摘要
CfAX,f"ZP
^>[Z~G($ 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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6kHAoERp b{9q 建模任务
R5qC;_0cV +Dk sWb D 
]^"*Fdn 概观
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POdG1;) 光线追迹仿真
J-hP4t&x ']>@vo4kK{ •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
lQldW|S> ? %F*{3IP •点击Go！
{p+7QlgK •获得3D光线追迹结果。
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!|hv49!H 2BEF8o]Np 光线追迹仿真
4$@)y Z ]k5l]JB Ydh]EO0 ' •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
@M S;qoc •单击Go！
<Jv %}r •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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xl@ \5cAOBja 场追迹仿真
,vl][MhM 6*le(^y` 1 f).J •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
Yu`b []W •单击Go！
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场追迹结果（摄像机探测器）
]G#o g)z4 22)2o lU UF3WpA •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
$d'GCzYvZ •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
T]Pp\6ff Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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XOAZ K FvNsqd 场追迹结果（电磁场探测器）
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_tpVZ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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5g@t0$ 文件信息
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[4 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer CXwDG_e -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 9
N[k ?kUZ ,IX:u1mO （来源：讯技光电）
