摘要
g
X!>ef p"ZvA^d\ 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
k&ci5MpN ! C#oZU]P 
[iub}e0 ga 5Q 建模任务
q? ' 4& .N X9A b 
M: /NW-: 概观
hCcI]#S& gjDNl/r/
N P T-d 光线追迹仿真
Z -PB CU mr\,"S-` •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
P%aqY~yF3 >^s2$@J?p •点击Go！
)QE6X67i •获得3D光线追迹结果。
K81X32Lm' q]? qeF[ 
7g\v (P Lv%3 jj 光线追迹仿真
atTR6%!6 E(~7NRRm *7xcwj eP •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
z9aR/: W} •单击Go！
pU7;!u:c4% •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
72dRp!J U 4$xVm,n|
5Z>a}s_i {rc3 `<% 场追迹仿真
zm&[K53 ,1sbY!&ekL g0B] ;Y>( •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
Hr?lRaV •单击Go！
@ +b$43 ^ zZCl]cql 
ET}Z>vU}+ ?b]zsku8 场追迹结果（摄像机探测器）
J&A1]T4d {`!6w>w0 KU|W85ye •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
@z1QoZ^w •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
A6z ,6v 6 Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
$${I[2 R) jIs>> 
_
$F=A 5#.m'a) 场追迹结果（电磁场探测器）
vi##E0,N'^ /e2zH $J Y \q2 •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
<=.6Z*x+ qO>UN[Y 
+#Pb@^6"m 文件信息
/a1uG]Mt xuXPVJdi 
&>jz[ 3 )E9!m 更多阅览
DTezG': -
Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer ^Q8yb* MN -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination oMbd1uus * :L"#20:R （来源：讯技光电）
