摘要
#)`\!)? ^aHh{BQ% 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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z&>|*C.Y FQ!Oxlq,Q 建模任务
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m:3J!1 概述
xDUaHE1co 1}nm2h1 I •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
2uL9.q •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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hiN/S|JN8y BGzO!s*@j 光线追迹仿真
/BKtw8 x6%#wsvS •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
!k-` eJ| •单击go!
EHhd;,;O •获得了3D光线追迹结果。
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-njQc:4W,- M~p=#V1D 光线追迹仿真
)2V@ p~k? G0/>8_Q>Nr •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
:Y^I]`lR" •单击go!
|xeE3,8 •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
{ *$9, fI]b zv;
C_Gzv'C"L 'evv,Q{87 场追迹仿真
>A=\8`T^ wS%zWdsz •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
4TVwa(cB •单击go!
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c{VJ2NQ+ ="dDA/,$VS 场追迹仿真(相机探测器)
\igaQ\~ gc,Ps •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
M _ (2sq •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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OD|1c6+X " '[hr$h3 场追迹仿真(电磁场探测器)
/< QSe •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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.[(P yC"Zoa6YZ 场追迹仿真(电磁场探测器)
Vhph`[dC{ K(OaW)j •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer On%,l -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination s.rT] .eY`Ri<3t (来源:讯技光电)