摘要
(n4Uc308 -\V;Gw8mD 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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A z i3gE$7 建模任务
YbP}d&L C &&33L HC(o; ,spO 概观
drh,=M\F ]QmY`pTB` apv"s+ 光线追迹仿真
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tw=Ju ZG1 {"J/z •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
9DaoM OPEI -ei+r# •点击Go！
SaiYdJ •获得3D光线追迹结果。
okLhe F u Av'%/ yvV ]|B@sO >on' y+ 光线追迹仿真
V; 1i/{ trM)&aQto a\Dw*h?b~ •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
{#H'K*j{ •单击Go！
Tizjh&*^ •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
!E9A=u{ c$~J7e6$ Qd"u$~ qC -ZBSkyMGy 场追迹仿真
?CZ*MMV Pc=:j( l#;o^H i •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
}R)A%FKi@ •单击Go！
uG 7ll5Yy .:2=VLuj U 6|ENDd[ 81Ityd-} 场追迹结果（摄像机探测器）
$jL+15^N0+ 0A.9<&Lod VMV~K7%0 •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
bb"x^DtT •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
a~O](/+p; Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
y jY}o JU RJN+)z N="H
06t Rb_+C 场追迹结果（电磁场探测器）
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U - mY/x|)MmM h/\/dp/tt •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
<!I^ xo [ vAo|o * h!~u^Z.7< 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer lr&O@
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Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 0O7VM )[ j[\aGS7u （来源：讯技光电）
