摘要
`|Z}2vo;j }WLh8i?_ 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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)(M7lq.e7 /u<nLj 1 建模任务
OW;tT=ql gk0.zz([
bzpFbfb 概述
9=l.T/?sf A;XOT6jv? •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
p
zw8 T •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
Nh?|RE0t uYI@9U
f>j wN@( Wzq>JNny 光线追迹仿真
}
l667N kh$_!BT •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
{2d_"lHBt •单击go!
n
1b(\PA •获得了3D光线追迹结果。
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&7mW9] ff?t[GS 光线追迹仿真
TA18 gq 'fV%Z •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
gO?44^hMe •单击go!
NR%Y+8^M •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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W[bmzvJ_X +>^7vq-\' 场追迹仿真
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•切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
&$FvWFRh# •单击go!
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JNI>VP[c FVsj; 场追迹仿真(相机探测器)
+Lm4kA+aE5 "bQ[CD •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
fG LG$b •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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b8KsR=]4I &-l8n^ 场追迹仿真(电磁场探测器)
km5~Gc} •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer <G8w[hs -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination :,pSWfK H )vB2!H/ (来源:讯技光电)