摘要
;$@7iL =+q9R`!L] 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
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~=HN30 #d%'BUde 建模任务
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-":6 概观
@L^2VVWk^ >#B%gxff
@D8c-`LC"* 光线追迹仿真
cTmoz.0 ^.,pq?_ •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
eX9{ wb( -UkP{x)S •点击Go!
5n1;@Vr •获得3D光线追迹结果。
7/NXb aksyr$d0V<
$78fR8|r- F"j0;}+N 光线追迹仿真
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S8Z5k; T%K(opISc( VO>A+vx3M •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
#EAP<h •单击Go!
L5"" •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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O>xGH0H "aK3
ylz; 场追迹仿真
Ix g.^>62 [o<R#f` *7.!"rb8A •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
-Ep cX!i •单击Go!
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33|>u+ XodA(73`i 场追迹结果(摄像机探测器)
2}>jq8Y47 =v=a:e ;oVdkp •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
Ojq>4=Z\ •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
mv%fX2. Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
DCM,|FE EsXCi2]1
.MMFN}1O !Sfy'v. 场追迹结果(电磁场探测器)
9=pG$+01OR Ek(.
[" _KC)f'Cx •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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(%"M% Qko 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer id@!kSR -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination [c]X)
@#S aM5zYj`pW (来源:讯技光电)