摘要
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#KUNZW 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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>c)-o}bd^ |\FJ 建模任务
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j6GR-WQ]t 概述
zX8'OoEH*9 U _sM==~ •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
eNDc220b •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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3w&Z:< n#PXMD* 光线追迹仿真
\=c@ >)t-Zh:n •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
ZFC&&[%-sG •单击go!
]|QA`5=$ •获得了3D光线追迹结果。
&SMM<^P. *#.Ku(C+
+2#pP Bo4iX,zu 光线追迹仿真
wBCBZs$H a(_3271 •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
,a3M*}Y~3 •单击go!
9~v#]Q}Z}4 •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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i4<n#]1!t kS62]v] 场追迹仿真
({<qs}H" >P}6/L •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
^S:I38gR#q •单击go!
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/6FPiASbS %'MR;hQsd8 场追迹仿真(相机探测器)
m!WDXt (m() r0:@ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
Na.)!h_Kn' •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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$aY:Z_s /h ,-J 8[ 场追迹仿真(电磁场探测器)
@<$_X1)s •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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T#3`&[ ug?#Oa 场追迹仿真(电磁场探测器)
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 5wI j:s -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination \l?.VE D S%7%@Qs"% (来源:讯技光电)