摘要
wG1y,u' #?{qlgv<p 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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keLR1qf {O^TurbTFA 建模任务
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0K<x=-cCB 概述
Ia629gi5s UJz#QkAio •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
&<,SV^wag •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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bI Op P+<BOG|m 光线追迹仿真
CjZZm^O n*Q`g@` •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
P|e`^Frxt •单击go!
bGv*-;* •获得了3D光线追迹结果。
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#HeM,;Xp !;%y$$gxh 光线追迹仿真
kG/X"6pZ }A]BpSEP •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
dUS ZNY •单击go!
aG%kmS&fv •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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$~ E\0X`QeY 场追迹仿真
<FY&h# u~W{RHClW •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
jM~Bu.7 i6 •单击go!
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V
B2 c@kru #,L~w 场追迹仿真(相机探测器)
$I@GUtzjp 5IW8=$k~.) •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
DkgUvn/S •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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yGTziv! m9$ a"$c 场追迹仿真(电磁场探测器)
rK1-Mu •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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;QBh;jg4 KOey8tB)1 场追迹仿真(电磁场探测器)
zB*euHIqZ 2j&v;dmh< •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer xzsdG?P -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination <8!
Tq \'Ssn(s (来源:讯技光电)