[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 Z/x*Y#0@n  
D(p\0V  
高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 `RU[8@ 2%  
ah @uUHB  

图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 uw\2qU3g
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~DRmON5 M  

图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 iwz  
Q9}dHIe1E  

图片:1-1Q21014202H61.png

aQ^umrj@?9  
光线追迹仿真 -9RDr\&`(  
v_e9}yI  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 Mb3}7@/[  
/@AEJ][$  
•点击Go！ xtPLR/Z  
•获得3D光线追迹结果。 +_XmlX A3Z  
)X4K2~k*  

图片:1-1Q2101423224L.png

JN^&S  
j!
7`]  
光线追迹仿真 DG4d"Jy  
DD" $1o"  
gaA<}Tp,  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ?JL7=o X  
•单击Go！ Kp+CH7I*  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 DAo~8H  
b:qY gg  

图片:1-1Q210142613B5.png

ThPE 0V  
Dnc(l(  
场追迹仿真 Z/rP"|EuQ  
NmMIQ
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gP+fN$5'd  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 +,~zWv1v  
•单击Go！ VG/3xR&y  
AiD[SR  

图片:1-1Q210142A2533.png

ih?^t(i  
*yl>T^DjTC  
场追迹结果（摄像机探测器） >]o}}KF?  
M#|dIbns H  
Y+K|1r
 
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 =^H4Yck/5  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 fgihy  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 r`c_e)STO  
R/"x}B1d  

图片:1-1Q210142Q6438.png

NrP0Ep%V  
d #jK=:eK  
场追迹结果（电磁场探测器） 3\T2?w9u(  
7d92Pe  
''\;z<v  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ~4q5 k5.,  
P{Q=mEQ  

图片:1-1Q210143024c8.png

(C]o,7cYS  
文件信息 i#%aTRKHd6  
A(]H{>PMy  

图片:1-1Q210143051458.png

EGl^!.'  
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更多阅览 
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- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer %e*@CbO$  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination h*u`X>!!  
pm{|?R  

一系列镜子是怎么加上去的？经验么