摘要
KRd'!bG=1 + Q5'!@8 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
K ~-V([tWg Y
cL((6A D` cy.},L :rufnmsP<U 建模任务
@Jd eOL; l_04b]; m7A3i<6p 概观
vnbY^ASdw elKp?YN ~3Qa-s;g 光线追迹仿真
JY:Fu cRa g0.[ •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
NODg _J~ T RJ 4=AA| •点击Go！
}YC =q •获得3D光线追迹结果。
T$ FKn k'F*uS
K4|fmgcy. Wo9=c YC) 光线追迹仿真
]CU)#X<J 96!2 @c{ 9"D t 3>Z •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
.;bU["fn) •单击Go！
!p36OEx •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
WT,dTn;W 71<4q {n 3h o'\Ysu/ 3 S>rc0]6 场追迹仿真
%qrUP\rn h3\(660>$ +WR'\15u •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
S n~P1C •单击Go！
j{t r''yN Q0 ezeo ei]Q<vT6 !q H)ttW 场追迹结果（摄像机探测器）
) P+<=8@a Yu[MNX ;G ]E.FBGT •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
# w^Ot*{!N •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
_S &6XNV Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
WwKpZ67$R a9 S&n5 .",BLuce Mg^A,8lrm 场追迹结果（电磁场探测器）
G%jV}7h cI7a TLC"s 8JMxA2tZhG •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
.v= n-k7 m+pK,D~{" u!Vr MH 文件信息
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n:<Xp[;R S!R (ae^} 8y?q)y9h 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer }g 2l
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Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination !;k
^ p .~5k （来源：讯技光电）
