摘要
v;m}<3@' w ;Jb y 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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4Cl41a ]~H\X":[> 建模任务
lE@ V>%b C+=8?u< 
gZLzE *NZ 概观
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]gHi5]\NC 光线追迹仿真
2y0J~P! I ,-GkP>8f( •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
D#I^;Xg0h a\BV%'Zqg •点击Go！
7eyVm;LQD •获得3D光线追迹结果。
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3w -0IP]< v3`k?jAaI 光线追迹仿真
wVms"U. |)vC^=N{+ `f~ \d.*U •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
)* \N[zm •单击Go！
v.Y?<=E+<d •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
MY]<^/Q WE|-zo 
'q_^28rK qij<XNZU"& 场追迹仿真
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DM5q C=&rPUX{ 25zmde~ w •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
1K`7 •单击Go！
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:p@.aD5 6|Qg=4_FHt 场追迹结果（摄像机探测器）
4N- T=Ig :47bf<w|Y v , VCbmc •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
H>qw@JiO! •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
?b8 : Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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Ng $k,wA8OZ- 场追迹结果（电磁场探测器）
8`{)1.d5[ ?E*;fDEC P d"=&Az| •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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[K=M; $iQ 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer '<JNS8h -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Biva{'[m sT*D]J
2 （来源：讯技光电）
