摘要
?T[K{t;~jo \3j4=K'nE 利用VirtualLab中的面板型
光源，可以如现实一样对像素化显示进行建模。所述面板型光源可以由给定的像素个数和像素图形来定义，每个像素都发射出可调发散角的球面波。结合ParameterRun，可以对所有像素进行扫描，可针对特定应用灵活选择扫描方式，例如，用于分析具有像素化图像生成单元的
成像系统。
]#$r TWMl' #}'sknvM} ~$ 4!C'0 n(Ry~Xu _ 1. 基本
参数 7I {rhA Ymg,NkiP0 面板型光源
模拟确定的像素数目，每个像素用一个球形波表示，作为基本模式。
gAy"W$F 所有模式具有相同的孔径形状，并可在基本参数（Basic Parameters）选项卡中配置。
X.ZY1vO 此外，还可以设置相对或绝对边缘宽度。
~NO'8 Mr "I[u D)$ V"sm+0J 7!8R)m^1[ 2. 特定参数-强度
TJ(vq] |& l`AA<Rj*O- 特定参数（Specific Parameters）选项卡可以控制光源的强度和像素设置。
B+=Xb;p8 强度分布的设置可以根据：
t-J\j"~%+ - 通过指定彩色域集或通过导入图像
文件来指定所需的变化。在这种情况下，
波长从输入分布中选择；
)/?s^D$, - 或者一个波长的所有像素的常数。在这种情况下，像素的数量可以分别沿x方向和y方向设置。
Cqw`K P st(Y{Gs M4}zRr([.5 7C^W <SUo 3. 特定参数-像素设置
kS(v|d Kdd5ysTQ 特定参数（Specific Parameters）选项卡可以控制光源的强度和像素设置。
VK$s+" 像素间距（Pixel Pitch）可分别沿x方向和y方向设置。
^g N?Io 另外，可以配置每个像素的孔径角度（Aperture Angle）。
}F) eA1
3=kw{r[2lM !X/O1PM| 4.
光线选择
*
n>YS N< 7 在Ray Selection选项卡中，对于每个模式，都可以指定所需的选择方法和射线的数量。
14rX:z 17;qJ_T) gS ^Y? 1cPjgBxv# 5. 偏振设置
Wwo`R5 se]QEd7]7 偏振设置（Polarization Settings）选项卡为所有像素提供偏振选项。
.&c!k1kH 偏振状态可以为:
{DGnh1 −线偏振;
WEugm603 −圆偏振;
6SmawPPP −椭圆偏振;
V]A*' ke/ −一般通过琼斯矩阵输入。
$t42?Z=N&z u69s}yZ {}v<2bS _,]@xFCOH 6. 模式选择
W!WeYV}kb FPX B>D' 在模式选择（Mode Selection）选项卡中，可以选择不同的
光谱成分和像素。
N'RUtFqj 波长可以单独或全部选择。
23[X mBf 像素可以在指定的列或行中选择，也可以作为单个像素选择。
C*,PH!$k -&_;x&k
/ 5NAB^&{Z<X Hqm1[G) #_[W*-|L sD`OHV: 7. 参数运行-扫描每个单个像素
[^E{Yz=8, %W]" JwRu 在模式选择选项卡中，选中“像素”。
@c#M^:9Dc 启动参数运行并切换到扫描模式。然后扫描选定的列和行索引。
[i)G:8U /2e,,)4g ? ;)F_aHp 8. 文件和技术信息
92S,W?( +c_8~C i$W=5B>SO rpO>l （来源：讯技
光电）
