摘要
%D8ZO0J7H ;A 'Z4=*~ 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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;F#7Px(q GXjfQ~<] 建模任务
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&A)B~"[~ 概观
xY U .D+RY 0B&Y ]* 
9^Whg ~ { 光线追迹仿真
./D$dbu3 %]6~Eq%s •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
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P r8&^>4 •点击Go！
< Ib[82PU •获得3D光线追迹结果。
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d&u ]WVU P*@2.#oO 光线追迹仿真
t" 7yNs(I Wg0g/ =;|QZ"%E •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
}X_;X_\3;' •单击Go！
eKz? "g/j •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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p|z H_Kj7(=&> 
n;p:=\uN +1!qs, 场追迹仿真
M=*bh5t%] ,H 2D v-Fg
+ •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
rs*Fy@ •单击Go！
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@D5~+ 场追迹结果（摄像机探测器）
gE hN3( G0{H5_h A@D2 +fS •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
E)-r+ <l •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
#E+gXan Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
}%`~ T>/ z rv#Xa!O\ 
^eGNgE [kzd (u 场追迹结果（电磁场探测器）
9cx =@ sv(f;ib ^(f 4*m6` •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
+ "}=d3E6 }Jh: 8BNuP 
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Enq|Y$q m ~i_Tw#} 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer <{: -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 70Yjv 1 i %q322->Z （来源：讯技光电）
