摘要
V w7WK h5 j<u 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
9g96 d- $%B5$+ 6I"C~&dt r-*l 1([eW 建模任务
| "_ )zQ )x)gHY8; @Zj& `/ 概观
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g*F 光线追迹仿真
}H5/3be _; #9!"& •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
yk`)Cq%=; ?x'w~;9R/ •点击Go！
sSNCos b •获得3D光线追迹结果。
SijS5irfk EPv%LX_j 2!BsEvB( sx:Hv1 d 光线追迹仿真
3Mur*tj# G#|Hu;C6" $Vsy%gA< •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
!n:uiwh •单击Go！
jK e.gA •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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v,wq a/:]"`) UUGe"]V^g: ; HP#bx 场追迹仿真
oik xg!0S q1jN]H dok) Je •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
0lBat_<8 •单击Go！
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9|<Be6 TH YVT%v %OEq,Tb 场追迹结果（摄像机探测器）
:SK<2<8h xb]o dYGdW JA< :K 0 •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
gd_ ^ •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
J$rJd9t Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
r,Ds [s)B %2}C'MqS \1]rlzXGUT }s(C ^0x 场追迹结果（电磁场探测器）
rpSr^slr d- h"JZ9 JdO) YlM- •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
`[OXVs,7" ifvU"l .$P|^Zx, 文件信息
=},{8fZ4 jFG5)t<D p&\K9hfi e6 2y 更多阅览
BKX 9 SL] -
Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer >(OYK }ZN -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination =q5@,wN^ 4~D ax) （来源：讯技光电）
