摘要
z8Q!~NN-K g* q#VmE 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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:v&[! 94u{k1d x 建模任务
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K p3}A$uV 概述
Z*%;;&? :Ha/^cC/3 •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
L"bOc'GfQ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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;,S|| uN|A}/hr] 光线追迹仿真
l!mbpFt Mt[yY|Ec| •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
3Vb4zZsl •单击go!
Gm=qn]c •获得了3D光线追迹结果。
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3db{Tcn\@] q2qi~}l 光线追迹仿真
$*yYmF o.+;]i}D •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
Yh":>~k?SY •单击go!
[2%[~&4 •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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zC?'Qiuh* {keZ_2 场追迹仿真
OxlA)$.hpu (m~>W"x/ •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
88g3<& •单击go!
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D!<F^mtl `zd,^.i5~ 场追迹仿真(相机探测器)
|.<_$[v[x 8Sbz)X •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
j{@O%fv= •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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p 场追迹仿真(电磁场探测器)
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=y [ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer Y
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Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Nx}nOm AdX))xgl (来源:讯技光电)