摘要
d-jZ 5nl( u)[i'ceQZ: 利用VirtualLab中的面板型
光源，可以如现实一样对像素化显示进行建模。所述面板型光源可以由给定的像素个数和像素图形来定义，每个像素都发射出可调发散角的球面波。结合ParameterRun，可以对所有像素进行扫描，可针对特定应用灵活选择扫描方式，例如，用于分析具有像素化图像生成单元的
成像系统。
bH g 0,N { ^Rr:+ gbu*6&j9 juA}7 1. 基本
参数 TPA*z9n+B 5^N y6t 面板型光源
模拟确定的像素数目，每个像素用一个球形波表示，作为基本模式。
* >k6n5% 所有模式具有相同的孔径形状，并可在基本参数（Basic Parameters）选项卡中配置。
Zm vtUma 此外，还可以设置相对或绝对边缘宽度。
Jow{7@FG lXRB"z ' L-h2 r2\ }_pIj 2. 特定参数-强度
uMjL>YLq{? ^ f[^.k$3d 特定参数（Specific Parameters）选项卡可以控制光源的强度和像素设置。
I2gSgv% 强度分布的设置可以根据：
>@EwfM4[e - 通过指定彩色域集或通过导入图像
文件来指定所需的变化。在这种情况下，
波长从输入分布中选择；
63'L58O - 或者一个波长的所有像素的常数。在这种情况下，像素的数量可以分别沿x方向和y方向设置。
3uL$+F y]g5S-G U45-R - .M s$)1 3. 特定参数-像素设置
@QDUz >_y ,x utI 特定参数（Specific Parameters）选项卡可以控制光源的强度和像素设置。
i r5eR}H 像素间距（Pixel Pitch）可分别沿x方向和y方向设置。
=N2@H5+7 另外，可以配置每个像素的孔径角度（Aperture Angle）。
2RdpVNx\y
1
J[z ![Tf >:OP+Vc 4.
光线选择
I5 E5,{ uT
Y G/O 在Ray Selection选项卡中，对于每个模式，都可以指定所需的选择方法和射线的数量。
I7C+XUQkQ p7L6~IN rIX 40,` _8 l=65GW 5. 偏振设置
jX,A. MfraTUxIo/ 偏振设置（Polarization Settings）选项卡为所有像素提供偏振选项。
Uv(}x 7e) 偏振状态可以为:
PiLLUyQx −线偏振;
G+ WCE* −圆偏振;
D >kkA|> −椭圆偏振;
nyZ?m −一般通过琼斯矩阵输入。
D=)qd@,K qc 3?Aplj I#xhmsF *7qa]i^] 6. 模式选择
_k5$.f:Yj< xOZvQ\% 在模式选择（Mode Selection）选项卡中，可以选择不同的
光谱成分和像素。
_+gpdQq\p 波长可以单独或全部选择。
bBQHxH}vi 像素可以在指定的列或行中选择，也可以作为单个像素选择。
"WqM<kLa
LNvkC4 \rCdsN 2H |[!0ry*N% Xm6M s<z6 }'\M}YM 7. 参数运行-扫描每个单个像素
.yb8<q s vIFx'S~D 在模式选择选项卡中，选中“像素”。
+EZr@ 启动参数运行并切换到扫描模式。然后扫描选定的列和行索引。
F|&m xsL AI .2os* XV !UeBq 8. 文件和技术信息
:0Fwaw9PH" )EG-xo@X i k0w\* :$QwOz^N* （来源：讯技
光电）
