摘要
dBsX*}C B@Co'DV[/] 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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snM Z0W aIy*pmpD= 建模任务
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a`9L,8Ve 概述
# M, 7 .D,p@4 •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
2'jOP"G •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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j*@l"V>~ /StTb, 光线追迹仿真
p=GWq(S6 in <(g@Zg •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
"eWk#/ •单击go!
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.Fs •获得了3D光线追迹结果。
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e<7.y#L +=Jir1SLV 光线追迹仿真
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•然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
d4:`@* •单击go!
,)+o •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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{_N,=DQ! HjvCujJ 场追迹仿真
!?f5>Bl v$~QCtc •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
HD,xY4q&N •单击go!
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+5)Jau^S 场追迹仿真(相机探测器)
I4;A8I 3<=,1 cU •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
;Mm7n12z C •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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'ckQg=zPR eAUcv`[#p 场追迹仿真(电磁场探测器)
5Dp#u •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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OJT1d-5p [=O/1T 场追迹仿真(电磁场探测器)
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer PFUO8>!pA\ -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination GdB.4s^ umz;F (来源:讯技光电)