摘要
(hIy31Pf Bl v @u ? 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
}e&Z"H | -Deqlaf( O.OSLezTQ Y
f;Slps 建模任务
UoKXo *W2 .V|o-~c ,c[f/sT\ 概观
+ :m' X##hSGQM UWq[K&vQZ
光线追迹仿真
$r mfE g; G.uF& •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
"9yQDS: f;%\4TH? •点击Go！
Y`
tB5P •获得3D光线追迹结果。
l*<RKY8 !;;WS~no3 :/FT>UCL ;Fm7!@u^0 光线追迹仿真
e'1}5Ky %P-z3 0FHp eEMU,zCl •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
zsha/:b •单击Go！
53X5&Bwh •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
t5jZ8&M5] 8K0@ *0 e2$k
%c~ 8iwqy0< 场追迹仿真
A>W8^|l6+- s c
&S0K 7.`:Z_ •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
UBve a(z-# •单击Go！
2/V9Or 52 IJV1=/ NJW u P veAK}h .@(9v .:_u 场追迹结果（摄像机探测器）
E]j2%}6Z% QAmb_:^"d !L_\6;aP,x •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
b(|1DE 0Cv •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
V?"SrX N> Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
/4PV<[
:_ Ju.B!)uS# U<H<
!NV |] 8Hh> 场追迹结果（电磁场探测器）
]S #m
o 4` z frT^ UuvI ? D •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
V[T`I a\ l2LUcI$ x (r+#}z} 文件信息
pv #uLo N++jI ( 9 8AX=%8 z}:|is)? 更多阅览
J}UG{RttI -
Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer L+o"<LV] -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination V"{+cPBO) o:ir wfArv （来源：讯技光电）
