摘要
b|kL*{; ]=xX_ 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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?^7X2 u$nm N z=P1&G' 建模任务
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:-hVbS0I 概观
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!m'Rp~t 光线追迹仿真
w}$;2g0=a< UM21Cfqex •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
OQ<;w awz.~c++ •点击Go！
OR|Jc +LT •获得3D光线追迹结果。
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/6y{ ?0S !a!4^zqp 光线追迹仿真
3N2 d@R xy&*s\=: 7aPA+gA/ •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
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-?E •单击Go！
L %ifl: K •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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Z:x`][vg x6Gl|e[jv 场追迹仿真
`0q=Z], w r ,+9uK G6x 'Myg I •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
(./Iq#@S •单击Go！
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s+&0Z3+ Hm|N { 场追迹结果（摄像机探测器）
@"^7ASd% Y;g\ @j F1M:"-bda •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
l4i klg3 •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
U^)`_\/;? Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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UYW'pV Au (o Ks< 场追迹结果（电磁场探测器）
"K+EZ%~< `@0AGSzUv QJjk#*?,| •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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Q+QD , 文件信息
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%S$$*|_G N:+d =G`x 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer ?FR-a Xx -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination H(M{hfa| j}(m$j' （来源：讯技光电）
