摘要
/ q8n_NR $"sf%{~ 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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~) = \tg$ 建模任务
m|'TPy fuQ? @F #\w~(Nm- 概观
# *\PU HdVGkv/ Ucv-}oa-? 光线追迹仿真
M Sw/_{
>hHn{3y •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
-8g ;t3z 1'M< {h<sP •点击Go！
RzXxnx)]q •获得3D光线追迹结果。
yt$V<8a k pEES{f Aj-}G^># A2]N := 光线追迹仿真
]kR 93 +,If|5>( FD[* mCGZ •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
zf#V89!]C" •单击Go！
wOINcEdx •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
\S3C"P%w M++*AZ Ot5
$~o ~,.Agx 场追迹仿真
^KmyB6Yg ]e 81O#t3 Bx2E9/S3 •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
P5kkaLzG •单击Go！
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f-1} ,0;E_i7 )N<>L/R &!a[rvtZ+ 场追迹结果（摄像机探测器）
9w (QM- u b>?X8)f2e h$y1"!N( •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
o^2.&e+dQ •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
OP{ d(~ + Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
H;%a1 >(p "! ^!!@O91T $D 1Pk 场追迹结果（电磁场探测器）
1P@&xcvS\ YB.r-c"Y %# Fd0L •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer 7{2knm ^ -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 52,p CyU >n{(2bcFs （来源：讯技光电）
