摘要
TiF+rA{t P$Oj3HD LM 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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lfre-pS+ /sj*@HF= 建模任务
Ow.DBL)x'> /'5d0' ,M
?c+$9 概述
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@N<k .g1x$cQ1< •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
T\g+w\N •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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iy_Y!wZ{ zBu@a:E%H 光线追迹仿真
p$qk\efv*4 OM{^F=Ap •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
m C`*#[ •单击go!
(CY D]n •获得了3D光线追迹结果。
CtV|oeJ r-TrA$k
x^EW'-a T&+3Xi: 光线追迹仿真
!|UX4 {Dk!<w I) •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
s\pukpf@ •单击go!
6u lx0$[ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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Dmr*Lh~ RL/y7M1j 场追迹仿真
s1[&WDedM jC4>%!{m •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
u~ipB*Zf •单击go!
M\a{2f7'n o{`x:
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A PfRA\ 场追迹仿真(相机探测器)
@uCi0P t 1n[)({OQ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
Nr~!5XO •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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场追迹仿真(电磁场探测器)
hTzj{}w •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ?Y3i-jY -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 4@3 \Ihv '`2'<^yO (来源:讯技光电)