摘要
> kG: MJj F@jyTIS^ 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
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'A#F < x 4%,E;fB?= 建模任务
D7OPFN 7` {igVuZ(>en 
A<P rsk! 概述
!; COFR w[?E
oFI$Y •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
LM?UV)
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
t+m
ug y fCdK-9+B 
9ZXEy }q57 2] /[ 光线追迹仿真
#ybtjsu'"U gDBd axR< •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
;PF!=8dW •单击go！
Cz]NSG 5 •获得了3D光线追迹结果。
8sGaq [ D_)n\(3 
t +@UC+aW 9_<>#)u5 光线追迹仿真
k^v P|*eu E4dN,^_ F! •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
+-+%6 O<C •单击go！
y7WO:X& •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
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U5x&? n< N# "( 场追迹仿真
8 s#2Zv {e'V^l.v •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
|H7f@b]Sk •单击go！
F ;;\I T0=%RID%= 
}Uc)iNU S eTn] 场追迹仿真（相机探测器）
p a)2TL/@ eQQ*ZNG •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
HbXYinG% •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
` $ N()P ,U^V]jC 
!<2%N3l #)hJ.0~3 场追迹仿真（电磁场探测器）
-AcVVK& •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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27q=~R} ? <"H Io 场追迹仿真（电磁场探测器）
y-i6 StJ "fTW2D74 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer zm7IkYF -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination fCa*#ME l k?@ =U~ （来源：讯技光电）
