摘要
K3La9O)> ^%-NPo< 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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[fd~nD#. wUbmzP. 建模任务
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rU],J!LF 概述
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, :Jt C,[L/! •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
[`q.A`Fd •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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_\p`4-.V sc<kiL 光线追迹仿真
8^i[j\Y;6 Mk<m6E$L •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
JFe4/
V •单击go!
OE6#YT •获得了3D光线追迹结果。
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7Ez}k}aR< P1$f}K} 光线追迹仿真
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9WawI b S,etd •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
ubD#I{~J •单击go!
?.8<- •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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q{/*n]K EVWA\RO'\ 场追迹仿真
anLbl#UV !TGr .R •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
{798=pC<. •单击go!
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V 场追迹仿真(相机探测器)
>)4.$#H K@HLIuz4t •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
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' •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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1p~5h(jI bZu$0IG 场追迹仿真(电磁场探测器)
jBS'g{y-! •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer =88t*dH(," -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination #sS9vv7i Ep<YCSQy$i (来源:讯技光电)