[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 PaMi5Pq  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 HjGT{o  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 }=?r`J+Ev;  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 @*is]d+Ya  
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图片:1-1Q21014202H61.png

Jfo|/JQ  
光线追迹仿真 V *S|Qy!p  
U=Z@Ipu5T  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 PA`b~Ct  
- CM;sXq  
•点击Go！ (cC5zv*E  
•获得3D光线追迹结果。 ~`*:E'/5k]  
z]Ql/AK  

图片:1-1Q2101423224L.png

BzTm[`(h  
CrS[FM= +W  
光线追迹仿真 gJs~kQU  
?Z1pPd@  
*'d5~dz=  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 9nM {x?  
•单击Go！ ZJy D/9y  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 -d_FB?X  
CtjjN=59  

图片:1-1Q210142613B5.png

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场追迹仿真 q69a-5q  
g=i|D(".  
"Hgn2o.;5  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Bw{@YDO{  
•单击Go！ N#T MU  
(9Hc`gd)p  

图片:1-1Q210142A2533.png

eHqf3f   
Kh$L~4l  
场追迹结果（摄像机探测器） bpUN8BI[T  
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!ae@g q'  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 eRVu/TY  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 KxJJ?WyM  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 uA}asm  
(&njZdcb*  

图片:1-1Q210142Q6438.png

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场追迹结果（电磁场探测器） 2$T~(tem  
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[K"v)B'  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 la
FkOQI  
!u7WCw.Dm  

图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 >vP^l {SD  
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图片:1-1Q210143051458.png

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更多阅览 veK  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer }jIb ^|#CD  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ]'M4Unu#@  
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一系列镜子是怎么加上去的？经验么