摘要
/{l_tiE7 U~=?I)Ni 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
IwYfs]- :JSxsA6 k ^GV'Y 346 z`5 建模任务
5$+7Q$Gw =tt D5 p V_
(Ly8"1; 概观
_f 2r z+ d s`YVXKH vFHeGq70j 光线追迹仿真
}o]}R#| )-X8RRw' •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
?J6Ek*E# ;S^"Y:7) •点击Go！
zq + 2@"q •获得3D光线追迹结果。
I wj[ ^ N'{Yhx u &p#PYs|H Ag T)J 光线追迹仿真
, L k T
zAT OFV •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
|}^u<S8X •单击Go！
#SHJ0+)o •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
bX[ZVE(L 7>im2"zm i<m)
s$u q;R&valn 场追迹仿真
b`%u}^B { 'r=2f6G>cP Wk^{Tn/] •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
{_ W8Qm`. •单击Go！
:!Z |_y{b fph+ 05.% nv0D4 t \aPH_sf, 场追迹结果（摄像机探测器）
Gfx !.[Y
LTBH/[q5 [ {"x{; •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
>l -u{([B •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
yLqhj7 Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
vD 2(M1Q a i/]E6r 5 jK| 29 !QE>Q 场追迹结果（电磁场探测器）
Ax|'uvVAPT M'|[:I.V mGg/F&G9 •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
D;2V|CkU 8 |=
c3Z RpU i' 文件信息
K_t >T)K T/u61}'U{ iiu T:r ~%tVb c 更多阅览
{8":c n
j -
Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer 1C c 9 1 -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination r9-ayp#pC _) LXD,LA （来源：讯技光电）
