[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 YIt9M,5/Q  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 MJ<Jb,D1  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 z@s5m}  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 z_;3H,z`  
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图片:1-1Q21014202H61.png

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光线追迹仿真 |as!Ui/J/  
+@9gkPQQ-@  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 >$677  
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•点击Go！ 14eW4~Mr  
•获得3D光线追迹结果。 djQv[Vc{  
d|9b~_::V  

图片:1-1Q2101423224L.png

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光线追迹仿真 -b&{+= ^c  
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#BVtL :x@  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 O-vGyNxP|  
•单击Go！ P;ZU-G4@  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 kB:Uu}(=N  
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图片:1-1Q210142613B5.png

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场追迹仿真 Z0!5d<  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 y
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•单击Go！ E"iUq  
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图片:1-1Q210142A2533.png

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场追迹结果（摄像机探测器） vD/NgRBww  
iF5'ygR-Z  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 w1x" c>1C  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 5la>a}+!!h  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 `J<*9dq%  
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图片:1-1Q210142Q6438.png

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场追迹结果（电磁场探测器） CQ7{1,?2  
Jk|Q`h  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 'oNO-)p\#!  
vE6mOM!_L  

图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 mvW%  
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图片:1-1Q210143051458.png

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更多阅览  j1?j6s  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer )M=ioE8`h  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination m p<1yY]  
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一系列镜子是怎么加上去的？经验么