[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 p|q}z/  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 D(z}c,  
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建模任务 i,3[0*ge  
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概观 s]lIDp}  
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光线追迹仿真 f\/'Fy0  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 r=S6yq}  
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•点击Go！ 9hNHcl.  
•获得3D光线追迹结果。 76'vsg  
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光线追迹仿真 "&@v[O)!xu  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 2)W~7GED  
•单击Go！ F~C9,`#Wf@  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 vT&xM  
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场追迹仿真 {,Py%.vvR  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Kx@Papn|6  
•单击Go！ HAHLF
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场追迹结果（摄像机探测器） 2rG;j52))a  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 >E:V7Fa  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 e; #"
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Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 BPH-g\q  
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场追迹结果（电磁场探测器） Ck;>
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ;n"Nv}<C  
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文件信息
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更多阅览 Z_tK3kQa@&  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer p3N/"t&>  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 2VY.#9vl  
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一系列镜子是怎么加上去的？经验么