摘要
dgco*TIGO b$?Xn {Y 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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1C0Y0{6,
coF T2Pq 建模任务
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9U|<q 概述
1iNsX\M f`hyYp`d5 •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
,C{^`Bk-W •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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` URSv,( (ve+,H6w\ 光线追迹仿真
y Y>-MoF/t 83KfM!w •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
*.m{jgi1X •单击go!
]{IR&{EI- •获得了3D光线追迹结果。
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B*?ZE4` `E3:;| 光线追迹仿真
X0y?<G1(a (O8,zqP9l •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
${hyNt •单击go!
VLcyPM@"Q! •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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Ro'jM0(KE CN.6E<9'kK 场追迹仿真
^Sy^+=wK3 C(-[ Y! •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
5oz>1 •单击go!
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B/jrYT$;m 94Xjz( 场追迹仿真(相机探测器)
2Sge f%2%T'Q •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
%6AYCN?Ih •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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|/@0~O(6 sf Dg/ a 场追迹仿真(电磁场探测器)
C@%iQ]= •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer O{~KR/ -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination A*hZv|$0 vruD U# (来源:讯技光电)