摘要
Z
+<Y.*6 D* H K[_5 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
Frhm4H%,_R (hY ^E(D h^ K>( x LXe'{W+bk 建模任务
</fTn_{2s8 t!ZFpMv]n ,b+Hy`t 概观
FQJFq6l ,*p(q/kJh~ `lO/I+8 光线追迹仿真
_B ]Bd@<w ~vR< UQz •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
b\t @vMJ +hWeN&A •点击Go！
i)ibDrX!I •获得3D光线追迹结果。
n;d Wb$: R?*-ZI[>w ?N%5c%oF
Ujly\ix` 光线追迹仿真
:~ ,akX$ 61TL]S8 ~1{~i B2G •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
0`WZ •单击Go！
Lh gs|*M •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
%bnjK#o"Q C4C!-12 q kyYt#4E NQvT4.* 场追迹仿真
c$3ZEe 1` n
ZK$ piiO5fK| •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
*\wf(o>Q •单击Go！
4_Rv}Y d a@gm r%C 9**u\H)P6 vf_pEkx*wD 场追迹结果（摄像机探测器）
DZ; 2aH nx4E }8!Lh 5z:/d `P[ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
&[}5yos
r •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
;W#/;C
_h Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
o Bp.|8- T b]' b S4X['0r X! L2y{\<JC" 场追迹结果（电磁场探测器）
9\NP)Vm$^ t+SLU6j, kI$p~ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
3_ k3U X<$8'/p r :!g zx n 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer 8 uhB&qxB -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination zzBq b\Ky vui{[" （来源：讯技光电）
