摘要
z9HQFRbo[ 'n:Ft 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
-|[_j$g Z55,S=i d@At-Z~M $%r|V*5 建模任务
zp4ru\ P+}qaup g#[9O'H 概述
";s5It
phXVuQ •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
iZMsN*9[ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
$:u,6|QsS= pDkT_6Q V2 VsJ 8@hzw~> 光线追迹仿真
o95O!5 hl *|t]6!aVLS •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
]nX.zE|F •单击go!
R8'yQ#FVy •获得了3D光线追迹结果。
k 5 "3* ePs<jrB< R1Pnj hsqUiB tc6 光线追迹仿真
^<E+7 rG\m]C3 E •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
MT6kJDyLu •单击go!
&]LwK5SR •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
5?O/Aub pK'WJ
72U >^-[Mpa(* H<1?<1^ 场追迹仿真
t*qA.xc6 K&)a3Z=(. •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
JA(nDD/; •单击go!
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u@!' {Y0I A97, ';ZJuJ. COHJJONR 场追迹仿真(相机探测器)
]UgAz e< CPaun •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
) F~> •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
.oK7E(Q J E`?BaCrG~ ]~K&mNo rmabm\QY 场追迹仿真(电磁场探测器)
i;xg[e8. •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
KPR{5 M:I,j vlPE8U= $U8ap4EXM 场追迹仿真(电磁场探测器)
9~; Ju^b l?R_wu,Q •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer %om7h$D=` -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination B_&PK7vA s Y6'y'a95 (来源:讯技光电)