摘要
*fN+wiPD GvVkb==" 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
"7 cty\ ;yNc 7Vl ZTR9e\F < $zJi V 建模任务
ysnW3q!@ rbvk.:"^w 7uR;S:WX 概观
56AC%_ g> < rzP qvn.uujYS 光线追迹仿真
5RP G3ppS 15ailA&(Qm •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
W9SU1{*9 e)sR$]i:v •点击Go！
Odwe1q& •获得3D光线追迹结果。
0B.Gt&O al )oIh?-WL Pb&tWv\ql x2!R&q8U> 光线追迹仿真
*OLqr/ yb =E9\fRGU
Lt*P& •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
aAjl
58 •单击Go！
bRvG etX •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
; ,bgJ gK 7d;|?R-8D O`Tz^Q /D ACyK#5E 场追迹仿真
Y4k2=w:D 9KVJk</:n -[=~!Qr: •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
v@qP &4Sp •单击Go！
c}(H*VY2n I=dG(?#7% xF8r+{_J) Zn b={hh 场追迹结果（摄像机探测器）
zu d_BOq{f S;4:`? s=i (=j;rfvP •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
U WT%0t_T •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
GD4S/fn3 Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
yd;e;Bb7* Q ^b& Yg&(km m |nNcV~%~ 场追迹结果（电磁场探测器）
bWTf P8gT sh
:$J[ /h >g-zb •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
h%/BZC^L]| !1l~UB_ i(4<MB1a 文件信息
Yc[umn^K %jL^sA2;c+ ,ua1sTgQ D, ")n75 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer 5f*_K6 ,v -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination R /=rNUe 4aHogheg （来源：讯技光电）
