[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 #?S^kM-0  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Fx2bwut.K  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 "/wyZ  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 y]f"@9G#  
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光线追迹仿真 M 
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 eLfk\kk]Pc  
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•点击Go！ QD0"rxZJ  
•获得3D光线追迹结果。 %yv<y+yP~  
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图片:1-1Q2101423224L.png

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光线追迹仿真 G?Q3/y(  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 X\bOz[\  
•单击Go！ gaZu;t2u  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 ,[P{HrHx  
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图片:1-1Q210142613B5.png

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场追迹仿真 h4T5+~rw  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 @$[?z9ck"  
•单击Go！ \1D<!k\S  
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图片:1-1Q210142A2533.png

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场追迹结果（摄像机探测器） --$ 4Q(#  
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l`#4KCL(  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 )48QBz?  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 (|klSz_4LM  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 H4:`6 PSL  
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图片:1-1Q210142Q6438.png

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场追迹结果（电磁场探测器） "_-Po^u=r  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 \LR~r%(rM  
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图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 a_f
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图片:1-1Q210143051458.png

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更多阅览 J:CXW%\ <q  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer hI]Hp3S  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination }wr{W:j  
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一系列镜子是怎么加上去的？经验么