摘要
P "o|kRO HDaeJk 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
2*a9mi mP's4 \fp'=&tp~a #^(Yw|/K 建模任务
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,6Oe {rn ^ 概观
:#cJZ\YH g:@4 /+TSt bh#6yvpMR 光线追迹仿真
* Uy ;P>8 FR>[ g`1 •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
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4 D Q9aq.; •点击Go！
W8r"d K •获得3D光线追迹结果。
1(RRjT 9 J'tJ Y% ` H ) CoByaj Yq4 nmr4 光线追迹仿真
U@D\+T0 57O|e /2 I
zV c •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
<N>7.G •单击Go！
JSmg6l?[u •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
G~ LQM {Ppb ; 2
/*z5 %LD(S * >7 场追迹仿真
9c[bhGD? sH'0utD#Y %UhLCyC/ •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
e/#6qCE •单击Go！
wG6Oz2( U"oHPK3"TA Y88N*axDW. ii>^ ]iT 场追迹结果（摄像机探测器）
yE(< F 2 ]&9=f#k% 2##mVEo.( •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
_+H $Pa }? •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
h7@%}< % Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
hpYv*WH: 4mt O"'| :Nwv &+ IKaW],sr# 场追迹结果（电磁场探测器）
K9yZG m AET`B " jeJspch+# •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer 9I$} =&" -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination _a |g
> k sOc,4A （来源：讯技光电）
