摘要
r1Z<:}ZwK RrWNJ&o 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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YwAnqAg l!IGc: 建模任务
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lLCdmxbT 概观
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p4wr`" Zz 光线追迹仿真
/ 2@["*^$ Bq!cY Wj •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
9+Nw/eszO L'9N9CR{i •点击Go！
Oh`2tc- •获得3D光线追迹结果。
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Wsm`YLYkt! VPd, ]]S5( 光线追迹仿真
G$5m$\ K %S#WPD'Y >5Lexj •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
FFe) e>bH •单击Go！
onl>54M^ •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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hJH4 EXpSh} 场追迹仿真
dWR1cvB(wY @J vZ[T/ 2c:f<>r0y •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
G;]:$J •单击Go！
Y\? j0X; hz)9"B\S 
CV^c",b_ -x'e+zT 场追迹结果（摄像机探测器）
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W 9R`A •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
0"4@;e_)> •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
z[&s5 " Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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g%\L&}Jd #Lka+l;L7 场追迹结果（电磁场探测器）
.>]N+: O km\%BD~ 77Q}=80GU; •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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L11L23: 文件信息
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Iql5T #K+ )=H{5&e#u 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer {X nPx? V -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination E
$6ejGw- DQgH_! （来源：讯技光电）
