[分享]VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要 7]||UuF<  
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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 ,z-}t& _t  
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建模任务 N#DYJ-~*  
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概述 X@LRsg  
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•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ~,5gUl?Il  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 }DK7'K  
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光线追迹仿真 Z^IPZF  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ]2\VweV  
•单击go！ ] 0B2# d  
•获得了3D光线追迹结果。 Ft;^g3N  
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光线追迹仿真 5Drq
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•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 WzF !6n!h  
•单击go！ ` M3w]qJ<}  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 zN"J}r:  
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场追迹仿真 $}jssnoU  
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•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 (r D_(%o  
•单击go！ #[`:'e  
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场追迹仿真（相机探测器） |]ZYa.+:  
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•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 yRfSJbzaf\  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 -QmO1U  
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场追迹仿真（电磁场探测器） Wv/%^3  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 V` 1/SQX  
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场追迹仿真（电磁场探测器） vc+ARgvH+  
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•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 45MLt5^|  
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文件信息 :
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer y?a Acn$  
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination /U"CO8Da  
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