摘要
Xy%p "b< ZoArQ(YFy 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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;NlWb = z2Z^~, i 建模任务
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41SGWAd #: 概观
}%D^8>S >ooZj9:' 
/> 4"~q) 光线追迹仿真
0@AAulRl "W(Q%1!Wi •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
0T46sm r kY'T{Sm1^ •点击Go！
I[n ^{8gz •获得3D光线追迹结果。
.H,xle ;t+ub8 
[|l?2j\ 2<}NB?f`N 光线追迹仿真
*YlV-C<}W" 6S~sVUL9` Uo2GK3nT •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
^i:B+
rl •单击Go！
h>Hb `G< •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
U)3DQ6T99 ":_ v K}5 
+k` !QM>e- D1 &A,2wO 场追迹仿真
Bm]8m=p @Pt="*g H@l}WihW •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
rl0< Ls •单击Go！
6"}?.E$ ?@V[# . 
^+g$iM[`f z k( U8C+ 场追迹结果（摄像机探测器）
6&/T@LQYrh 4rrSb* D::rGB?.b •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
)wNP(
@$L •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
$LU"?aAW Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
[]D@Q+1 .?l\g-;= 
F;]%V%F.X 71\xCSI1w& 场追迹结果（电磁场探测器）
,N0#!<}4 H *)NLp KVJ_E!i •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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$mX3B+a /Sh#_\x （来源：讯技光电）
