摘要
ki1(b]rf C-M_:kQ[U 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
*g5bdQ:Av~ "vGh/sXW oR#W@OK@is j6%W+;{/pj 建模任务
gt{kjrTv& s`yzeo "GMU~594 概述
U]hqRL Hq.rG-,p •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
aH}/+Hu- •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
bBIh}aDN 0ix(1`Z *aErwGLB8 e=;A3S 光线追迹仿真
1UP
{j`-K| >n7h%c •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
HT<p=o'$Z •单击go!
^0]0ss;##R •获得了3D光线追迹结果。
8}n<3_
f' A$':Y BTAbDyH5 ^4=#,K 光线追迹仿真
Q/o,2R |[],z 8 •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
N~/'EaO •单击go!
i1evB9FZ1z •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
UPtj@gtcY h,/Aq UL[,A+X8D ("U<@~ 场追迹仿真
L{/%
"2> L<FXtBJ •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
$+j1^ •单击go!
E&9<JS ixA.b#!1 '$FF/|{ x2v0cR"KL 场追迹仿真(相机探测器)
k4Q>J,k V]|X
,G •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
,I"T9k-^ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
`r$7Cc$C 8 a]'G)(ts )j;^3LiV3 C1^%!) 场追迹仿真(电磁场探测器)
97liSd •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
q7 PCMe ;6/WjUDw<| WW:G(
\` 1L,L/sOwB& 场追迹仿真(电磁场探测器)
ZLjAhd) Sp>g77@ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
9a*#r;R tV!?Ol _ [k
\S|iY `D ;*.zrA 文件信息
4jXo5SkEJ VAiJL _(-jk4 L 5x+]uABE 更多阅读
M\{n+r-m \%<M[r= -
Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer F85_Lz4 -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination F! =l
r vM/*S
6[ (来源:讯技光电)