摘要
<> |/U ` &*3O+$L 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
e[AwR?= KOM]7%ys1H p s wEIa TS cI_8c> 建模任务
4+j:]poYG{ ;]+ p>p-# Ko|p&-Z; 概观
BPkqC >w zP$Ef7bB (<:mCPk(~ 光线追迹仿真
qwx{U ]t|- •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
A D/ 7k3: cw)'vAE •点击Go！
4RYvI! •获得3D光线追迹结果。
eED@Z/~6 loPBHoE3@H tQ >
IJ ; YK{[$F
光线追迹仿真
Zc Y* TGx |?KdQeL 1FQ_`wF4 •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
A(#4$}!n5 •单击Go！
:n t\uwh •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
ID1/N)5 6 hi(u L>\ ,\cO>y@ c3NUJ~>=y 场追迹仿真
OY>0qj iB=v
>8l% %ymM#5A •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
3+v+_I>%k
•单击Go！
,{ _;q: N=X(G( S@'yuAe*G ^.f`6 6/ 场追迹结果（摄像机探测器）
;0!rq^JG 82bOiN15 JG=U@I]
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
aAX(M=3 •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
NgXV|) L Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
' Oe}Ja !ufSO9eDx" ;.g <u 4}\ Dr
%US 场追迹结果（电磁场探测器）
s{]2~Z^2od &o yj 8 t bP
;iK' •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
MSMgaw? ^8#;>+7R * ydU3LG7 文件信息
HSR^R pzPm(M1^X H)${" MiX*PqNTM 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer @9wug!, -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination wv eej@zs ] 5=C3Y （来源：讯技光电）
