举例:设置三个光源,每个光源包含在一个圆锥体中,该圆锥体被建模为一个半径非常短的双曲面。声明该系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式(PUP 1),设置光线数为200;使用三种不同颜色追迹三个光源的光线,追迹光线数为200,来绘制一个旋转实体图。 p TV@nP
RLE C4SD
ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE YV _I-l0
WAVL .6562700 .5875600 .4861300 {;(g[H=q;
APS 1 [k&s!Qp
GLOBAL 5z(>4 d!
NOSEQUENTIAL x8rFMR#S=
UNITS MM 4Z
T
OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3 (+Nmio
0 AIR ;x0 KaFk
1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000 aXid;v,
1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000 5SWX v+
1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR 3=L1H ZH
1 CC -1.04500000 g]#zWTw(
1 AIR *~oDP@[S
2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000 t-|=weNy
2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR [\%t<aa
2 AIR &= yqWW?
END A`U 2HC
Ud(d Wj-/
RSOL 10 20 2 0 123 HgBEV
PLOT wqoN@d
Y(!)G!CMc
BLUE E_I6
PUP 1 200 \iLd6Qo_aq
}lvP|6Y: y
OBI INDEX 0 1 E|A_|FS&%
TRACE P 0 0 200 AJ1$$c
#?d>S;)+
OBI INDEX 0 0 SrU
RED ;\&bvGj8V
TRACE P 0 0 200 %fSk
"%u%<
cXEy>U|/
OBI INDEX 0 -1 zm S-s\$,
GREEN b({b5z.A
PUPIL 1 200 g$+O<a@ n
TRACE P 0 0 200 ?*5l}y=
END ez9M]! 8Lt
J-{E`ibGN
=&G|} M
评估光线分布的方法: X1~A "sW[
1.查看在最终表面上的足迹图 D)eKq!_
在Edit Window中输入: }8KL]11b
S gsR;)2
PUPIL 1 400 dz.MH
RED kK6>>lD'
OBI IND 0 0 xF>w r
r
PLOT 2 1 0 0 bL#TR;*]
TRACE P 0 0 400 Rl!WH%;c[X
OBI IND 0 1 j%<@uiu
BLUE :[?o7%"
TRACE P 0 0 400 !g:G{b
OBI IND 0 -1 rpI7W?hh
GREEN rca"q[,
TRACE P 0 0 400 g/Nj|:3
END WC&Ltw8
J)&+y;.
o)
?1`7^BA
<iqyDPj
2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像模型,再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。 MX_a]$\:n
R20GjWy=
OBI INDEX 0 1 HpC4$JMm
GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS
} R6h
OBI INDEX 0 0 7lOiFw
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS 4T^WRS
OBI INDEX 0 -1 P@?'@.e
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS kpUU'7Q
cO+`8`kv
FOR RECTANGLE z,P7b]KVe
SIZE 5 5 PiQs><FK8
VARY Y POSITION FROM -50 TO 50 hfc!M2/w
PLOT c$z_Zi!g#
这里,为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形探测器从下到上对其进行检查。 W5;sps
/;ITnG
![n`n(oN
3.使用另一个特性 照明模式(IPAT),它会绘制最终表面的照明图案,以便检查最终表面光束的均匀性。 / /rWc,c
输入格式: !XC7FUO
e5]0<s$