[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 M:K4o%  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 l-[5Zl;"  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 [>kzQYT[  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 DEKO]i  
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图片:1-1Q21014202H61.png

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光线追迹仿真 lMXLd91  
Y2y = P  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 TJ(vq]|&  
l`AA<Rj*O-  
•点击Go！ RsP^T:M}$  
•获得3D光线追迹结果。 Q .cL1uHc  
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图片:1-1Q2101423224L.png

Cqw`K P  
st(Y{Gs  
光线追迹仿真 M4}zRr([.5  
7C^W<SUo  
kS(v|d  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 xo(3<1mD  
•单击Go！ lO^YAOY  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 yvKKE  
.^?Z3iA",  

图片:1-1Q210142613B5.png

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场追迹仿真 n'Z5rXg  
( ESmP  
14rX:z  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 17;qJ_T)  
•单击Go！ gS^Y?  
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图片:1-1Q210142A2533.png

w<=-n;2  
x?-kt.M  
场追迹结果（摄像机探测器） si>gYO  
V%!my[b  
CKRnkTTiV  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 e!O:z  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 #jR1ti)p  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 u69s}yZ  
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图片:1-1Q210142Q6438.png

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G[[<-[C]5  
场追迹结果（电磁场探测器） ++M%PF [ {  
)u(Dqu\t  
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ioF{,  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 I r;Z+}4>Y  
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图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 iQ_^MzA  
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图片:1-1Q210143051458.png

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TP&&' 4?D1  
更多阅览 Q?TXM1Bp  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer 8n)3'ok  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ,*'aH z  
*Wz\FixP0  

一系列镜子是怎么加上去的？经验么