摘要
!0ce kSesr BeI;#m0 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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3T|Y} JvfQi b 建模任务
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WGh. ;- 概观
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BY@
a#+>w5 光线追迹仿真
_\dt?(m| 8M^wuRn •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
o3n3URu\ L`UG=7r q •点击Go！
aqs%m ( •获得3D光线追迹结果。
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c[VrC+e m }xD B ~k 光线追迹仿真
&:V@2_6" \Z)#lF|^ T&r +G!2 •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
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8!]: •单击Go！
~->Hlxze'K •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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8p (!]^z OlMBMUR: 场追迹仿真
! FNf>z+ GS\%mPZ 1GtOA3,~;- •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
"~u_\STn < •单击Go！
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3p=vz' AG] W O8f) 场追迹结果（摄像机探测器）
u]HS(B,ht 7z D- ?% q0&Wk"X%rr •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
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>YdD •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
fr+@HUOxsl Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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[ S5bj ]D -#Np 7/ 场追迹结果（电磁场探测器）
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Dk6?Nwy" •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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D%-{q>F!gf 文件信息
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wG+=}1X vF"c 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer B={/nC}G~ -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination uJgI<l'|e3 :/B:FY = （来源：讯技光电）
