摘要
?eIb7O 4GRD- f[ 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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a/j;1xcc< b&U1^{( 建模任务
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(`.OS)& 概述
R ZY=c >ou=}/< •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
]nhh|q9r{ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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zFq%[ X W`;;fJe 光线追迹仿真
v|%41xOsr UphTMyn3 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
Jj-\Eb? •单击go!
D~6[C:m •获得了3D光线追迹结果。
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7ZvN. 光线追迹仿真
V)^Xz8H_ 1INX#qTZ •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
.11l(M •单击go!
1>J.kQR^ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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G(&[1V % x PftK>,+, 场追迹仿真
G?W:O{n3 /f3/}x!po •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
2LwJ%! •单击go!
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ku]5sd >b 场追迹仿真(相机探测器)
A[Mke ${ {4L?7 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
,{_i{WV •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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VE )D4RL 3( BL 场追迹仿真(电磁场探测器)
}'oU/@yG •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer hG1$YE -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination FZ-Wgh
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