[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 b+ZaZ\-y |  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 hN1[*cF  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 3+U2oI:I  
Xe/7rhov  

图片:1-1Q210141Z3L0.png

j}jU.\*v<  
概观 l>HB0o  
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图片:1-1Q21014202H61.png

(@\0P H0  
光线追迹仿真 -M[BC~!0;  

o+<hI  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 kwt;pxp i  
a[lx&CHgI  
•点击Go！ )=,;-&AR  
•获得3D光线追迹结果。 WPu%{/[  
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图片:1-1Q2101423224L.png

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DB] ]6  
光线追迹仿真 R*O6Z"h  
k1FG$1.  
y=}a55:qE  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 1g|6,J  
•单击Go！ -32.g\]  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 ."v&?o Ck]  
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图片:1-1Q210142613B5.png

qSL~A-  
,rQPs  
场追迹仿真 @/?$ZX/e[  
W}oAgUd  
kI$X~s$r  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 
{D&:^f  
•单击Go！ N &vQis  
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图片:1-1Q210142A2533.png

gCS%J40r  
RDp(Ci  
场追迹结果（摄像机探测器） YPav5<{a  
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<^jW  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 nbz?D_  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。  0bk09
4  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 $f<Rj/`&  
uBC*7Mkm  

图片:1-1Q210142Q6438.png

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=2[cpF]  
场追迹结果（电磁场探测器） :ITz\m  
}mw31=2bD  
8>K2[cPD  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 $ p{Q]|ww  
. RNQlh3  

图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 aOj5b>>  
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图片:1-1Q210143051458.png

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更多阅览 ~z!U/QR2  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer vf(\?Js,  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Os1(28rl  
}T+pd#>  

一系列镜子是怎么加上去的？经验么