[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 Jq<&`6hn  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 TW{.qed8^  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 DNLqipUw  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 5^ARC^v  
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图片:1-1Q21014202H61.png

VI74{='=  
光线追迹仿真 QPg QM6  
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K^^S  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 !L2R0Y:a  
x5.HdKV  
•点击Go！ ?y>P  
•获得3D光线追迹结果。 4sP0oe[h  
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图片:1-1Q2101423224L.png

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光线追迹仿真 ]EnB`g(4;  
AT<K>&)  
(]w_}E]N  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 iyB02\d  
•单击Go！ "n^h'// mn  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 po4seW!  
l<ag\ d  

图片:1-1Q210142613B5.png

COH0aNp;  
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场追迹仿真 9s>q4_D  
AME3hA  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Pv17wUB  
•单击Go！ Ynl^Z  
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图片:1-1Q210142A2533.png

<4ccTl  
Ew5(U`
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场追迹结果（摄像机探测器） f=+|e"i#p  
(#k>cA(}  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 qjFz}6  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 5=WzKM  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ]P;uQ!  
P^&%T?Y6z  

图片:1-1Q210142Q6438.png

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场追迹结果（电磁场探测器） 0x7F~%%2  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 sD H^l)4h  
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图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 )h6hN"#V5  
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图片:1-1Q210143051458.png

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更多阅览 tS!FnQg4  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer *oopdGue  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination m?'H7cFR  
U_i%@{  

一系列镜子是怎么加上去的？经验么