摘要
(GRW(Zd4 [j@ ek 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
bbjba36RO <qR$ `mLN hp)>Nzdx )#AYb 建模任务
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5 概观
D:9^^uVp 4&NB xe Mg\588cI 光线追迹仿真
lB27Z} !po,Z& •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
S+06pj4Ie W,~*pyLdO •点击Go！
eSoX|2g •获得3D光线追迹结果。
W\[E Lx- %y'P 6Y [&1c8 k?h{ 6Qd 光线追迹仿真
~"S5KroN +_:p8,
5o ~jw:4sG •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
iY>x x~V •单击Go！
IG0 _ •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
?4SYroXUX| _LF'0s* pJg:afCg %;4#?.W8 场追迹仿真
26~rEOgJ m:Rx<E
E 08:K9zr •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
PE7V1U#$o, •单击Go！
_$*-?*V& g{DOQA NH/jkt&F[ leHKBu'd 场追迹结果（摄像机探测器）
h`fZ 8|yw 5%S5*c6B D b5g^{bzwu •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
ip'v<%,Q3" •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
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{e Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
R&s/s`pLW yYOV:3!" Nj6Np ^@sH akw:3 +` 场追迹结果（电磁场探测器）
M/V"Ke"N gu3)HCZ .aZB?M W •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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=x LzXIqj'H7T 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer BvlY\^ -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ,_,7c or Z[+Qf3j}o6 （来源：讯技光电）
