摘要
+mV4Ty 0y|}}92: 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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}&;0:hw% [)9bR1wh 建模任务
nvpd u)q< Yc\;`C 
l=bB ,7gL 概观
1>l {c b lxH`O! 
!]5F2~"v 光线追迹仿真
1<fEz f{5)yZ`J* •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
' J]V"Z) "hp K8vQ •点击Go！
r"J1C •获得3D光线追迹结果。
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z26zl[. Y.jg
}oV 光线追迹仿真
Wc03Sv&FZ $eRxCX?b2 l0[jepmpiT •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
WynHcxC •单击Go！
% E~4 Ur •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
u[PO'6Kzd >y%$]0F1 
7P:0XML} b*r1Jn"h 场追迹仿真
I+8m1 * ,GZ(>| GeZwbJ/?B •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
yI qsZJj •单击Go！
Z4bN|\I 6Z|/M6f 
kB"S h_:m :3{@LOil^ 场追迹结果（摄像机探测器）
=@ V4V} ? y|i ZuHS} %|oY8;0|A> •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
0O"GI33Mg •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
LDr!d1A Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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^ 6 场追迹结果（电磁场探测器）
sVaWg?=qs' JB''Ujyi ^fXNeBj •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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DT n=WG m) 文件信息
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NQ@ EZo J ^*%p]r 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer z=BX-) -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination $//18+T bq<QUw=]q& （来源：讯技光电）
