摘要
E_{P^7Z|Jg &7Xsn^opku 利用VirtualLab中的面板型
光源,可以如现实一样对像素化显示进行建模。所述面板型光源可以由给定的像素个数和像素图形来定义,每个像素都发射出可调发散角的球面波。结合ParameterRun,可以对所有像素进行扫描,可针对特定应用灵活选择扫描方式,例如,用于分析具有像素化图像生成单元的
成像系统。
%Siw>
8L`wib2
?DY6V;&F@f }$* z:E 1. 基本
参数 !"ydl2 W~s:SN 面板型光源
模拟确定的像素数目,每个像素用一个球形波表示,作为基本模式。
Hdjp^O! 所有模式具有相同的孔径形状,并可在基本参数(Basic Parameters)选项卡中配置。
.fK~IKA 此外,还可以设置相对或绝对边缘宽度。
8rNf4]5@X( %PPkT]~\
Q*8x Bi1 Iomx"y]9 2. 特定参数-强度
6 I43a1[s f3<2531/} 特定参数(Specific Parameters)选项卡可以控制光源的强度和像素设置。
DP!8c 强度分布的设置可以根据:
BM87f:d - 通过指定彩色域集或通过导入图像
文件来指定所需的变化。在这种情况下,
波长从输入分布中选择;
Z'd]oNF - 或者一个波长的所有像素的常数。在这种情况下,像素的数量可以分别沿x方向和y方向设置。
2N.!#~_2 D Ctk1\quz
"DRiJ.|APs F#RtU :R 3. 特定参数-像素设置
=n;LP#(h ? ]=Wq&~ 特定参数(Specific Parameters)选项卡可以控制光源的强度和像素设置。
j3[kG# 像素间距(Pixel Pitch)可分别沿x方向和y方向设置。
W>[TFdH? 另外,可以配置每个像素的孔径角度(Aperture Angle)。
dSS Ai
|}
}G"bD8+ ]@l;;Sp 4.
光线选择
I1p{(fJ G}nj
71=H 在Ray Selection选项卡中,对于每个模式,都可以指定所需的选择方法和射线的数量。
WqHp23 D$`$4mX@hP
=vL
>&$ #5X+.!L 5. 偏振设置
Yv[<c!\
@2+'s;mUV 偏振设置(Polarization Settings)选项卡为所有像素提供偏振选项。
(62Sc] 偏振状态可以为:
w(Q{;RNM; −线偏振;
;rXZ?" −圆偏振;
c2PBYFCyC −椭圆偏振;
]oKHS$W9 −一般通过琼斯矩阵输入。
C`8.8 _A=i2?g
ZtpbKy!\$B P R_|
8H| 6. 模式选择
0.B'Bvn=s2 {$C"yksr 在模式选择(Mode Selection)选项卡中,可以选择不同的
光谱成分和像素。
UxnZA5Lk* 波长可以单独或全部选择。
i~m;Ah,# 像素可以在指定的列或行中选择,也可以作为单个像素选择。
o3le[6C/8= %~N| RSec
I0_>ryA E.CG
WH.3 bFJ>+ {# 7. 参数运行-扫描每个单个像素
RuOse9 n9k-OGJ 在模式选择选项卡中,选中“像素”。
|doG}C 启动参数运行并切换到扫描模式。然后扫描选定的列和行索引。
:7s2M VrJf g D#d/?\2 8. 文件和技术信息
E/ ^N
V :lKF') H)X&5E <
WQ
~X<1D (来源:讯技
光电)