举例:设置三个光源,每个光源包含在一个圆锥体中,该圆锥体被建模为一个半径非常短的双曲面。声明该系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式(PUP 1),设置光线数为200;使用三种不同颜色追迹三个光源的光线,追迹光线数为200,来绘制一个旋转实体图。 ,oh;(|=
RLE dzBP<Xyh
ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE huS*1xl
WAVL .6562700 .5875600 .4861300 D[ #V
APS 1 6o7t eX
GLOBAL E_aBDiyDf
NOSEQUENTIAL 9O:l0
l
UNITS MM 2jC` '8
OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3 /1v9U|j
0 AIR mHHlm<?]
1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000 ^a_a%ws
1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000 e1LIk1`p
1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR |5tZ*$nGa
1 CC -1.04500000 xE
w\'tH
1 AIR 4|E^
#C
2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000 uBa<5YDF
2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR R-j*fO}
2 AIR Uu5(/vw]
END uT4|43<
G
C_kuW+H
RSOL 10 20 2 0 123 V(F9=r<X
PLOT -]HZ?@
(=Cb)/s0
BLUE %&yPl{
PUP 1 200 ~cCMLK em
?nGi if
OBI INDEX 0 1 UGI<V!
TRACE P 0 0 200 cQyN@W
<cp9+P <
OBI INDEX 0 0 o~IAZU39
RED ^ls@Gr7`P
TRACE P 0 0 200 `.@sux!lu
X!ruQem /
OBI INDEX 0 -1 c\1X NPGG
GREEN |cf-S8pwY
PUPIL 1 200 @m9pb+=v
TRACE P 0 0 200 W&*&O,c
END eMC^ORdY
31a,i2Q4
"mW'tm1+
评估光线分布的方法: L^
J|cgmNw
1.查看在最终表面上的足迹图 dA~:L`A|X
在Edit Window中输入: GXVx/)H
*y?HaU
PUPIL 1 400 4SJ aAeIZ
RED oQ<[`.s
OBI IND 0 0 D4!;*2t
PLOT 2 1 0 0 0% rDDB
TRACE P 0 0 400 -[L\:'Gp5
OBI IND 0 1 @%Ld\8vdfJ
BLUE M?eP1v:<+G
TRACE P 0 0 400 v'@gUgC
OBI IND 0 -1 T+}|$/Tv
GREEN mvEhP{w
TRACE P 0 0 400 K=[7<b,:3
END 2{rWAPHgz
]`&_!T
6(bN*.
l#KcmOz
2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像模型,再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。 Cdz&'en^
)t|:_Z
OBI INDEX 0 1 l/'GbuECm
GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS 0+FPAqX
OBI INDEX 0 0 )4
4Y`v
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS L/tpT?$fi
OBI INDEX 0 -1 sm/aL^4
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS !E 5FU *s
L@S\ rImw
FOR RECTANGLE D$}8GYq
SIZE 5 5 pux IJ
VARY Y POSITION FROM -50 TO 50 |u>(~6
PLOT "[_j8,t`
这里,为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形探测器从下到上对其进行检查。 f CU]
Zd[rn:9\
@s LN
3.使用另一个特性 照明模式(IPAT),它会绘制最终表面的照明图案,以便检查最终表面光束的均匀性。 =OHX5:Z
输入格式: &j F'2D^_
yW|J`\`^T