摘要
IL>VH`D i(qZ# oN 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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W#s)iDi =;Q:z^S ,A %p9 建模任务
aS! If > %_@T'!] &J?:wC=E 概观
n58yR -" )FpizoV q0 kqkTz_r|H 光线追迹仿真
c/ DK31K @WCA 7DW! •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
FUVp}>#U q6'Q-e) •点击Go！
zJ6""38Pr •获得3D光线追迹结果。
vnN 0o5 AqiH1LAE F|a'^:Qs 9-+N;g!q 光线追迹仿真
Kn=0AdM $35C1" 1/ f{1k •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
=Y- .=}jp; •单击Go！
Y&<]:) •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
NDUH10Y:[ D7r&z ? ^H0#2hFa B[3u,<opFU 场追迹仿真
Xub*i^(] IeZ9 " o h *Z$ W"JP •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
_\.4ofK( •单击Go！
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jF-:e;- <Umr2Vw- Q=6 1.lP6 场追迹结果（摄像机探测器）
5Gs>rq" # 7YxVt N *_Vv(H& •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
ypgM&"eR •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
u`ry CZo#g Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
!w}b}+]GB ?[uHRBR' -{}h6r ;X^#$*=Q 场追迹结果（电磁场探测器）
KL6B!B{; m lxtey6H3 Fge ["p?GF •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
:>iN#)S iZLy#5(St t`=" 2$NO 文件信息
q_6fr$-Qh T Qu.jC 'ieTt_1.G \%&A? D 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer 7 4ho= -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination XG*> yra` 1tq ^W' （来源：讯技光电）
