[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 ?:~Y%4;  
DpoRR`  
高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 +Q8Bin  
TBvv(_  

图片:1-1Q210141S0B6.png

`4gm'C  
6ZR'1_i6i=  
建模任务 r8}GiP0|  
}I9\=jT  

图片:1-1Q210141Z3L0.png

^t?P32GJ  
概观 }|(KI  
a$l/N{<.  

图片:1-1Q21014202H61.png

$@7S+'Q3  
光线追迹仿真 r,EIOcz:  
XW%!#S&;X  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 P<km?\Xp(  
{xMY2I++  
•点击Go！ hF.9\X]  
•获得3D光线追迹结果。 Ti=~ycwi  
CT6a  

图片:1-1Q2101423224L.png

th2a'y=0  
Jx[
IHE  
光线追迹仿真 8m2-fuJz  
v;80RjPy>  
+79?}|  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 0' @^PzX  
•单击Go！ uF+if`?  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 ]o6Or,ml  
>s1'I:8  

图片:1-1Q210142613B5.png

r~si:?6:  
bYYyXM  
场追迹仿真 )K4 |-<i  
.u>IjK^  
a#nVRPU8m  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 <9@I50;  
•单击Go！ `u3to{  
e #>wv]V  

图片:1-1Q210142A2533.png

0-oR { {  
I;S[Ft8
d  
场追迹结果（摄像机探测器） tq8B)<(]  
$21+
6  
X@*$3z#Z  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 S ])Ap'E  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 YYzj:'  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ?J<Y]  
b?hdWQSW7  

图片:1-1Q210142Q6438.png

kQxY"HD  
*Sm$FMWQ  
场追迹结果（电磁场探测器） T9osueh4  
=cs;avtL  
>%h_ R:  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 (`>RwooE
 
ZTfs&5  

图片:1-1Q210143024c8.png

CLg;  
文件信息 ++W_4 B!  
t|jX%s=  

图片:1-1Q210143051458.png

/d ?)  
AkrUb$ }  
更多阅览 {0+gPTp  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer {s6;6>-kPW  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination X3NHQMI   
g7res  

一系列镜子是怎么加上去的？经验么