摘要
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9xNKm S"Cz.
bv 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
8~o']B;lJ eTS}- +Ua|0>? H>EM3cFU 建模任务
~U]g;u a'i
Q(" lln"c 概观
Sf, z &ry*~"xoh {]R'U/ 光线追迹仿真
VyxYv-$Y ^U_T<x8{ •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
[b3!H{b# Wm}c-GD •点击Go!
Q4"\k.
? •获得3D光线追迹结果。
1(?4*v@B 2^WJ1: A A#"Wk]jX FXof9fa_B 光线追迹仿真
5.~Je6K U tUv>1)
[ K|7"YNohfG •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
4qOzjEQ •单击Go!
>j5\J_(;D •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
R{#< NE 7s|'NTp q3$8"Q^ c|Ivet>3 场追迹仿真
a$My6Qa# K|P0nJT <,]:jgX •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
$xbC^ k •单击Go!
7=l~fKu ;t&q|}x" Hy.u6Jt*/ }e[ E 场追迹结果(摄像机探测器)
0WUBj:@g _ .v G) ,"%C.9a •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
^{+ry<rS> •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
pp"X0 Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
4era5= 5p0~AN) KUI{Z I m!V,W*RNr 场追迹结果(电磁场探测器)
+Iyyk02V TjW!-s?S uwNJM •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
]&*POri& Ds`e-X)O;\ ZoG@"vr2 文件信息
#I/P9)4 X{-4w([ 6>vR5pn U%q)T61 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer 7H6Ts8^S -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
\]ib%,:YU %F*9D3^h (来源:讯技光电)