摘要
mM .-MIp 4.)hC b 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
fZU#%b6G WZq0$:I;R Ox ;q +5 ~^ *IP1.3 建模任务
as T:/z0 EgO=7?(pW Jolr"F? 概述
'EF Sr!+ E6(OEC%, •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
pC 5 J
'@ •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
yi`Z(j;
s)Bmi JBa( O- T bp G`,[ 光线追迹仿真
2Qg.b- C {=Y%=^! s •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
k2 Yh?OH •单击go！
,H!E :k •获得了3D光线追迹结果。
=fmM=@!$< q] F2bo ;O=tSEe H\]ZtSw8- 光线追迹仿真
S ;DqM;Q D 3 m4:z •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
\sB
a •单击go！
lA[BV7.=7 •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
GKf,1kn s tRU+ 6D
<w JjarMJr| D {KJ !rT 场追迹仿真
7{HJjH!zx FHpS ?htRy •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
NoS|lT •单击go！
(jYHaTL6Y' \6A-eWIQif H^ _[IkuA% v%O KOrJ 场追迹仿真（相机探测器）
b 4`t, D Vae}:8'} •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
l); M(< •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
;Awt: jF * ^R?*vNs G+Ft2/+\ f0rM 4" 1 场追迹仿真（电磁场探测器）
cVjs-Xf7D% •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
PCzC8~t }Z5f5q J})G l vR$[#` X 场追迹仿真（电磁场探测器）
bt3v`q+V r}k2n s9 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
Fd@n#DR ` dg[ &5D1Q Cf@~W)K px6 [1'|g 文件信息
ciR n"X=l _ ; baZ- 5 [{l9 S<do.{|p[ 更多阅读
/ NvHM$5O% +&?#Gdb -
Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer y;zp*(}f$h -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination e UMOV ]h TEQs\d （来源：讯技光电）
