摘要
z@dHXj )
\:Q)Ef 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
wPOQy ~: zUW u5JI ^+I{*0{/[ ,
j7&(V~ 建模任务
b:oB $E v#F .FK f $R ]m2 概观
M1^pf<!s YajUdpJi 074)(X&:x 光线追迹仿真
cZi /bIh n"* A. •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
ki39$A'8 40+~;20 •点击Go！
YjAwt;%-D •获得3D光线追迹结果。
3x=T &X+ ry0P\wY} y\]:&)?&C^ ~0eJ6i 光线追迹仿真
*Mk5*_
!{jDZ?z{h C0J/FFBQ ^ •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
@uApm~} •单击Go！
h{#Hw p •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
Xi$2MyRd Qt` }$] &c% ;Lo v,^2 'C$o 场追迹仿真
[7 oU = qX>mOW^gT8 ,ir(~g+{g •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
R1)v;^B|) •单击Go！
<'f+ nC=2 Bu$ Z+o hX;JMQ915 =f4>vo}@k 场追迹结果（摄像机探测器）
Fu].%`*xJ >|IUjv2L bLuAe
EA •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
zT4SI'r?f •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
3@7IY4>o Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
U Dl[ ,NB?_\$c iEjUo,
Y[ O!xul$9 场追迹结果（电磁场探测器）
EbXWCD h'%iY6!fA Mwm9{1{ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
$I}7 EI 4;_a Fn PaIE=Q4gJ 文件信息
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vf}.) 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer {5 ` =){ -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination rs` "Kz`( &RF*pU> （来源：讯技光电）
