摘要
_ Vo35kA -wdd'G 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
-zSkon 2Y^ uOv0ut\\G F5+)=P# u]<_6;_ 建模任务
'ZiTjv ] CAJ]@P#Xj+ rFJPeK7 概述
R? D c*, ' v~%rhq3 •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
lL$no7HBy •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
#X`qkW.T< Wc f;ZX ==ZL0 ][ phc9esz 光线追迹仿真
3~ptD5@WF U;q GUqI •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
l |Y?]LNr •单击go！
UXdnN;0 •获得了3D光线追迹结果。
-ld1o+'`v! u$MXO].Q 4UISuYg' p * Q *}V 光线追迹仿真
ETMF.-P 7l H.>n •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
[vNaX%o •单击go！
/4 M~ 6LT` •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
,?KN;~t#vz >S[NI<=8S Zk*!,, P! <?E~Qc t 场追迹仿真
c*N>7IF, )1ct%rue •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
_Z0O]>KH •单击go！
IPa)+ ZQ T[\?fSP {+ N7o7 %h^ f?.( : 场追迹仿真（相机探测器）
T:|PSJc0 0<$t9:dq •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
c>)_ I •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
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u[- *,y .%`o )ePQN~#K} bL 9XQ:$C 场追迹仿真（电磁场探测器）
6_zyPh •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
d#Xt2 LO@='}D= %kXg|9Bx! YCI- p p 场追迹仿真（电磁场探测器）
T~G~M/ ;+NU;f/WM •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer cwC-)#R'] -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
WgayH 3{ FUFx （来源：讯技光电）
