摘要
m%0-3c( O2fq9%lk 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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>= hs7!S+[.$$ 建模任务
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eN])qw{ 概述
xMr,\r'+ prZ
,4\ •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
'K4FS(q •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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I|rb"bG ?tYZ/ 光线追迹仿真
4Ly>x>b< vRe{B7}p; •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
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ng •单击go!
ZWkRoJXNi •获得了3D光线追迹结果。
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?xR7Ii3 811>dVq3/ 光线追迹仿真
-rO34l G _cJI •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
@v2<T1UC •单击go!
f$dPDbZQ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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<>6j>w_| g-qXS]y7 场追迹仿真
_:Qh1 &h f3O6&1D •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
v@$N,g •单击go!
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uG\~Hxqw7O D|q~n)TW5 场追迹仿真(相机探测器)
dJR[9T_OF "0HUaU,e •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
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a4 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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;MN$.x+ iTHwH{! 场追迹仿真(电磁场探测器)
9w-\K] •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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}Z%\h 场追迹仿真(电磁场探测器)
!R8%C!=a LSta]81B4L •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer =7V4{|ESfy -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination TOHz3= J2qsZ (来源:讯技光电)