摘要
5
[X, ? ra}t#Xt` 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
N?><%fra =i:,")W7=
a
Ju v{ vpz l{ 建模任务
~*hCTqH vN J!d=aGY0- {-1N@*K 概观
CG] /. ~ugH2jiB \JDxN
光线追迹仿真
j 026CVL ih(A l<IS •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
!112u#V Xh@;4n •点击Go！
b]g#mQ •获得3D光线追迹结果。
g4&f2D5 |> Pz#DCy 'RZ0,SK' He1~27+99 光线追迹仿真
=4
NKXP ~C *r|Zbxf( (&Mv!6] •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
T$1(6<:+. •单击Go！
Zx^R -9 •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
:; K Q]< +2g}wH)l e,
}{$HStZ Oar%LSkPRz 场追迹仿真
V)]lca uLr-!T /Nns3oE •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
#6mr'e1 •单击Go！
&n]]OPo %lGT |XrY L'O=;C"f )!=fy'] 场追迹结果（摄像机探测器）
y=zs6HaS F`CDv5 X0 ]Se( •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
?dmw z4k0 •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
)3^#CD Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
&/?OP)N, } ) k Ij Z MbeK{8~E%l `KUL 4) g~ 场追迹结果（电磁场探测器）
Rp
!Rzl< <7o@7r'0 ekd;sEO •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
f{U,kCv Ict+|<f 7-mo\jw< 文件信息
$]MOAj"LH 8# IEE|1 p1s|JI [6)vD@ 更多阅览
U["IXR# -
Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer gB0Q0d3\G, -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination rd^j< jV' tcFr4 （来源：讯技光电）
