[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 \7WZFh%:  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 YeI|&FMX  
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建模任务 `svOPB4C'  
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概观 _SrkR7  
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光线追迹仿真 & &:ZY4`  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 }g"K\x:Z  
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•点击Go！ m^;A]
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•获得3D光线追迹结果。 |?LUt@r;  
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光线追迹仿真 to#T+d.(v  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 b/UjKNf
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•单击Go！ Lu[xoQ~I  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 w/wU~~  
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场追迹仿真 q;<Q-jr&O  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 89fl\18%  
•单击Go！ *cc|(EM  
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场追迹结果（摄像机探测器） +zzS  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 sX#
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•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 qD>

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Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 k6??+b:rE  
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场追迹结果（电磁场探测器） eo'C)j# U  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 J.pe&1  
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文件信息 AK5$>Pkvk  
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更多阅览 P8;f^3V(+/  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer ii]'XBSVd  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination }{@RO./)[  
}S>:!9f  

一系列镜子是怎么加上去的？经验么