摘要
DHzkRCM \n0gTwiO% 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
bp%S62Dj e?<D F.Md+ ) `I=oB ,}<RrUfD 建模任务
#!d]PH746 ,?y7,nb };p~A-E= 概述
*?N<S$m Jvj=I82 •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
,n5a] )Dg •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
xid:" y=_& ]) n0MF)p ':sTd^V $8@+j[> 光线追迹仿真
*w 21U! rIlBH*aT •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
Tc_do"uU •单击go!
sVoR?peQ •获得了3D光线追迹结果。
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J(1V!EA ~B]jV$= z8tl0gd%D 光线追迹仿真
Ilef+V^qr A'~#9@l< •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
5H!%0LrJg= •单击go!
\n(ROf^' •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
8KKz5\kn7 LP?P=c X<FOn7qf DZP*x 场追迹仿真
* gHCy4u{ l/F!Bq[*g •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
QQ~23TlA •单击go!
qmID-t" sDAK\#z Gc^t%Ue-H) /f]/8b g> 场追迹仿真(相机探测器)
Um'Ro 4 [D hEh@ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
?OO%5PSe n •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
B~rU1Y) K=o:V& TZBVU&,{Z +9_ ,w bF 场追迹仿真(电磁场探测器)
Dt|fDw$]D •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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uAT/6@ E@mkm 场追迹仿真(电磁场探测器)
%HVD^. V `~h0?g •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer vuW-}fY; -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination G}q<{<+$ X7b!;%3@ (来源:讯技光电)