摘要
(hIy31Pf Blv@u ? 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
}e&Z"H | -Deqlaf( O.OSLezTQ Y
f;Slps 建模任务
UoKXo*W2 .V|o-~c ,c[f/sT\ 概观
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光线追迹仿真
$rmfE g;G.uF& •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
"9yQDS: f;%\4TH? •点击Go!
Y`
tB5P •获得3D光线追迹结果。
l*<RKY8 !;;WS~no3 :/FT>UCL ;Fm7!@u^0 光线追迹仿真
e'1}5Ky %P-z3 0FHp eEMU,zCl •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
zsha/:b •单击Go!
53X5&Bwh •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
t5jZ8&M5] 8K0@*0 e2$k
%c~ 8iwqy0< 场追迹仿真
A>W8^|l6+- sc
&S0K 7.`:Z_ •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
UBvea(z-# •单击Go!
2/V9Or52 IJV1=/NJW uPveAK}h .@(9v.:_u 场追迹结果(摄像机探测器)
E]j2%}6Z% QAmb_:^"d !L_\6;aP,x •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
b(|1DE0Cv •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
V?"SrXN> Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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:_ Ju.B!)uS# U<H<
!NV |]8Hh> 场追迹结果(电磁场探测器)
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o 4` zfrT^ UuvI?D •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
V[T`I a\ l2LUcI$ x (r+#}z} 文件信息
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J}UG{RttI -
Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer L+o"<LV] -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination V"{+cPBO) o:irwfArv (来源:讯技光电)