摘要
5?w.rcN[j *Z; r
B 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
_W}(!TKO XC2FF&B& +mLD/gK` zSKKr?{ 建模任务
JYQ.EAsr! >nK%^T Y[@0qc3UO 概述
O>%$q8x@i 9n"V\e_R •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
C B/r]+4 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
2QL?]Vo +j.qZ8 t0.;nv@A0 e}e6r3faz 光线追迹仿真
y6FKg) W+\?~L. •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
O@wK[(w^ •单击go!
Y&5.9 s@' •获得了3D光线追迹结果。
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Im+7<3Z XhN{S]Wn 7h`^N5H.q 光线追迹仿真
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,T A?r^V2+j •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
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/ •单击go!
G|*G9nQ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
s4bv;W uXpv*i{R R5ZIC4p ;{gT=,KQ` 场追迹仿真
x[x(y{&~ (:n|v% •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
E30Z`$cz: •单击go!
5gshKmt_ Oyan9~ En\Z#0,V 'yr{^Pek 场追迹仿真(相机探测器)
Du!._ CmHyAw( •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
oM-[B h]A •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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S8 场追迹仿真(电磁场探测器)
Z0\Iyc G •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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}_H?j 场追迹仿真(电磁场探测器)
6|#g+&[ U&W"Ea=R/ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer s)w9% -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination I`^Y Abnb Yqj+hC6>, (来源:讯技光电)