摘要
$Zf]1?|xa {S5 j; 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
cGS7s 8 U 2g%p9-MO]I z460a[Wl l6< bV#_qe 建模任务
tQcn%C K X> ck.}F ]McDN [h: 概述
6|]e}I@<2 Ogp@! •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
\mDBOC0eK •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
G*rlU M]A!jW tE 9NausE40 n{xL1A=9 光线追迹仿真
?=%#lZ &? |/O_AnGI •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
e2L4E8ST< •单击go！
d2O x:| <) •获得了3D光线追迹结果。
b1-' q^M zfm#yDf x^/453Lk aX|LEZ;D> 光线追迹仿真
(z IIC"~5 B"2#}HM •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
5DnX8t+d •单击go！
Bngvm9k3 •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
4>t=r\"4 vs(x;zpJ OjfumZL# 287)\FU;3 场追迹仿真
"UTAh6[3oD ZA'Qw2fF0 •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
u]s}@(+. •单击go！
n_Bi HMIU' c^`(5}39v =;y(b~ Z'o'd_g>I+ 场追迹仿真（相机探测器）
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[ u TtP2>eh- •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
W4n(6esO •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
}g_\?z3gt do=s=&T %2<u>=6byG Y@Ti2bI`v 场追迹仿真（电磁场探测器）
$gysy!2}. •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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c> =JfSg'7 \#q|.d$ u }WEF *4B! 场追迹仿真（电磁场探测器）
tzdh3\6F 41NVF_R6J •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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#}R 4z 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer jRNDi_u?Wb -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ;eT+ Ly|{ m$}Jw< .W （来源：讯技光电）
