摘要
'oZ/fUl|7 i>9/vwe 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
uA?_\z? fb5]eec xg}RpC! D!.
r$i) 建模任务
41<.e`{ OE!:`Bo3T L%8>deE>;D 概述
3U&QonCV +e0]Y8J{ •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
{d\erG( •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
v^aARIg G4Zs(:a T/
CI?sn `0rEV_$ 光线追迹仿真
@L%9NqE`O yA%(!v5UT •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
J9oGwP •单击go!
q/,W'lQ\; •获得了3D光线追迹结果。
IKM=Q.
7j Q{Gi**< kb?QQ\e VVdgNT|}W 光线追迹仿真
Yn,dM~|Cc NIDK:qdR •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
slEsSR'J] •单击go!
m:<cLc :. •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
ZpPm>|w t;9f7~ S] Gw}d]4 ,UQ4`Mh^L 场追迹仿真
hu-fwBK &oevgG •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
Tx35~Z`0 •单击go!
VdR5ZP QQKvy0?1 ZD1UMB0$4 fmH$1C< 场追迹仿真(相机探测器)
@b2{'#9]} c"%XE#D •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
%@L(A1"#D •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
__""!Yz + )?1F XpWqL9s_E -IJt( X| 场追迹仿真(电磁场探测器)
3Juhn5&N •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
xaWd\]UF \LRno3 Vw=e C" OWCd$c_( 场追迹仿真(电磁场探测器)
tv)x(MX <tAn2e! •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
ecA[ KYVB=14 Oh<[8S7]C HE+y1f] 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer -yOrNir}W -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination v')Fq[H c+#GX)zh\G (来源:讯技光电)