摘要
*g]q~\b/; O E0w/ { 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
>xws `Lb^!6 `) *x2+sgSf_0 6 uW?xB9 建模任务
q3adhY9|)0 lcHw Kd j1%o+#df 概观
A&rk5y; j|TcmZGO b 26#0;i 光线追迹仿真
w d2GKq! ^&buX_nlO •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
B> *zQb2: Vrz x;V% •点击Go！
j+"i$ln+s •获得3D光线追迹结果。
S:4'k^E A(2_hl- 9{@[ l!]W eRc+.m[ 光线追迹仿真
S#6{4x4 Mh"DPt9@J A94ZG: •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
5drc8_fZ •单击Go！
56t9h/y •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
Md(Aqa A .|iMKRq ggtGecKm v=e`e68U~ 场追迹仿真
M3 ihtY GOu BNaU { *F0O*n*7W •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
8\HL8^6c5 •单击Go！
VI7f} =(:{>tO_" 4^cDp!8 8+S a$R 场追迹结果（摄像机探测器）
nf=*KS\v jA_w OR7$ ?,uTH
4 •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
{\z&`yD@ •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
DKw%z8ft| Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
3fPd|F.kF idW= &< hDl<E s+IU%y/9$a 场追迹结果（电磁场探测器）
$BHbnsaQ Ot q`4 5 ?}|l ) •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
afrU>#+" @a-u_|3q vM )2F 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer >Y,3EI\ -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination GP=i6I6C ZccQ{$0H （来源：讯技光电）
