7y
RED [j@ek
TRACE P 0 0 200 im*sSz 0 (
JM;bNW8
OBI INDEX 0 -1 4(\1z6?D
GREEN $R}C(k
;?
PUPIL 1 200 ; Pk"mC
TRACE P 0 0 200 21OfTV-+3
END 3@=<4$
vGyQ306
XI`_PQco
评估光线分布的方法: SLuQv?R}9
1.查看在最终表面上的足迹图 _ %mm
在Edit Window中输入: Mzg'$]N
(m1m}* @
PUPIL 1 400 #w L(<nE
RED lSR\wz*Fk
OBI IND 0 0 d*+}_EV)Y3
PLOT 2 1 0 0 Nd>zq
TRACE P 0 0 400 Sp[9vlo8
OBI IND 0 1 N,w6
BLUE >*!T`P}p
TRACE P 0 0 400 :(enaHn#~
OBI IND 0 -1 R}Zaz3( Hd
GREEN :vi %7
TRACE P 0 0 400 F-@yH
END f #h0O3
HV!P]82Pa
6No.2Oo
Vc'p+e|(
2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像模型,再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。 wSjy31
Rb<|
<D+
OBI INDEX 0 1 3wN4kltt
GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS cMi9 Z]
OBI INDEX 0 0 >kAJS??
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS ?Ho$fGz
OBI INDEX 0 -1 Mxz
X@GBX
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS ~oOv/1v},
3Dc^lfn
FOR RECTANGLE }c/#WA|b
SIZE 5 5 Q\X_JZ
VARY Y POSITION FROM -50 TO 50 [
2@Lc3<
PLOT bY`Chb.
这里,为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形探测器从下到上对其进行检查。 0D:uM$
i]
VFV8ik)
h%:wIkZ/
3.使用另一个特性 照明模式(IPAT),它会绘制最终表面的照明图案,以便检查最终表面光束的均匀性。 BCExhp
输入格式: )FB<gCh7X
*RkvM?o@jC