[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 v5ur&egVs  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 sd re#@n}  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 faXx4A2"  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 34|a\b}  
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图片:1-1Q21014202H61.png

H5>hx{  
光线追迹仿真 w)]H ^6  
{04"LAE  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 uwIc963  

V,v[y\  
•点击Go！ #.B"q:CW*P  
•获得3D光线追迹结果。 XEM'}+d  
,3DXFV'uxb  

图片:1-1Q2101423224L.png

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光线追迹仿真 ?NNn:tiD  
~:Uwg+]j  
8[%Ao/m  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 V:NI4dv/R  
•单击Go！ #%3rTU  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 \a^,sV  
hv$yV%.`  

图片:1-1Q210142613B5.png

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场追迹仿真 xvLn'8H.  
m(OvD!  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 lb'Cl3H  
•单击Go！ _A_ A$N~9  
BfTcI)  

图片:1-1Q210142A2533.png

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=TvzS%U  
场追迹结果（摄像机探测器） 4B+9z^oQ  
vdoZ&Tu  
Y]`.InG@  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 !{^\1QK  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 7YWNd^FI V  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Z^
KA  
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图片:1-1Q210142Q6438.png

p^m5`{1]x  
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场追迹结果（电磁场探测器） ^ ?hA@{T/1  
cvsz%:Vs  
}S_oH9A  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 cX!Pz.C  
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图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 q!'
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一系列镜子是怎么加上去的？经验么