摘要
Gw
M:f/eV ys[Li.s: 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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,_[x|8m )vp0X\3q` 建模任务
K_7pr~D]@r ajY e?z 
_( W@FS 概观
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f :c 'j` 光线追迹仿真
80xr zv m'4f'tbN •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
G7Nw}cVJ) @MW@mP)# •点击Go！
ui 8 Q2{z •获得3D光线追迹结果。
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FpoH m%+ %!aU{E|@_ 光线追迹仿真
*$f=`sj Kxe\ H'rR Nw;qJ58@ •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
h2l;xt •单击Go！
X{9^$/XsJ •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
SI (f&T( &2'-v@kK 
! 'zd(kv< c-Lz luWi 场追迹仿真
<p@Cx *}[\%u$ T f?3-C8 hU •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
pYr"3BwG •单击Go！
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o)`PS w= #Z&/w.D2 场追迹结果（摄像机探测器）
[&x9<f6 ?h<4trYcv kZ]H[\Fs •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
%m I0*YRma •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
'Zx5+rM${} Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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+U x*7@b8J 
b R\7j+*& Ufr@j` * 场追迹结果（电磁场探测器）
! _I1=yi NvK9L.K FU`(mQ*Yd •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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8} /DD^M 文件信息
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u {1R=ML qGk+4 yC 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer ,H7X_KbFD4 -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 4pmeu:26 oO}g~<fYG （来源：讯技光电）
