摘要
Y3 -P* 2M ;{|U 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
b H= 5[ jeW0;Cz
J~ 
('gjf l ~@-Az([H 建模任务
<1@_MY o h? TE$&CL? 
U,]z)1#X| 概观
sFGX W :;JJvYIs 
3v {GP> 光线追迹仿真
G,XF S8{% 8kqxr&,[ •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
}^QY<Cp| 2x{3' ^+l •点击Go！
-_2= NA?t •获得3D光线追迹结果。
P#yS ]F/ TX*P*-' 
wRuJein# R
sujKh/ 光线追迹仿真
F"bbU/5 jeJGxfi i }R>g(q=N •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
xF ,J[Aj •单击Go！
hsl Js^ •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
1.';:/~( E]g KJVf9[ 
GWh b @K JL*-L*|Zcl 场追迹仿真
C 4n5U^ `j<'*v
zo 7{b|+0W •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
Z1>pOJm •单击Go！
qV(Plt% mp5]=6 ~:m 
KcSvf;sx ^ i\zMMR 场追迹结果（摄像机探测器）
+ W +<~E ;z[yNW8 is`a_{5e= •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
K|s+5>]W/[ •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
i=SX_#b^ Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
2 1 ;n0E PCFm@S@Q 
H!xBFiOH$n &QE* V 场追迹结果（电磁场探测器）
%fxGdzu7. #7g~U m%p 0 "> # h •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
k|BEAdQ%M ^beW*O! 
[,fMh $t 文件信息
5[;^Em)C K7y}R%Q F 
CwT 52+Jb 20K<}:5t1 更多阅览
Xe*
L^8+ -
Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer 9aXm} -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination LxG :?=O. gzuM>lf*{ （来源：讯技光电）
