摘要
:qvI%1cP= #$1og= 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
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x-'~Bu |T4kqW{ 建模任务
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{dnP <X_!x_x 
E_1="&p 概述
: 5U"XY x@ n q1 9 Q) •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
R|P_GN6 > •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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phYDs9-K O I0B:() 光线追迹仿真
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G_b ] •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
}Z`(aDH •单击go！
B(DrY1ztj •获得了3D光线追迹结果。
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p GOSI3RRn 光线追迹仿真
}sxn72, e9^2,:wLB •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
XMRNuEU •单击go！
r,N[ )@ •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
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~/IexQB& &*&?0ov^" 场追迹仿真
"Jy~PcJZ1 x3e]d$ •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
p8+/\Ee]B •单击go！
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|c2v %'J2G Gy@ 7Xf 场追迹仿真（相机探测器）
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df=z F.5 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
0+b 0 < •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
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L _-Hm. WjM>kWv 场追迹仿真（电磁场探测器）
QMk+RM8U •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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D22Lu ;E rwpgBl 场追迹仿真（电磁场探测器）
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ,.g}W~S) -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Q-zdJt C>*n 9l[M~ （来源：讯技光电）
