摘要
N3oa!PE kV!1k<f 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
hPCSAo!| M &H,`gm ej=}OH4 U!Jm SP 建模任务
LCq1F(q ,\d03wha &h=f 概观
:7(d 6gEL pigu]mj P: 1eWP 光线追迹仿真
{]N7kY.W TD4
n%k. •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
|8GLS4.]t +$/NTUOP •点击Go！
>enP~uW[# •获得3D光线追迹结果。
<DII%7q,6/ ;<xPzf 'GO *6$/ E33x)CP 光线追迹仿真
|W& K@g$ #c'}_s2F[ #BZ5Mxzj •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
P4c}@Mq3 •单击Go！
|It{L0=U •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
Ln/*lLIOb XIl#0-E0X w]N;HlU 0}T 56aD=! 场追迹仿真
j)ju vat wWq-zGH|& Q
t rU_c2k •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
Mt%Q 5^ •单击Go！
z(>:LX"xz k RSY;V &._Mh T ?`Ha\go 场追迹结果（摄像机探测器）
.E{FD%U v`:!$U*
H= `q1-yH0~4 •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
m93{K7 O2e •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
n :H
|=SF{ Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
n-<`Z NMU 0$U\H>r oDG BC 1 7 iw`@ 场追迹结果（电磁场探测器）
aghlYcPg HPo><u 2& AX_#P •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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fm5 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer m&s;z Q -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 8Kn}o@Yd y Dpv+6(a （来源：讯技光电）
