摘要
D|Q7dIZm UH6 7<_mK 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
XQ n1B3k + VQqBo~ r!f UMDS J)n_u) , 建模任务
:,JjN& 3 s?u05_ mj$Ucql 概述
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)Z •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
P #! N •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
h_#=f(.'j XEA5A.uc B%uY/Mwz$ YhV<.2^k 光线追迹仿真
'o}[9ZBjn s.bo;lk •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
\Aro Sy9 •单击go！
2%fIe •获得了3D光线追迹结果。
Sp X;nH-D V($V8P/ Q
>/,Q X gm)Uyr$ 光线追迹仿真
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! J?3/L&seA •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
X8ap •单击go！
%\< b{x# G •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
I)'bf/6? ?MRY*[$ =${.*, o m4@NW*G{ 场追迹仿真
4{kH ;~
z$ ]S&ki}i& •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
4Wi y2 •单击go！
GA gTy K#Ck,Y" @5nFa~*K % z w+aZDcV( 场追迹仿真（相机探测器）
l{Df{1b. b&F9<X Lqq •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
_aPAn|. •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
_F%`7j O,B\|pd2 uem- fTG \_1a#|97e 场追迹仿真（电磁场探测器）
DD$> 3` •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
!} TsFa lNL=Yu2p_ V_SH90@)+ Z71m(//*} 场追迹仿真（电磁场探测器）
Z#d#n!Lz n6% ` •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer cFL~<
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Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination _!',% + -)}s{[]d6m （来源：讯技光电）
