摘要
[L(h G a 9P WY52! 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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eQDX:b k'3Wt*i 建模任务
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/4irAG% Oj 概观
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,d_Gn! 光线追迹仿真
HM9fjl[ T+IF}4e d •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
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rX l >m6&bfy\q •点击Go！
`{ Tk@A_yd •获得3D光线追迹结果。
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3V <&| Y.6SOu5$] 光线追迹仿真
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enp> >3.X? •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
7'lZg<z{~j •单击Go！
CH#k(sy •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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!|Q5Zi;aX7 pY"O9x 场追迹仿真
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-x9 "sUyHt -& •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
T^.Cc--c •单击Go！
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#FxPj-3(ix x.mrCJn) 场追迹结果（摄像机探测器）
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*w$:L LW) H"6v Vr.Y/3N&' •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
G4 _, •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
KzU lTl0 Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
RO(TvZ0pE "Zv~QwC 
0E`1HP"b ay
) /q5 场追迹结果（电磁场探测器）
#'baPqdO 5s{j = .O (qM j-l •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer Gbpw5n; e -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination rh*sbZ68>E W#fZ1E6 （来源：讯技光电）
