[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 uYh6q1@"~  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 1[QH68  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 Ri,8rf0u
 
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 &hK5WP6whW  
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图片:1-1Q21014202H61.png

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光线追迹仿真 ELF,T(  
8"C;I=]8  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 X%S9H^9  
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•点击Go！ (qE*z  
•获得3D光线追迹结果。 /o<tmK_m  
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图片:1-1Q2101423224L.png

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光线追迹仿真 .O\z:GrSZz  
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O*af`J{  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 {C=d9z~:  
•单击Go！ )^&,[Q=i  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 )N{Qpbh  
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图片:1-1Q210142613B5.png

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场追迹仿真 O5PCR6U  
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8G?{S.%.  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 *+p9u 1B5  
•单击Go！ .Gq)@{o>  
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 XT  

图片:1-1Q210142A2533.png

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场追迹结果（摄像机探测器） 4m%RD&ZN
 
H6<\7W89y  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 M) 9Ss  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 T-=sC=sS,  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 !<"H73?fl  
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图片:1-1Q210142Q6438.png

YoD1\a|  

 D7%`hU  
场追迹结果（电磁场探测器） W,zlR5+Jk  
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$'}:nwq6x  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 5S'89 r3m  
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图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 '?+q3lps  
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图片:1-1Q210143051458.png

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更多阅览  R1'bB"$  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer [`P+{ R  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination c ?mCt0Cg  
brN:Ypf-e  

一系列镜子是怎么加上去的？经验么