举例:设置三个光源,每个光源包含在一个圆锥体中,该圆锥体被建模为一个半径非常短的双曲面。声明该系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式(PUP 1),设置光线数为200;使用三种不同颜色追迹三个光源的光线,追迹光线数为200,来绘制一个旋转实体图。 l`S2bb6uMR
RLE e
:(7$jo
ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE w$Zi'+&*
WAVL .6562700 .5875600 .4861300 <$6r1y*G
APS 1 6V{Sf9V|
GLOBAL Ass :
NOSEQUENTIAL ~m:oJ+:O
UNITS MM kiYHJ\a
OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3 %b8ig1
0 AIR _{Q)5ooP
1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000 - BQoNEh
1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000 `fTH"l1zn
1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR _yH{LUIj
1 CC -1.04500000 8DAHaS;
1 AIR ~
_ ogeD
2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000 O;zq(/,-l
2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR j) G<PW
2 AIR }
Xbmb8
END 4= 7#=F1
JXFPN|
RSOL 10 20 2 0 123 3jSt&+
PLOT JVfSmxy.
+2:\oy}!8
BLUE sfD@lW3
PUP 1 200 0d>|2QV
0m2%ucKw
OBI INDEX 0 1 &>nB@SQZ
TRACE P 0 0 200 7+!FZo{?
rra|}l4Y
OBI INDEX 0 0 k4N_Pa$}\
RED n["G
ry
TRACE P 0 0 200 '80mhrEutG
d-X6yRjnj
OBI INDEX 0 -1
2:5Go
GREEN ?04jkq&
PUPIL 1 200 >W?i+,g
TRACE P 0 0 200 + d?p? v
END u-s*3Lg&
/penB[1i
\wZ
4enm
评估光线分布的方法: \wjT|z1+Y
1.查看在最终表面上的足迹图 :)9CG!2y<M
在Edit Window中输入: SEKR`2Zz,
7sX#6`t
PUPIL 1 400 $^TxLv
RED et`1#_o
OBI IND 0 0 @23?II$=@
PLOT 2 1 0 0 'hGUsi
TRACE P 0 0 400 j.]ln}b/'+
OBI IND 0 1 #]rfKHW9
BLUE XWq`MwC9
TRACE P 0 0 400 R|m!*B~
OBI IND 0 -1 d Dg[ry
GREEN wiFA3_\G
TRACE P 0 0 400 *P01 yW0
END "g5<j p
"cZ ){w
9kzJ5}
?]%ZJd
2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像模型,再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。 E8/Pi>QW
m2a[E0
OBI INDEX 0 1 2tw3 =)
GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS i}L*PCP
OBI INDEX 0 0 {^@vCBE+
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS )H1\4LeP
OBI INDEX 0 -1 l5T0x=y9!
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS " k0gZb
#Zg pm"MW
FOR RECTANGLE r1&eA% eh
SIZE 5 5 Qef5eih
VARY Y POSITION FROM -50 TO 50 ^:^
PLOT h.pVIO`
这里,为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形探测器从下到上对其进行检查。 u0Bz]Ux/Q
gJH^f3
HIqe~Vc
3.使用另一个特性 照明模式(IPAT),它会绘制最终表面的照明图案,以便检查最终表面光束的均匀性。 0 wjL=]X1e
输入格式: mIe 5{.m#
/EW=OZ/