摘要
aJts ?T"crX 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
=v}.sJ V? 1['A1,
!.A>)+AK 4+0Zj+
q"; 建模任务
K`sm H+Wd#7l,
!~#31kL& 概述
l%O-c}X {_JLmyaerZ •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
&DV'%h>i= •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
4KKNw9L) cW2:D$Pe
+y2*[
$n ) w4p_ 光线追迹仿真
:>;#/<3{ iT5%X •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
5VN4A<)) •单击go!
/\.kH62 •获得了3D光线追迹结果。
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:zCm$@ (.cT<(TB 光线追迹仿真
h0`)= BdTj0{S1u •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
C o M8 •单击go!
q:'(1y~ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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mMR[( DI\^+P 场追迹仿真
j(SQNSFD 6 B
) •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
otOl7XF •单击go!
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KNnE5f j EX([J1 场追迹仿真(相机探测器)
{>:2Ff]O: T F'ssD •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
LZeR.8XM> •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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NO&OuiN t :_7O7 场追迹仿真(电磁场探测器)
O;XF'r_ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer m?csake.Me -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination A_2ppEG 8z+ CYeV (来源:讯技光电)