摘要
,#L=v] -bSSP!f 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
]]oI#*c }wHW7SJ t3&LO~Ye &GB:|I'%7 建模任务
u (em&M 'U\<IL#U YTexv;VNb| 概述
QT>`^/]d `CgaS# •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
'gTb A?+@5 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
2-C!jAfd BA%pY|"Q o1h={ao Vp3ZwS 光线追迹仿真
5yzv|mrx urMG*7i <c •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
M>i9 i-dU •单击go!
/Q2mMSK1h •获得了3D光线追迹结果。
Z(ACc9k6:'
ng_^ L.jh /oR<A 光线追迹仿真
S'_-G;g. ~s]iy9i •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
A .EbXo/ •单击go!
}L# _\ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
jO1r)hw N> FMClSeO7
OVhE??# .MJofE;Jn 场追迹仿真
-wSg2'b4E /iJ4{p •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
/$'AjIg4:& •单击go!
V9dF1Hj )`A3M) b/{t|io{ ^ml'? 场追迹仿真(相机探测器)
o8-^cP1 QUQu^p •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
@++.FEf •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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c[Q($K 场追迹仿真(电磁场探测器)
.5y+fL •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 1PP $XJtyD -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination }XSfst5-H kT!9`S\ (来源:讯技光电)