[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 WE_'u+!B  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 H4{7,n  
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建模任务 3,{;wJ Z  
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概观 b j<T`M!  
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光线追迹仿真 QJ>=a./  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 /k^j'MMQs6  
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•点击Go！ z~v-8aw  
•获得3D光线追迹结果。 8^^ehaxy  
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光线追迹仿真 = 1d$x:  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 >
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•单击Go！ N "eK9>  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 6(1 &6|o3  
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场追迹仿真 P/]8+_K  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 a<+Rw{  
•单击Go！ to#2.  
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场追迹结果（摄像机探测器） WFS6N.Ap  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 }:0HM8B7!  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 fKuaom9  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 pMp@W`i^6  
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场追迹结果（电磁场探测器） O&">%aU1I  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 bs?4|#[K  
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文件信息 "DJ%Yo  
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更多阅览 BMhuM~?(  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer a<V Mh79*  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination >v%UV:7ap  
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一系列镜子是怎么加上去的？经验么