摘要
T7[NcZ:I eM2|c3/ 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
du_4eB =^tA_AxVw uOd& XW l$XPIC~H 建模任务
Yf}xwpuLk A%X X5* /TV= $gB` 概观
IeP
WOpj3 02=ls V!U dg_G s>?2 光线追迹仿真
QI_4* `\CVV*hP •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
bm# ( ? y(i Y •点击Go！
t~hTp K* •获得3D光线追迹结果。
\+ 0k+B4 a LT VF8-v ^5; `-Ky gE])!GMM3 光线追迹仿真
@7 <uMasfp oM1Qh? NxA)@ 9Q •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
Iz@)!3h •单击Go！
T.m mmT •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
+&i +Mpb !. T LW 5Qh?>n>* . (}1%22 场追迹仿真
}4//@J?: Ul+Mo&y- % $5H!!~o •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
E 3aDDFDH •单击Go！
5ZY<JA3 {Ui =b+ jE\Sm2G9 ep/Y^&$M 场追迹结果（摄像机探测器）
rXfy!rD_P_ S* *oA 6 N!2Rl •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
[7FItlF%I •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
Np+&t} Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
o*rQP!8,oy L+}n@B Qnd5X`jF# -E"GX 场追迹结果（电磁场探测器）
^-z=`>SrS" ^ BQrbY 26vp1 •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
@&|l^ 1 : GpDg T"7~AbgNU 文件信息
)lk&z8;.= xg_D f, : j }fC8' M-V&X&?j 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer YjOs}TD lx -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination v[e:qi&fG Z_1U9 +, （来源：讯技光电）
