摘要
0~)_/yx?S ,h#U<CnP# 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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r"%uP[H cAL*Md8+ 建模任务
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]]InD N 概述
Ot^<:\<`G K;n5[o&c •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
Qd{h3K^hlu •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
F+lsza 'QMvj` -
lrE|>R ThvVLK 光线追迹仿真
2E*k@ b{Qg$ZJeR •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
_:0)uR LS •单击go!
_w'N •获得了3D光线追迹结果。
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uia[>&2 R3[H#*gF< 光线追迹仿真
,pg\5b +RuPfw{z •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
G T3wJQ5N •单击go!
RH"&B` •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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|.q K69 ,o_Ur.UJ 场追迹仿真
]h`<E~ 9uRs@]i •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
ToNRY<! •单击go!
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fV\ eksBF +dt b~M 场追迹仿真(相机探测器)
DH5]Kzb/ 8%Wg;:DZx •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
pFUW7jE •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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6z (eW]p 3=SN;cn 场追迹仿真(电磁场探测器)
X`,]@c%C` •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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l5 FM>q ] VN4;R 场追迹仿真(电磁场探测器)
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer * MJl( -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination "DW; 6<m X1P_IB (来源:讯技光电)