摘要
T8 S&9BM7 =t,oj6P~ 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
zDvV%+RW) rS [4Pey dcf,a<K\ k-~}KlP 建模任务
&]TniQ H b 7sfr!t_d W sHD Ip 概述
d:'{h"M6 {y"K n'1 •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
5gf
~/Zr •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
2XR!2_ )O5 ;>PHkJQ QD-\'Bp/X k6#$Nb606 光线追迹仿真
~cm4e>o sVh) Ofn •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
O ~5t[ •单击go！
x// uF •获得了3D光线追迹结果。
WOO3z5 La n*[ZS[I ;m pY cpI n/v.U,f&l@ 光线追迹仿真
-8)Hulo/{U -|V#U`mwF •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
#ft9ms#N •单击go！
;r@=[h
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。
KH2]:&6:Q CbZ;gjgY* ;MQl.?vj "}X+vd`` 场追迹仿真
+
E{[j >~,~X9 •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
F:jNv3W 1 •单击go！
./I? |ih E:qh}wY Wrp~OF0k lW"0fZ_x'E 场追迹仿真（相机探测器）
-3ePCAtXbe s17)zi ,?4 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
huZ5?'/Fg •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
u. A}&'H 6"_pCkn;c< O1\4WG% <oXBkCi0r 场追迹仿真（电磁场探测器）
]U#of O •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
T @^ S:K Fug4u?-n B*:I-5 f@`|2w G 场追迹仿真（电磁场探测器）
*SJ[~ o~'p&f •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
zHKP$k8 1Xi>&;], jOCV)V9} m=n79]b:N 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ~0 +< -T -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination f:46.)W j< GPni%P#a@0 （来源：讯技光电）
