摘要
8|1`Tn}o nqZA|-} 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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UKMW9" 3^!Hl8P7 建模任务
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[%\jq{a (7IqY1W C@*%AY 概述
*f79=x -G8c5b[ •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
D`~JbKV5@^ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
HbNYP/MN3 #2h+dk$1 _e6a8 ?3`q+[: 光线追迹仿真
sa_R$ /H DC&A1I& •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
>Z *iE"9" •单击go!
:bwM]k*$ •获得了3D光线追迹结果。
{T&v2u#S $Z/klSEf ,!`SY) K>kLUcC7Z 光线追迹仿真
lY.B CoJ55TAW •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
xS"$g9o0 •单击go!
p"KU7-BfvC •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
nB=0T`vQ )7W6-.d U|8[#@r F<5nGx cC 场追迹仿真
!6Q`>s] r:-WzH(Ms •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
3wZ(+<4i •单击go!
I0DM=V>; \k;U}Te<
/KAlK5< }&1Iyb 场追迹仿真(相机探测器)
P<u"97@8a &eIGF1ws •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
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•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
MD<-w|#8IV B20_ig: R*yU<9Mm8 84'?um 场追迹仿真(电磁场探测器)
Y;,Hzmbs6w •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
~Eq \DK ('t kZt%8 "x&3Z@q7 JvkL37^n: 场追迹仿真(电磁场探测器)
.|uLt J YdI0E •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ,- '4L9 -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination u g\w\b 5lTD]d (来源:讯技光电)