摘要
V0!kvIv V?"1&m& E 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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hq ?F8 1 hCob^o 建模任务
aEn * vun S~U5xM^s 
g1I8_!}~ 概观
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b K k7w#y 光线追迹仿真
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`,#z?Rk \|6Q]3 l •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
wowWq\euY &neB$m3y •点击Go！
\?[ m%$A •获得3D光线追迹结果。
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'#lc?Y(pJ2 T' a& 光线追迹仿真
A`1-c ?f:ND1jU |y&vMx~t •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
?MOjtAG0_~ •单击Go！
2]V8- •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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7>f)pfLM \jr-^n] 场追迹仿真
.F3~eas kH?PEA! \ FpZ5@ •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
wlpcuz@ •单击Go！
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Y4N)yMSl" ]F #0to 场追迹结果（摄像机探测器）
\6!s";=hQ ge #P(Itz e}iv vs2 •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
G Q}R xu] •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
|WSm puf Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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[(? Y#FSU# a$< 场追迹结果（电磁场探测器）
aT8A +=K6 {6iHUK 06I(01M1 •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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g_?bWm4br 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer }DQ[C& -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination qot {#tk
d Tx(=4ALY （来源：讯技光电）
