摘要
<5Ft3sd \*>r[6]*&5 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
4 h}03 oG f?KHp| xZmO^F5KHj !_zp'V]? 建模任务
rL{3O4O q_0So} !Q-h#']~L 概述
+ZuT\P&kR5 \0}!qG![AA •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
!v^{n+ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
c~_nOd F0yvV6; M:%6$`` /O,>s 光线追迹仿真
Ino$N|G[ +I>u${sVx* •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
M4%u~Z:4h+ •单击go!
(s:ihpI •获得了3D光线追迹结果。
RK7vR~kf< X#625h (P(=6-0 M
@|n"(P 光线追迹仿真
-4rXOmiA +XaRwcLC. •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
Se0!-NUK0 •单击go!
[C8lMEV~ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
#3b_#+, Z&f@)j :htz] ~0;l\^ 场追迹仿真
@W4tnM,# goE \C •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
{6_M$"e. •单击go!
e(e_p# gdPPk=LD zmA]@'j h/)kd3$*' 场追迹仿真(相机探测器)
nC:>1kt E{LLxGAEZ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
GnX+.uQL| •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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[ kp6{QKDj& 场追迹仿真(电磁场探测器)
#9(0.!v •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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l i @: Z<yLu'48)A •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer azs lNL -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination !J6;F}Pd/ 5[[mS (来源:讯技光电)