摘要
9GnNL I{ :" ZH 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
p},6W,f T:0X-U @+",f] )>LQ{X. 建模任务
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?{#P.2 <i'4EnO 概述
"Kk3# %8H*}@n •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
ie$QKoE •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
Du>dTi~ owe362q [|UW_Bz `gqBJi 光线追迹仿真
E0=-6j uF>I0J#z? •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
;VS;),h/ •单击go!
/vPh_1 •获得了3D光线追迹结果。
9bjjo;A \()\pp~4 8?W!U*0aS 9\*xK%T+ 光线追迹仿真
wgSA6mQZ ]+[ NX)= •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
y]=v+Q*+ •单击go!
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zv •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
wP1dPl_j:0 9QJ=?bIC# %iIryv; </<_e0 场追迹仿真
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•切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
) 0$7{3 •单击go!
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79V ltt%X].[ 6+IOJtj 场追迹仿真(相机探测器)
!.L%kw7z +IVVsVp •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
/exV6D r •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
uf`o\wqU 8x'rNb -w 2!k RrLQM!~ 场追迹仿真(电磁场探测器)
:RHNV •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
a#! Vi93 HeGGAjc L3nHvKA] 8,Yc1 场追迹仿真(电磁场探测器)
!`,6E`Y# ,{itnKJC •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer bm%2K@ /U -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination VjYfnvE (5-"5<-@R (来源:讯技光电)