举例:设置三个光源,每个光源包含在一个圆锥体中,该圆锥体被建模为一个半径非常短的双曲面。声明该系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式(PUP 1),设置光线数为200;使用三种不同颜色追迹三个光源的光线,追迹光线数为200,来绘制一个旋转实体图。 ym` 4v5w
RLE A[F@rUZp
ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE }QCn>LXE
WAVL .6562700 .5875600 .4861300 X-CoC
APS 1 McbbEs=)
GLOBAL >~'z%
NOSEQUENTIAL lQRtsmZ0
UNITS MM %n,_^voE
OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3 )RWY("SUy1
0 AIR K|D1
1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000 fU.z_T[@
1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000 2PNe~9)*#
1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR $
\!OO)
1 CC -1.04500000 6!Mm")
1 AIR >C5u>@%9O
2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000 f"4w@X2F
2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR M`*
BS
2 AIR #7YJ87<E
END Da)_O JYE
&
\C1QkI
RSOL 10 20 2 0 123 yI-EF)A@;
PLOT <a+@4d;
W]>%*n
BLUE (7$BF~s:,
PUP 1 200 SUvrOl
D mky!Cp
OBI INDEX 0 1 g^jTdrW/s
TRACE P 0 0 200 >oi?aD%
L)9Z Op5
OBI INDEX 0 0 ^oE#;aS
RED >$a;+v
TRACE P 0 0 200 ~g@}A
5Z:qU{[
OBI INDEX 0 -1 C/9]TkX}q
GREEN e;|$nw-
PUPIL 1 200 &2ty++gC
TRACE P 0 0 200 u&o$2
'8
END mwZ)PySm)
2^r J|Ni
eq<!
评估光线分布的方法: Z@>kqJ%
1.查看在最终表面上的足迹图 r'o378]=
在Edit Window中输入: ]8'PLsS9<w
tCwB7c-
PUPIL 1 400 v}IhO~`uEq
RED /cvMp#<]
OBI IND 0 0 )NqRu+j
PLOT 2 1 0 0 fILvEf4b
TRACE P 0 0 400 5IF$M2j
OBI IND 0 1 bg)}-]u]
BLUE p|BoEITL
TRACE P 0 0 400 .t&G^i'n
OBI IND 0 -1 *=T(ncR['
GREEN NQvI=R-g
TRACE P 0 0 400 EP+LK?{%
END % w
|TR
+Wn
uaky2SgN
":GC}VIS
2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像模型,再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。 (I35i!F+tY
y3PrLBTz
OBI INDEX 0 1 # nAq~@X
GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS 3 4&xh1=3
OBI INDEX 0 0 !E)|[:$XT
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS GY^;$ ?
OBI INDEX 0 -1 (qz)3Fa
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS {lgiH+:
q1ZZ T"'
FOR RECTANGLE lJT"aXt'M
SIZE 5 5 !DF5NAE
VARY Y POSITION FROM -50 TO 50 )%lPKp4]
PLOT 8N3y(y0
这里,为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形探测器从下到上对其进行检查。 sc6NON#
l/\D0\x2
$q.}eb0
3.使用另一个特性 照明模式(IPAT),它会绘制最终表面的照明图案,以便检查最终表面光束的均匀性。 \wK4bvUrX
输入格式: f/iMI)J
RAuVRm=E