摘要
&0i$Y\g &\%\ "Zh 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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b gxk:$E P=PeWX*L<Z 建模任务
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e_" m\e#N 概观
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sY 4q$F q 光线追迹仿真
N<ux4t z ?GlXxx=eV •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
Wm}gnNwA XhA tf @n •点击Go！
/EG'I{ oC •获得3D光线追迹结果。
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9)t[YE:U3! I,< ?Kv 光线追迹仿真
S}a]Bt plp-[eKcD qZ4)) X •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
I&m' a •单击Go！
_-3n' i8 •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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zvV o-{6 XK\3 "`kd 场追迹仿真
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y9Z- x •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
$8 x b|S[ •单击Go！
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v oR,6esA+6n 
Y SB=n d_ !n` | k 场追迹结果（摄像机探测器）
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46pR !k KGcjZx04! •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
Mm(#N/ •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
KPI96P Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
e0h[(3bXs$ /`7+Gy< 
hl7 z1h K, I 场追迹结果（电磁场探测器）
mL pM8~L KN[;z2i od a, •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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:)D7_[i 文件信息
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w3ni@'X8 mHHlm<?] 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer *; ]}`r -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination |5tZ*$nGa y:}qoT_. （来源：讯技光电）
