摘要
1}~(Yj@f% K98i[,rP 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
36 US5ef iiK]l s&'QN =A jt+iv*2N> 建模任务
hB{jUP) "; :6$>_m=i 1?Z4 K / 概述
#m={yck * tBpC: SG •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
S6fb f>[ •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
g}]t[}s1] 'uy/o)L fFQ|T:vm k5] j.V2f 光线追迹仿真
`p+Zz"/ =* Bl|;>6 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
r& FDEBh •单击go！
B#9{-t3Vf •获得了3D光线追迹结果。
=h l }.p 4[N^>qt = }f2r!7:x 0Fu~%~#E$ 光线追迹仿真
8_N]e'WUh H /}]FmjN •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
Nz)l<S9> •单击go！
z;y:9l •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
=FD;~ 0Lb4'25. }l=x iAF "jw<V,, 场追迹仿真
J`2"KzR0w" !F?XLekTi •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
4WK3.6GN •单击go！
V*~Zs'L'E }u1O#L}F5 &4_qF^9J \QB;Ja _ 场追迹仿真（相机探测器）
0 iJue & 33}oO,}t, •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
o6p98Dpg •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
]LM-@G+Jz G$sA`<< sq'Pyz[[ bcupo:N 场追迹仿真（电磁场探测器）
4ni3kmvX •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
#^ ]n0! Si~vDQ7" G%Lt.?m[ B-r0"MX & 场追迹仿真（电磁场探测器）
ccL~#c0P7 ZWS`\ M •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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zL J/5& XO'l Nb. Nr=d<Us9f 7 sX xq4 更多阅读
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer BX yo -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Q Nl'ZB \ m?&1yU9 （来源：讯技光电）
