摘要
ZZwIB3sNhf >?)_, KL 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
_ G t;= /*BK6hc ?azLaAG \ CE+P5 建模任务
KF@%tR}V{ d0|{/4IWw; `F1Yfm
jZT 概观
#O,w{S ( xzruI5P R/fE@d2~In 光线追迹仿真
T][c^K* $bF+J8%D •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
7\$ b%A .I]v
D#o •点击Go！
.HGK 3 •获得3D光线追迹结果。
])bgUH y!:vX6l p\#;(pf}s *SI,K)BP 光线追迹仿真
]]`[tVaFr yw% E S pFiE2V_aS •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
#lSGH 5Fp? •单击Go！
]5:[6;w S •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
7h!nt=8Y
lX/7 B-L@ 0gH oa5L5Zr,A 场追迹仿真
=w8 0 y' wv\"(e7( Yt:%)&50}- •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
"?<`]WG\ •单击Go！
Au/'|%2#( -iW>T5f fpjFO&ML TV_a(#S 场追迹结果（摄像机探测器）
wt'"<UN 0$ Zh4Y )' ,dP)b •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
p14$XV •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
:
4lR`% Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
A,4}
$-7 p<Tg}fg B VH)!]m0 ^ yF
Wvfh4 场追迹结果（电磁场探测器）
>Rdi]:]Bv 6 !fq658 wa&:86~l? •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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8F)9.s,* LS# _K - 6 73G6Nk UN^M.lqZX 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer @Y(7n/*
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Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ]^a{?2 ei n4"xVDL （来源：讯技光电）
