摘要
@AQwr#R"l s g AzL 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
zzIr2so rs]I Ew$I\j* -RMi 8{ 建模任务
<)U4Xz ? {( tHk_q & mt)d 概观
2K{6iw"h lH2wG2 >jT p6tu, 光线追迹仿真
E[g*O5 l V 6dm=k •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
Zu/<N C
( i9 A ~ < •点击Go！
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•获得3D光线追迹结果。
rs-,0'z,7 I#G0, &Gv C6
" {5j66QFo o 光线追迹仿真
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6t:hn %,UPJn *%gF2@=r8F •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
FN^FvQ •单击Go！
,[!LCXp •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
,S&z <S_ # 07!-)Gv d~9!,6XM Vba.uKNjk 场追迹仿真
5@!s t z#6?8y2- 'LS z f/w •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
r ?m6$ •单击Go！
]!
*[Q\ z rfU QO '{b1!nC; 7h9U{4r: M 场追迹结果（摄像机探测器）
k G0Yh2;# I5ZqB B O XP\R •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
</`yd2 > •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
* ?Jz2[B Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
/)3Lnn{W b #fTAC;< ;2xO`[# PoSpkJH 场追迹结果（电磁场探测器）
j+IrqPK C^ 7^6uG6 ~+6Vdx m •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
)Kd%\P P 6<76H *m+Bu Gt| 文件信息
=/0=$\Ws 7:E! b=o# G&f8n pv)`%< 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer dt\ jGD -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination {R6HG{"IS6 eOT+'[3" （来源：讯技光电）
