摘要
|4z IfAO w<3#1/g!2B 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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I)[DTCJ~ 1{. |+S Z! 建模任务
Y%^w:|f^ ,HV(l+k {| 
e}7lBLK]* 概观
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E_wCN&`[ 光线追迹仿真
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iI •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
]^7@}Ce_ rfg'G&A( •点击Go！
UHkMn •获得3D光线追迹结果。
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<2x^slx)? n'Lr QU 光线追迹仿真
q:0N<$63 KY I / $GcqBg-Hi •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
C2I_%nU Z1 •单击Go！
j2[+z tG •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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()?(I?II 1(R}tRR7 R 场追迹仿真
Lg.gfny[(t _ < V)-Y G j?t_Zln •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
7Q9 w?y~c •单击Go！
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场追迹结果（摄像机探测器）
JFmC \ lfgq =8 d gZXi]m& •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
8kIksy •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
? :%@vM Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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^uc =f2=>, R) h#Vc( 场追迹结果（电磁场探测器）
SKN`2[ahD [|$h*YK ebhXak[w •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer C{rcs' -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ? OM!+O .p[ ux vp
（来源：讯技光电）
