摘要
K[OO I~"C 0 D
'^: 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
jaKW[@< Xo~q}(ze^ 6Q]c } yF.Gz`yi 建模任务
]Y Fjz/f ,f:K)^yD 6fo" k+S 概述
'b}RFzEn _u$DcA8B •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
LDHu10l •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
8zj&e8&v js <Up/1 5o>`7(t` la-:"gKC 光线追迹仿真
(&/ 4wI^M C12 V_)~2 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
fK+E5~vQ •单击go！
#!UJY%c ~ •获得了3D光线追迹结果。
tm= ,x~ ,
ftJw ( Q%
@] h`N2M, 光线追迹仿真
*p\Zc*N;% YF-E1`+?< •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
dEKu5GI •单击go！
tNzO1BK •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
7>O`UT<t4@ <Y?Z& rNb a?r$E.W'& l$9k:#\FD 场追迹仿真
r.zgLZ}3&V jF}kV%E •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
GEf=A.WAfw •单击go！
!JrKTB% cRrJZ9 _1G/qHf^S {._'Q[ 场追迹仿真（相机探测器）
a7ZufB/ Pm)*zdZ8 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
6#CswSpS •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
Eq;w5;7s bRm;d_9zC r.#r!.6 q *.>@ 场追迹仿真（电磁场探测器）
-;_"Y]# •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
;2`6eyr bs ~P h>GbJ/^ ,IboPh&Q78 场追迹仿真（电磁场探测器）
v8y Cf7+" HSG Ln906 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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A @ 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer t>}S@T{~T -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination N)Q_z9b= jH<Sf: Y( （来源：讯技光电）
