摘要
6%E~p0)i% +Z clGchw 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
_|X7
n~ pr$~8e=c M'DWu|dIBA ~\ [?wN 建模任务
3?@?-q2g [A]Ca$': gJh}Cr U- 概述
Pr`s0J%m p0Gk j- •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
ck$M(^)l •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
e=7W 7^"_ ` 5#h jLe nkRK +~> LQqfi
~ 光线追迹仿真
781]THY= ) "[HZ/ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
g8l5.Mpx •单击go！
Tm_8<$ 7 •获得了3D光线追迹结果。
\_ 9rr6^ " e #M iaX 4jGLAor| w12}Rn8 光线追迹仿真
O,|\"b1( \2 >?6zs •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
\(fq8AL? •单击go！
Yb 6q ))Y •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
kYlg4 .~M CW-A e Y@%`ZPJ K &dT(U 场追迹仿真
a+Ab]m8` *ik/p •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
,{8v4b- •单击go！
5un^yRMB- CT p!di| =cn~BnowY 7"cv|6y| 场追迹仿真（相机探测器）
3D_"y Z
ah+j!e •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
6t7fa< •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
b\giJ1NJB "hPCQp`Tj V`bs&5#S x ]?&FOzN5$P 场追迹仿真（电磁场探测器）
55m<XC •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
X;!~<~@ Y N4wA#\- FN?3XNp.
10O$'` 场追迹仿真（电磁场探测器）
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vh' ^npJUa •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer
q3S+Y9L -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination XUS vhr$| 2"&)W dm （来源：讯技光电）
