摘要
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<x0)7xX 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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K]X`sH: fb23J|" 建模任务
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0x\2#i 概述
cA<<&C rOW;yJ[ •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
}g>kpa0c •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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hd5$ yU5JQ 'f*O#&? 光线追迹仿真
s
D_G)c COSTV>s; •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
Tp?-*K •单击go!
#,&8& •获得了3D光线追迹结果。
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#1[z;Mk0 {SJsA)9:# 光线追迹仿真
:N2E}hxk ^2EhlK^) •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
/Pk:4, •单击go!
3htq[Ren •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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r2nBWA3 7Lg7ei2mN7 场追迹仿真
:m Kxa ? Vp%=E •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
F;P5D< •单击go!
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J 场追迹仿真(相机探测器)
Q_]~0PoH .*Vkua •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
=We2^W-{ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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1HbFtU`y~ ?v4E<iXs 场追迹仿真(电磁场探测器)
d)tiO2W •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ,mKObMu -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination {kL&Rv%' g^l RG3a (来源:讯技光电)