[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 6)~J5Fb  
6H}8^'/u  
高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 l@ W?qw  
F%>`?NG+c  

图片:1-1Q210141S0B6.png

|#=4]]>m  
AVbGJ+  
建模任务 |cUBS)
[)X  
)X-/0G=N-  

图片:1-1Q210141Z3L0.png

o>Jr6:D(  
概观 DQOEntw  
(Cjw^P|Y@  

图片:1-1Q21014202H61.png

s4{WPU9  
光线追迹仿真 b^]@8I[M  
<rpXhcR  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 r*t\\
2  
1ti4 ZM  
•点击Go！ y6S:[Z{~A  
•获得3D光线追迹结果。 t!,GI
&  
L H`z '7&/  

图片:1-1Q2101423224L.png

{
Jj vF  
c
oQ>CbHg  
光线追迹仿真 K-b'jP\  
sAz]8(Fi0  
@"=wn
:O+  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 _YgvLz %  
•单击Go！ _Q1[t9P"  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 0QxE6>xL=  
J< U,~ra\  

图片:1-1Q210142613B5.png

Zr.6J*&!  
Tp?l;DU  
场追迹仿真 A(Ss:7({  
k)l^;x-  
7xmif YC  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 z;VabOr^  
•单击Go！ =whYo?cE(  
;<=B I!  

图片:1-1Q210142A2533.png

c _v;"QZ  
b];p/V# <  
场追迹结果（摄像机探测器） Ce0YO~I  
7#BUd/  
y`OL^D4  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 3'zm)SXJ  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 fm
hqm"  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 PV_q=70%T  
UoiXIf_Q  

图片:1-1Q210142Q6438.png

;{k`nv_6  
41[1_p(  
场追迹结果（电磁场探测器） Uj[E_4h  
(yx9ox@rL  
V@"Y"}4n4  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 cKKl\g@}  
3 O)^Hq+9  

图片:1-1Q210143024c8.png

FX#fh 2  
文件信息 9 ZD4Gv   
/=bg(?nX  

图片:1-1Q210143051458.png

*uq}jlD`!  
@m=xCg.Z  
更多阅览 0cwb^ffN  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer viJK%^U=-  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination /T_ G9zc  
/M1 /  

一系列镜子是怎么加上去的？经验么