摘要
7`7 M4 J>M 9t%f@ 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
3;jx Io$, %INkuNa8\ e)s
l -~RGjx 建模任务
J3'q.Pc 1\{FK O t e KuF7Oo 概述
X n~\Vb (:]+IjnE •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
:W>PKW`^ •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
o /&K>]8M qHheF%[\5 KL!cPnAUu R@uA4Al 光线追迹仿真
8*Fn02 p \
C$t •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
/V cbT >= •单击go！
?v:FGO •获得了3D光线追迹结果。
HNc/p4z O46 v } tBw<7fe NB44GP1-@ 光线追迹仿真
-awG1 4% CY.92I@S •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
B1Pi+ -t •单击go！
FSz<R*2 •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
K }
T=j+ Wt@hST "1XTgCu\ ~xDu2 -5 场追迹仿真
gH ,Pz 0Ntvd7" `} •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
_O Jfd •单击go！
m<k 6oev$ =_ j<x$,b- G; exH$y
T*8 S7l 场追迹仿真（相机探测器）
liy/u Z _<F; &(o •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
LXJ;8uW2y •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
N5`z S79W ;;
{K ##^l QBi]gT@&g Z'uiU e`& 场追迹仿真（电磁场探测器）
O&y`:# •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
tcRJ1:d G; W2Z, TF !v ,cX G9am}qr 场追迹仿真（电磁场探测器）
O^6anUV0 SYf1dbc..u •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ;PMh>ZE` -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 9iM%kY# )W WcM\4q@ （来源：讯技光电）
