摘要
M #&L@fg! =T4 w: 利用VirtualLab中的面板型
光源，可以如现实一样对像素化显示进行建模。所述面板型光源可以由给定的像素个数和像素图形来定义，每个像素都发射出可调发散角的球面波。结合ParameterRun，可以对所有像素进行扫描，可针对特定应用灵活选择扫描方式，例如，用于分析具有像素化图像生成单元的
成像系统。
T5_Cu9>ax iX6jvnJ:/ VDY1F_Fk a`iAA1HJ 1. 基本
参数 I'b]s~u J}\]<aC 面板型光源
模拟确定的像素数目，每个像素用一个球形波表示，作为基本模式。
R >&/n/l 所有模式具有相同的孔径形状，并可在基本参数（Basic Parameters）选项卡中配置。
u*N8s[s' 此外，还可以设置相对或绝对边缘宽度。
t+J6P)= xU<lv{m`D /mu4J |[[ dKpa5f7 2. 特定参数-强度
|UO;St F y visoZX 特定参数（Specific Parameters）选项卡可以控制光源的强度和像素设置。
T=d vc } 强度分布的设置可以根据：
h18y?e7MU - 通过指定彩色域集或通过导入图像
文件来指定所需的变化。在这种情况下，
波长从输入分布中选择；
tgA
|Vwwk - 或者一个波长的所有像素的常数。在这种情况下，像素的数量可以分别沿x方向和y方向设置。
3~xOO*`o 17MjIX S`w)b'B!M ~GYtU9s5 3. 特定参数-像素设置
Lta\AN!c m
kf{_!TK 特定参数（Specific Parameters）选项卡可以控制光源的强度和像素设置。
;}'<`(f&nX 像素间距（Pixel Pitch）可分别沿x方向和y方向设置。
D +""o "% 另外，可以配置每个像素的孔径角度（Aperture Angle）。
0M+tKF b
I uW10}"9 ]_8 \g`"u 4.
光线选择
yo?Q%w'Nh mP[u [ | ] 在Ray Selection选项卡中，对于每个模式，都可以指定所需的选择方法和射线的数量。
oF
xVK ", ) U~t(YT kq0m^` 5. 偏振设置
:zRboqe(cc Q*(o;\s 偏振设置（Polarization Settings）选项卡为所有像素提供偏振选项。
hiH p@"l< 偏振状态可以为:
^T,cXpx| −线偏振;
q:.BY}X9 −圆偏振;
.p>8oOp −椭圆偏振;
nB& 8=. −一般通过琼斯矩阵输入。
+ KNr1rG A,qG*lv m5{SPa,y `oBzt |f5 6. 模式选择
Kjw\SQ)2~ 1PSb72h< 在模式选择（Mode Selection）选项卡中，可以选择不同的
光谱成分和像素。
{H2i+"cF 波长可以单独或全部选择。
54w-yY 像素可以在指定的列或行中选择，也可以作为单个像素选择。
\/v$$1p2 [=+ / U2$T}/@ '%N)(S`O7P d*L'`BBsp CI{x/ e^( 7. 参数运行-扫描每个单个像素
y k2j&}M :TI1tJS~* 在模式选择选项卡中，选中“像素”。
{+Yo&F}n 启动参数运行并切换到扫描模式。然后扫描选定的列和行索引。
h[ T3WE [dMxr9 M to7)gOX( 8. 文件和技术信息
ez{&Y>n X)m2{@v D if>] )g2lr e-mlvi^- （来源：讯技
光电）
