摘要
qhdY<[6 Qj1qx;S 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
HX;JO[0 #~_ZG% u {Wi)/B} $s2Y,0>I6 建模任务
CFLWo1 ~t>i+{JKE !-cO0c! 概述
F}f/cG<X 4Y2!q$}I+ •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
_Q**4 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
8 h.Dc&V TrYt(F{t ajy+%sXf= L@|xpq 光线追迹仿真
/8Sr( 7f$ hg8 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
8]`LRzM •单击go!
33M10
1X{6 •获得了3D光线追迹结果。
^Fn~@' R0WI s:k2 S [$Os7 @VzD>?) 光线追迹仿真
2C@ui728 u ?
}T)B •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
8mmHefZ}2! •单击go!
pX/42W •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
|z+K]R8_ ~+~^c| fF|m~#y 1v?|n8 场追迹仿真
(6Y.|u]bq ,&q
Q[i •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
e8Y;~OAj[ •单击go!
3G.-JLhs z m&?G evLZ<| PCcI(b>?l 场追迹仿真(相机探测器)
J ;|i6q q b~u53 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
ds#om2) •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
}#Q?\ }jI=* .szc-r{ p%]ZG, 场追迹仿真(电磁场探测器)
m~<<ok_ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
&x#3N=c# yQ/E0>Uj! ^h5h kIx0 Ltrw)H} 场追迹仿真(电磁场探测器)
qJyGr ? Q$B\)9`v[ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ySP%i6!au -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ./r#\X)dc _]"uq/UWp (来源:讯技光电)