举例：设置三个
光源，每个光源包含在一个圆锥体中，该圆锥体被建模为一个半径非常短的双
曲面。声明该
系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式（PUP 1），设置
光线数为200；使用三种不同颜色追迹三个光源的光线，追迹光线数为200，来绘制一个旋转实体图。
=L; n8~{@y RLE
&B5 Rzz-' ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE
Sm I8&c WAVL .6562700 .5875600 .4861300
NN pa69U APS 1
>5@ 0lYhH GLOBAL
W!9f'Yn NOSEQUENTIAL
Yr(f iI UNITS MM
+iDz+3v( OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3
6V_5BpX t 0 AIR
U>M>FZ 1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000
+w}%gps 1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000
@Oc}\Rg 1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR
K/LaA4 1 CC -1.04500000
E=U^T/ 1 AIR
H(ftOd.y 2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000
58gt*yVu 2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR
~s ja^ 2 AIR
P6 Z,ci17 END
lV *&^Q8. 9mtC"M<
RSOL 10 20 2 0 123
)d a8 Ru PLOT
"lj:bxM2C _xwfz]lb+ BLUE
$,@ + Ua
PUP 1 200
Wv'B[; [) Uc;IPS OBI INDEX 0 1
(YH{%8
Z0 TRACE P 0 0 200
y]z# ? ? :QY 9p T OBI INDEX 0 0
v?' k)B RED
Mh B=+S[@ TRACE P 0 0 200
L1w4WFWO si4=C OBI INDEX 0 -1
$fpDABf GREEN
j 3'/jk]\ PUPIL 1 200
Iz=E8R g TRACE P 0 0 200
ov.rHVeI END
/u1zRw 
97
X60< x-k /rZ 评估光线分布的方法：
n 6+M qN 1.查看在最终表面上的足迹图
6*oTT(0<p 在Edit Window中输入：
BP><G^ _5 -"< PUPIL 1 400
*wl_8Sis} RED
ep1Aj z.l OBI IND 0 0
GdwHm PLOT 2 1 0 0
E*]L]v R TRACE P 0 0 400
Tfs9< k>G# OBI IND 0 1
VH*(>^Of F BLUE
&%51jM< TRACE P 0 0 400
Xst}tz62F OBI IND 0 -1
T[K?A+ l GREEN
dKG<" TRACE P 0 0 400
ol>=tk 8} END
4p g(QeR 
SQCuY<mD D#(Pg q "vT]=Y}: 2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像
模型，再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。
#!<s& f|O uB9+E%jOdQ OBI INDEX 0 1
n m$G4Q GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS
gU$3Y#R OBI INDEX 0 0
jDR\#cGrZ GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
4ov~y1Da) OBI INDEX 0 -1
gKEvgXOj GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
3Q6#m3AWY r+obm)Qtp FOR RECTANGLE
"A$Y)j<#G SIZE 5 5
0;`PHNBq VARY Y POSITION FROM -50 TO 50
UzRF'<TWf PLOT
[IW7]Fv<F 这里，为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形
探测器从下到上对其进行检查。
z(a:fL{/XG 
7E] l=Z`x 5 rhdm?Ls0 3.使用另一个特性
照明模式（IPAT），它会绘制最终表面的照明图案，以便检查最终表面
光束的均匀性。
eS+LF S7*k 输入格式：
T{Q& }`D)r 
m) 2U-3*iX
