摘要
*y!O\-\S#> dPwyiV0 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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u3C_Xz Bchv1KF 建模任务
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du66a+@t 概述
N-\N\uN @"-\e|[N •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
wQSye*ec •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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FfdB% cm(*F0< 光线追迹仿真
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TB& •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
9%"7~YCDas •单击go!
#$I@V4O;# •获得了3D光线追迹结果。
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Z 光线追迹仿真
vR!+ 8sy$ H#~gx_^U •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
iT>u&0B- •单击go!
mG jB{Q+ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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C#kE{Qw10r ]YgR 场追迹仿真
<+_XGOt0< nm- •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
*siX:?l •单击go!
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eDJnzh83 /jG?PZ=m 场追迹仿真(相机探测器)
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*b7-a Alxf;[s •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
2:*15RH3 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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S&_03 i]v3CY|3AI 场追迹仿真(电磁场探测器)
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U" •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer C4mkt2Eb0a -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ?"yjgt7+y C'JI%HnQ (来源:讯技光电)