摘要
@AQwr#R"l sgAzL 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
zzIr2so rs]I Ew$I\j* -RMi8{ 建模任务
<)U4Xz ? {(tHk_q & mt)d 概观
2K{6iw"h lH2wG2 >jTp6tu, 光线追迹仿真
E[g*O5 lV6dm=k •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
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( i9 A ~< •点击Go!
Riry_
•获得3D光线追迹结果。
rs-,0'z,7 I#G0, &Gv C6
" {5j66QFoo 光线追迹仿真
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6t:hn %,UPJn *%gF2@=r8F •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
FN^FvQ •单击Go!
,[!LCXp •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
,S&z<S_ #07!-)Gv d~9!,6XM Vba.uKNjk 场追迹仿真
5@!st z#6?8y2- 'LS z f/w •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
r ?m6$ •单击Go!
]!
*[Q\ z rfUQO '{b1!nC; 7h9U{4r: M 场追迹结果(摄像机探测器)
k G0Yh2;# I5ZqB B O XP\R •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
</`yd2 > •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
* ?Jz2[B Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
/)3Lnn{W b #fTAC;< ;2xO`[# PoSpkJH 场追迹结果(电磁场探测器)
j+IrqPKC^ 7^6uG6 ~+6Vdxm •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
)Kd%\PP 6<76H *m+BuGt| 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer dt\jGD -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination {R6HG{"IS6 eOT+'[3" (来源:讯技光电)