摘要
}FAO. uRRp8hht 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
.^FdO$" _Dg|Iz,Uh sG k'G573 OYk/K70l3 建模任务
sxn^1|O;m l%xjCuuhU _*dUH5 概述
A:Kit_A {$qLMx'; •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
A}(Q^|6 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
p V`) .hytn`+9 ~*^aCuq\ +FlO_=Bu 光线追迹仿真
0r'<aA`=I
T.#Vma •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
<sC. •单击go!
De:| T8& •获得了3D光线追迹结果。
~_hn{Ous L[.RV*sL 20k@!BNq ;=E!xfp5U 光线追迹仿真
t8upS
u| |$.`4h? •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
%Ig3udcY? •单击go!
z !:%Hbh= •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
Ny)N rIZ^ix-N QwgP+ M+ ^Jdji: 场追迹仿真
`\5u/i'Ca! zDx*R3% •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
A1V^Gi@i •单击go!
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]Geg;[t FJ(}@U}57 k_hs g6Ur. 场追迹仿真(相机探测器)
Dt\rMSjZ9 uQ'Izdm •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
4-veO3&.h •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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`nO S[5e,Ew /D&7 \3} 场追迹仿真(电磁场探测器)
=& =#G3f •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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s2ixiv= Cqc5jx0) •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer aokV'6 -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 40)Ti %AnqT|\#, (来源:讯技光电)