摘要
linvK.Lf 'Fr"96C$ 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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>}) W5Y+ :>3/*"vx?G 建模任务
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~d"9?K^# 概述
7x//4G Y |'}VU •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
o%)38T*n3 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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K6G+sBw[ R@A"U[* 光线追迹仿真
GFfZ TA }2.0e5[ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
*RJiHcII •单击go!
Ck>{7Gw •获得了3D光线追迹结果。
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v&r\Z @% 2f0qfF 光线追迹仿真
r O-=):2 <gu>06 •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
RI&V:1 •单击go!
Z Is=%6""& •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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xV>sc;PEb xM2UwTpW 场追迹仿真
QQ\\:]iM UoOxGo •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
}II)<g' •单击go!
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"5b4fQ;x X1FKcWv 场追迹仿真(相机探测器)
;fxrOfb /0(c-Dv •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
^Fg!.X_ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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/amWf^z +Y"HbNz 场追迹仿真(电磁场探测器)
S t;@ZV •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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_ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer j026CVL -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination (N?nOOQ 79Ur1-]/ (来源:讯技光电)