[分享]VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要 XLsOn(U\&  
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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 %R LGO&  
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建模任务 '.d]n(/lZd  
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概述 2q*aq%  
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•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 #dxS QmG  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 hXz@ (c
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光线追迹仿真 K44j-Ypb  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 Ld3!2g2y7&  
•单击go！ B5fF\N^  
•获得了3D光线追迹结果。 mL[Y{t#N  
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光线追迹仿真 &%`Y>\@f  
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•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 $yg=tWk  
•单击go！ MJ0UZxnl  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 SHT^Etri  
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场追迹仿真 =Frbhh57  
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•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 yCG<qQz  
•单击go！ dw]wQ\4B  
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场追迹仿真（相机探测器） ccu13Kr>E  
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•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 OlF5~VAbfb  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 U?d4 ^  
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场追迹仿真（电磁场探测器） '{(/C?T  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 {IpIQ-@l  
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场追迹仿真（电磁场探测器） XU19+mW=P  
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•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 5pI=K/-  
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文件信息 .6D9m.Q,  
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer t|Ipxk.)  
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination w>W`8P_b@  
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