摘要
Kbdjd p `^mPq? f 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
V l,V }"V$li L<GF1I) .V4w+:i 建模任务
0`{3|g # u<^ UUE:>[, 概观
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C Mya l3UF s>p OfXIx 光线追迹仿真
CG`s@5y> 5 BA1|%:. •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
U\crp
T` >u6*P{;\ •点击Go！
p "J ^ •获得3D光线追迹结果。
RB\0o,mw4 lur$?_gt ,-4SVj8$P nBVR)|+M 光线追迹仿真
D8w:c6b & o2F 4 0n'~wz"wB •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
b1("(,r/` •单击Go！
y([""z3<w •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
3!+N} [$iy x_C#ALq9 u{H'evv0O m|7l Dfpb 场追迹仿真
!I 7bxDzK$
1#G( pPC_ub •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
Z#2AK63/T •单击Go！
POnI&y] lbRm( W( C4#E N} L\:f#b ~W 场追迹结果（摄像机探测器）
B@:11,.7 YTQom! O 4 yk!T •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
nE~HcxE/ •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
kLr6j-X Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
7]i=eD8 _cWz9 ; X5(S+;v"^ 4f}:)M$5 场追迹结果（电磁场探测器）
<`'^rCWI? BQs~>}(V A3\%t@y •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
L>,j*a_[ 4\#!G v- :;w b{q$O 文件信息
r*n _#&-7 UUzu`>upB FUq>+U!Qu uv:DO6 { 更多阅览
l~Em2@c -
Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer v}$s,j3NO -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination _ l i\b- E^RP K{zO （来源：讯技光电）
