摘要
XLsOn(U\& S#^-VZ~U4x 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
%R LGO& nN!R!tJPa j-wz7B Af7&;8pM 建模任务
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wOaf ^Ts8nOGMh 概述
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-2 •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
#dxS QmG •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
hXz@ (cF oY0`igH Blnc y k;?E,!{ 光线追迹仿真
K44j-Ypb Q!"W)tD •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
Ld3!2g2y7& •单击go!
B5fF\N^ •获得了3D光线追迹结果。
mL[Y{t#N \Yd
0oe82 Bwg\_:vq _f@,
>l 光线追迹仿真
&%`Y>\@f !`EhVV8u-_ •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
$yg=tWk •单击go!
MJ0UZxnl •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
SHT ^Etri gTjhD( *]RCfHo\= SebJ}P1x 场追迹仿真
=Frbhh57 JypXQC}~ •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
yCG<qQz •单击go!
dw]wQ\4B hCKx%&[^7 mFXkrvOf, Ar VNynQ 场追迹仿真(相机探测器)
ccu13Kr>E @CU~3Md* •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
OlF5~VAbfb •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
U?d4 ^ -S,xR5 WbP*kV{ s55t>t,g6 场追迹仿真(电磁场探测器)
'{(/C?T •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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?Ok@1 场追迹仿真(电磁场探测器)
XU19+mW=P |U4t 8 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer t|Ipxk.) -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination w>W`8P_b@ 'F[ C 4 (来源:讯技光电)