摘要
N##-
vV Ox"SQ`nSj' 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
7N[Cs$_] , @dhJ8/ 
LkUi^1((e [35>T3Ku 建模任务
kaZ_ra;< A>QAR)YP 
EY'48S 概观
aq%i:}; F=~LVaF/_ 
qre(3,VE5 光线追迹仿真
"0Yb
2> F k= oCpXq^ •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
$1;@@LSw u_X(c'aE; •点击Go！
PgwNE wG •获得3D光线追迹结果。
55vI^SSA a3[lZPQe 
@y{
f>nm I"r[4>>B>0 光线追迹仿真
WO"<s{v g2W ZW#a) Tlz~o[`& •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
pJ H@v
&a •单击Go！
`NARJ9M •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
zc%HBZ3p SoL"M[O 
2M3C
5Fu Dh B*k<S 场追迹仿真
k2Z MDU Ue2k^a*Ww <l"rn M% •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
R)BH:wg" •单击Go！
ThJ`-Ro _$BH.I 
{.D/MdwW; >'2=3L^Q 场追迹结果（摄像机探测器）
nT xN>?l2E ]{PJ I vD M2q8f •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
3[}w#n1 •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
6e Hw\$/ Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
d}(b!q9 b?%Pa\,! 
<+)B8I^ R :t 场追迹结果（电磁场探测器）
-JfO} DRI !t+eJj C#D8
E.W •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
>19j_[n@VC gtw?u b 
7F
1nBd 文件信息
P~ 7p~ke Q!v]njCIB7 
|t&gyj NJ$c0CNy 更多阅览
Q"b6 2+03 -
Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer rz]M}!>k -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 1i:Q
%E
F s.9_/ cFWB （来源：讯技光电）
