摘要
jZ>'q/ IRQ3> 4hI 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
O[fgn;@| VClw!bm GQ8r5V4: $0K%H 建模任务
D;Jb' Be g1`/xJz | N:@C%
UW} 概观
l7r!fAV-f (N\Zz*PLz {G%!M+n< 光线追迹仿真
'yM )>]u" kM?p >V6 •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
:{tvAdMl7 Az2$\ •点击Go！
s/K}]F •获得3D光线追迹结果。
2;`"B|-T U <
p kg 0R2 AhA# 3rZ" T 光线追迹仿真
1XO *yZF ^eEj
5Rh +mT}}; -TS •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
S!n
9A •单击Go！
D4r5wc% •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
'go jP FZ/l
T-" <nj [=C4v Sn/~R|3XA7 场追迹仿真
(K+TqJw
Xze 0\jOg •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
Tf"DpA!_ •单击Go！
L&'0d$Tg8 0 n,5"B q $`:/ ehw 8Db~OYVJG 场追迹结果（摄像机探测器）
b~b(Ed{r HJ5m5':a WL}6YSC •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
tGd<{nF% 2 •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
h& (@gU`A Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
g}3c r . 7-ba-[t#A *ftJ ( E!VAA= 场追迹结果（电磁场探测器）
"ngYh]Git$ c`X'Q)c&K @6$r| :]G- •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer _ |TE )h -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination uU.9*B=H9 7 Nwi \#o （来源：讯技光电）
