[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 ::Q);  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ^O Xr: P  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 pMZf!&tM  
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+7  

图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 r,@X>_}  
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图片:1-1Q21014202H61.png

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光线追迹仿真 n5*{hi  
mImbS)V  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 IL2Gsj)M  
0H&U=9'YT
 
•点击Go！ 9_A0:S9Z  
•获得3D光线追迹结果。 vWi.[]  
X)iWb(@k"7  

图片:1-1Q2101423224L.png

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#[0\=B-  
光线追迹仿真 LXu"rfp  
{F6dSF`  
U>_\  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 +b,31  
•单击Go！ e]*=sp!T  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 6:@
t=C  
90h1e7Zc
C  

图片:1-1Q210142613B5.png

fov=Yd!  
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场追迹仿真 9<(K6Q  
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ZOrTbik  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ci_v7Jnwo  
•单击Go！ e=n{f*KG`  
Y:"v=EhB  

图片:1-1Q210142A2533.png

sAD P~xvU  
|CZnq-,C  
场追迹结果（摄像机探测器） B`?N0t%X  
Y zBA{FE  
[N95.aD  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Vk
TlPmr  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 X#kjt)W  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 N{hF [F  
@ Zgl>
  

图片:1-1Q210142Q6438.png

Oa\`;  
A M1C $  
场追迹结果（电磁场探测器） ^`jZKh8)h  
C>:/(O  
}rY?=I  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 eb.cq"C  
3?*M{Y|  

图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 jqX@&}3@  
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图片:1-1Q210143051458.png

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更多阅览 C'8!cPFVv  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer .W@(nQ-<  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination i (%tHa37  
F[7Kw"~J  

一系列镜子是怎么加上去的？经验么