摘要
Qh 3V[b r APfDy 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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d G}.T_l |GDf<\ 建模任务
FN25,Q8:*I M-K.[}}-d 
`u. /2]n 概观
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v7V.,^6+ 光线追迹仿真
17itC9U FXAP]iqo •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
i8]2y mt0ZD}E •点击Go！
r]C`# •获得3D光线追迹结果。
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E(0(q# n bZ/4O*B 光线追迹仿真
RpAtd^ I EB/.M+~a qtx5N)J6 •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
&$'=SL(Z •单击Go！
~#doJ:^H3 •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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SS4'yaQ LX
i?FQnLu 场追迹仿真
/(aKhUjhb 1j_x 51p !A. Kb74 •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
H%K,2/Nj •单击Go！
Kn#3^>D 7c:5 Ey 
!PaD q+fB
=<_ei|ME 场追迹结果（摄像机探测器）
" ;)SA,Z ~-"<)XPe X j'7n j •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
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Ku2X •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
[n 53 eC Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
GM5 s~, L @ b8, 
jh3LD6|s} `=]I -5#.W 场追迹结果（电磁场探测器）
a]-.@^:_i `OY_v=} vFKt=o$ g •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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9$9Pv%F:j 文件信息
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.js@F/H p wYf9&}k\4 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer IZ2c<B5& -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Lv;R8^n Cq7EdK;x （来源：讯技光电）
