[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 :5_394v  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ;&$f~P
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建模任务 o<Qt<*  

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概观 B!((N{4H+  
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光线追迹仿真 q,>4#J[2;s  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 Sh\Jm*5  
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•点击Go！ :H>0/^Mg0  
•获得3D光线追迹结果。 F~?|d0  
W^)'rH  
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光线追迹仿真 .p(%gmOp#  
N)4R.}  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 :ka^ztXG  
•单击Go！ kY{;(
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•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 C/MQY:X4  
Xo3@-D_c!c  
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场追迹仿真 ;Q0H7)t:  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 X=V2^zrt  
•单击Go！ Y6m:d&p=}  
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场追迹结果（摄像机探测器） +#9 4X)*  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 }#6~/ W  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 h!?rk|  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Q^):tO]!Ma  
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场追迹结果（电磁场探测器） 1NkJs&  
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yz=aJ v; H  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 7m8(8$-
6  
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文件信息 & l0LW,Bx  
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更多阅览 (wf3HEb_  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer ~-#Jcw$+n=  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination %DM0Z8P$B-  
.R)uk  

一系列镜子是怎么加上去的？经验么