摘要
]- s`# W}e[.iX; 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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K / IrwF
B y1"^S 建模任务
{R{%Z M4hN#0("4 RoM*Qjw 概观
jf)JPa _ 7quwc' ! E?q'|f 光线追迹仿真
X" khuyT_ 1\608~ZH •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
8s5ru ) yY g&'3 •点击Go！
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•获得3D光线追迹结果。
'm!1 1Phe em9]WSfZ@` e/ % ; z Q|x>3 光线追迹仿真
VX>t!JP p % /4_|@<' cSs/XJZ •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
mlw BATi •单击Go！
B3+WOf5W •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
U#1yl6e\I cCbr-Z& 5~R{,]52 nu9k{owB T 场追迹仿真
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(' •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
|b;M 5w? •单击Go！
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A#z~;X@ 场追迹结果（摄像机探测器）
p|8Fl wkpVX*DfRE C`_D{r •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
EkAqFcKLq •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
zr9Pm6Rl Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
%mv x }xV l45F*v]^ \*"0wR;[K
qhf/B) 场追迹结果（电磁场探测器）
qq%_ksQ z}N^`_ * %|* y/ m •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
XUNgt(OGR' *7V{yK$O| B=/=U7T 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer pR7G/]U$A -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ][qA@3^Tw _r )nbQm& （来源：讯技光电）
