[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要  d H ;  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 9[@K4&  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 a@v}j&  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 ,l )7]p*X  
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图片:1-1Q21014202H61.png

7E]qP 5  
光线追迹仿真 Pz77\DpFi  
P~^VLnw  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 S9mcThcZ  
r Y#^C  
•点击Go！ }c?W|#y`.o  
•获得3D光线追迹结果。 =&,<Co1hF  
Po*G/RKu4W  

图片:1-1Q2101423224L.png

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RqU^Q*/sF
 
光线追迹仿真 bZ-_Q  
'L5ih|$>  
VoG:3qN  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ^/M-*U8ab  
•单击Go！ WFm\ bZ.  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 {^V9?^?d (  
7 /7,55  

图片:1-1Q210142613B5.png

:v Do{My^1  
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场追迹仿真 b sM]5^  
|?\J,h  
k"$E|$  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 bD:[r))#e  
•单击Go！ +zL|j/q?  
O-,0c1ts  

图片:1-1Q210142A2533.png

S-2@:E  
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场追迹结果（摄像机探测器） r>,s-T!7  
CwdeW.A"j  
8_=MP[(H  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 $VNj0i. Pr  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 sg9  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 A?+cdbxJw  
L )53o!  

图片:1-1Q210142Q6438.png

Z!foD^&R  
8$~^-_>n/  
场追迹结果（电磁场探测器） UNF@%O4_T  
c_Lcsn  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 y"T(Unvc  
h]>7Dl]  

图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 ?8-ho0f0  
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图片:1-1Q210143051458.png

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- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination nw,XA0M3  
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一系列镜子是怎么加上去的？经验么