摘要
ku=XPmZ.\ 5B=Wnau 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
p}swJ;S -Qco4>Z 8 } "ts >pl*2M& 建模任务
/%GMbO_ u~d&<_Z k-vxKrjZ/ 概观
>'zp :`P;(h IN9o$CZ: 光线追迹仿真
@'!61'}f DV~1gr, \ •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
}"?K Hy S\UM0G}v •点击Go！
W(tXq •获得3D光线追迹结果。
Iq[,)$ )Z 3 fytY ;EfMTI}6K
qz:_T 光线追迹仿真
#0 WO~wL N6<23kYM 0IM# T=V •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
Vkb&'
rXw+ •单击Go！
bq g\V8h •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
g)i SC?H fJC,ubP[5 w65
$ R AH], >i 3 场追迹仿真
T;< >"" T u$[T8UqF 7iKbd •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
?Xo9,4V1 •单击Go！
{:enoV" y!^RL,HIL ':w6 {b c~|/,FZ U' 场追迹结果（摄像机探测器）
o&~z8/?LA ;SVF" Uo `"CF/X^ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
q&
Vt* •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
. yu Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
t 5N4d %] Nz54! Ahq^dx#o X 6<HNLgra 场追迹结果（电磁场探测器）
I/)d Xk~ Tni Z!ud ^j=_=Km] •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
{hRAR8 hoeTJ/;dm D\V}Eo';6 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer ] @?3,N -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ($W9
? km<~H w>Z （来源：讯技光电）
