摘要
MO(5-R` 52q!zx E 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
W+-f ` 4F 6ju6w ;r2b@x:<_ Si%Eimiq 建模任务
i >/@]2 SquqaX+< <T=o]M$ 概述
37<GG) \C'I l
w •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
JqH.QnKcv •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
ZeDDH U%SNROj ~jrU#<'G9 Vv*5{_ 光线追迹仿真
ES:p^/ =* :L+zUlsf •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
H603L|4 •单击go!
6`{)p&9 •获得了3D光线追迹结果。
dsft=t8s E rRMiT 4tN~UMw? DQHGq_unP 光线追迹仿真
%@,:RA\pm y5opdIaT •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
uma9yIk •单击go!
vA $BBXX •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
N'1 [t ZBh@%A J1wGK|F~ \?Oa}&k$F8 场追迹仿真
J5r
L7 /)HEx&SQmZ •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
-ZMl[;OM •单击go!
Wug ?CFX+T Ql!6I ( <GU(/S!} tLGwF3e$A 场追迹仿真(相机探测器)
gj(l&F *@ % w/1Uo24 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
b+fy&rk@- •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
;jfXU_K >w'?DV>u| {`SGB;ho
QrRCsy70 场追迹仿真(电磁场探测器)
hB1 iSm •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
j-\^
}K.& :=fHPT eFI9S.6 6j.(l4} 场追迹仿真(电磁场探测器)
rAi!'vIE '48|f`8$ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
i7E7%~S >@\?\!Go d3hTz@JY yru}f;1 文件信息
8c'-eT" 2G*#Czr" Q#AHEm{9;s F973U 更多阅读
."g5+ xX [\y>&"uk -
Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer <{~UKi -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination dQoMAsxzM 246!\zf (来源:讯技光电)