摘要
$Zrc- tkV * a(GG 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
daQJ{Cd,w /W}"/W9 \4OU+$m E% Ysyk 建模任务
{ueDwnZ U?:?NC=1{ O6q5qA 概观
_t X1z ^ mI^S% HT { ux'9SA 光线追迹仿真
vhU
$GG8 >v/%R~BuX •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
KC<K*UHPAH $ O;a~/T •点击Go！
`[_p,,}Ir •获得3D光线追迹结果。
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r%
lx lj *=bK WZ bRR.TxO j2hp*C'^ 光线追迹仿真
~Bt >Y gPpk0LZi
7<5=fYb r •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
B-$ps=G+z •单击Go！
j#VR>0oC]\ •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
9J}^{AA \&v)#w d8^S~7 _tnoq;X[ 场追迹仿真
Hv
=7+ O$ JWxSN9.X mP
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C)2 •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
3HndE~_C& •单击Go！
t0ZaI E ]vCs9* |B )Y=ti~?M( +DSZ(Zb4qY 场追迹结果（摄像机探测器）
3e;ux 6 (%]M a [5P1 pkZ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
+'9xTd •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
<ZoMKUuB Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
}~ga86:n0 g`H ;~ w @l~MY *hp B !1L W4^ 场追迹结果（电磁场探测器）
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HhUk9 >7 •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
JZ"XrS0 ? 1KI5tf>>p arn7<w0 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer - lI6!a^ -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination =K6{AmG$ IU rGJ#}O （来源：讯技光电）
