摘要
s88y{o |ebvx ?\ 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
ve6x / PD E3bwy K!s mLQUcYfR <;aJ#qT 建模任务
)}q uw"H |J\,F.{' b22LT52 概述
+3)[> {~1Z CGk I\E •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
eJW[ ] ! •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
*N`;I@Q"[ ~+=E"9Oo *CzCUu:%t C>NQ-w^ 光线追迹仿真
0_L m#fE U B O]=vH •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
ZRPE-l_3: •单击go！
W\%q} q2? •获得了3D光线追迹结果。
4
]sCr+ brfKd]i {!MVc<G. Vli 3>K& 光线追迹仿真
' Wtf> ` Y| :YrZSC •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
UTvs
|[ •单击go！
VE*j*U
j •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
V!W1fb7V jA Z >mo[ p0Z:Wkz] y #69|G 场追迹仿真
v~f'K3fLp EDtCNqBS~2 •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
&u=8r* •单击go！
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Rm0t_ U P]1(S? e$ 32 场追迹仿真（相机探测器）
W"|mpxp GZ"&L?ti •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
&>g~-s •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
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BZ E 场追迹仿真（电磁场探测器）
bQ"N
;d)e •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
K?[) E3 6{8/P'@/Zz "9ue76 ,z G(u 1 场追迹仿真（电磁场探测器）
ZL=N[XW4' +YuzpuxjJ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer R:f7LRF/\ -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination "$ DldHC gB >pd?d （来源：讯技光电）
