摘要
B~WK)UR Ut]2` 8- 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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Z^{+,$H@ IKGTsA; 建模任务
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b(R/T 概述
1B6C<cL:sU gxI&f •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
;]{{)dst •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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u1tq2"D8 E2Us#a 光线追迹仿真
NvUu. stX'yya •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
`'kc|!%MUq •单击go!
x)j/ •获得了3D光线追迹结果。
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oDz*~{BHg =E&2 4 光线追迹仿真
Z"-ntx# O;UiYrXU •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
{cmo^~[L$ •单击go!
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Jh •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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Lwp-2`% XI]OA7Zis 场追迹仿真
v>rqOI 4sj9Z: •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
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&9)'o •单击go!
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~*@H 场追迹仿真(相机探测器)
FTbT9 8rGl& •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
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•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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jAA'hA $eK8GMxZ# 场追迹仿真(电磁场探测器)
Z~duJsH •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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NdM}xh enPzy:C 场追迹仿真(电磁场探测器)
T^KCB\\< 0\V\qAk •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 3{ .9O$ -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination RH<@c^ S Q{%HW4lg (来源:讯技光电)