摘要
ku=XPmZ.\ 5B=Wnau 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
p}swJ;S -Qco4>Z 8 } "ts >pl*2M& 建模任务
/%GMbO_ u~d&<_Z k-vxKrjZ/ 概观
>'zp :`P;(h IN9o$CZ: 光线追迹仿真
@'!61'}f DV~1gr,\ •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
}"?KHy S\UM0G}v •点击Go!
W(tXq •获得3D光线追迹结果。
Iq[,)$ )Z 3fytY ;EfMTI}6K
qz:_T 光线追迹仿真
#0 WO~wL N6<23kYM 0IM#T=V •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
Vkb&'
rXw+ •单击Go!
bqg\V8h •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
g)iSC?H fJC,ubP[5 w65
$ R AH],>i3 场追迹仿真
T;< >"" T u$[T8UqF 7iKbd •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
?Xo9,4V1 •单击Go!
{:enoV" y!^RL,HIL ':w6{b c~|/,FZU' 场追迹结果(摄像机探测器)
o&~z8/?LA ;SVF"Uo `"CF/X^ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
q&
Vt* •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
. yu Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
t5N4d %]Nz54! Ahq^dx#o X6<HNLgra 场追迹结果(电磁场探测器)
I/)dXk~ TniZ!ud ^j=_=Km] •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
{hRAR8 hoeTJ/;dm D\V}Eo';6 文件信息
1
)j%]zd2 j`'=K_+nU W# y)ukRv oaBfq8,; 更多阅览
+uwjZN'9a -
Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer ]@?3,N -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ($W9
? km<~Hw>Z (来源:讯技光电)