摘要
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高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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miWog 8j S9\_ODv 建模任务
YU>NGC]}d Cn6<I {`\
yhTC?sf< 概述
rjk{9u1a" vH14%&OcN •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
>~_oSC)E •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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mO#62e4C f%#q}vK- 光线追迹仿真
Qdt4h$~V" 4v[Zhf4JM •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
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L'k •单击go!
_m0B6?KJ •获得了3D光线追迹结果。
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`IC2}IiF nC6 ;:uM 光线追迹仿真
xlKg0&D u7>{#] •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
|FED< •单击go!
rJz`v/:|P •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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=&8 Cg Kg8n3pLAX 场追迹仿真
LZ'Y3 * Q}zd!* •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
^uCZO •单击go!
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场追迹仿真(相机探测器)
wf` e3S %+8"-u •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
P >>VBh? •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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V'M#."Of/ %96l(JlJ)B 场追迹仿真(电磁场探测器)
9YQYg@+R •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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k=&UV!J Rlwewxmr 场追迹仿真(电磁场探测器)
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bc3 T8( •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer P9f,zM- -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
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(来源:讯技光电)