摘要
Xa)7`bp< 4V1|jy3 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
\"t`W: r.9 $y/5 J7_8$B-j7 {aT92-D3 建模任务
D?%e"*> 1aVgwAI
&`m~o/ 概述
lR, G; ]2P/G5C3tU •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
<jg8y'm@0 •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
Up'."w_zE {;\% !I D)h["z|F 7f[8ED[4 光线追迹仿真
sBbL~ce50? jzQ9zy_ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
g:;Ya?5 N •单击go！
juR •获得了3D光线追迹结果。
$,g 3*A 5 =*@l t
]71 F>TYVxQ 光线追迹仿真
e
W9)@nVJ Q.*'H_Y •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
O~nBz):2 •单击go！
Z"4VH rA •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
m)(SG ]<Z&=0i# 9 8xc8L1; an pJAB:1 场追迹仿真
neK*jdaP x_]",2 W' •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
kbD*=d}3{ •单击go！
_, 1 1EeW@ F fZ{%E wVlSjk PXOq# 场追迹仿真（相机探测器）
q#l. A?rK\ : v|r= #OI •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
\,$r,6-g •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
;G i I'M 3- 4Nad b/T20F{W\o 'O!Z:-qE 场追迹仿真（电磁场探测器）
*Pa2bY3: •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
|TC3 *Y aE%eJ)+K ru#T^AI*^ 2O}s*C$Xav 场追迹仿真（电磁场探测器）
GZxglU,3T `;zu1o •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer C5.\;;7^& -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination p,M3#^ q }rFsU\]:q （来源：讯技光电）
