摘要
%l!?d`? V`1{*PrI@L 利用VirtualLab中的面板型
光源，可以如现实一样对像素化显示进行建模。所述面板型光源可以由给定的像素个数和像素图形来定义，每个像素都发射出可调发散角的球面波。结合ParameterRun，可以对所有像素进行扫描，可针对特定应用灵活选择扫描方式，例如，用于分析具有像素化图像生成单元的
成像系统。
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h]s~w & U OxS W 1. 基本
参数 o3/o2[s Z )M
"`2Ur 面板型光源
模拟确定的像素数目，每个像素用一个球形波表示，作为基本模式。
f|FS%]fCxk 所有模式具有相同的孔径形状，并可在基本参数（Basic Parameters）选项卡中配置。
^2nrA pF 此外，还可以设置相对或绝对边缘宽度。
o_BTo5] Z17b=x Jw 
%DYh<U4N }!oEjcX ' 2. 特定参数-强度
~x \uZ^: Syy{ ^Ae} 特定参数（Specific Parameters）选项卡可以控制光源的强度和像素设置。
6]Hwr_/tk 强度分布的设置可以根据：
G
rp{
. - 通过指定彩色域集或通过导入图像
文件来指定所需的变化。在这种情况下，
波长从输入分布中选择；
.R)P
|@z L - 或者一个波长的所有像素的常数。在这种情况下，像素的数量可以分别沿x方向和y方向设置。
_&B K4?H@b i7XY3yhC 
3N Ln} Z% ]K,9K 3. 特定参数-像素设置
-smN}*3[ )>:~XA|? 特定参数（Specific Parameters）选项卡可以控制光源的强度和像素设置。
jRU: un4 像素间距（Pixel Pitch）可分别沿x方向和y方向设置。
`\62 iUN 另外，可以配置每个像素的孔径角度（Aperture Angle）。
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B[GC@]HE P'l n S&yA 4.
光线选择
Wvf>5g)? `}l%61n0 在Ray Selection选项卡中，对于每个模式，都可以指定所需的选择方法和射线的数量。
= wdh# { 0BlEt1e2T 
{MUi K 5: &/]en|f" 5. 偏振设置
KD &nLm! ly17FLJ]. 偏振设置（Polarization Settings）选项卡为所有像素提供偏振选项。
+9b{Y^^~T 偏振状态可以为:
I]v2-rB&- −线偏振;
z/ 1$G" −圆偏振;
:}zyd; Rc −椭圆偏振;
z_ $c_J −一般通过琼斯矩阵输入。
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(k: 
dgkS5Q$/ hLLSmW ( 6. 模式选择
f[k#Znr Z )`)9]* 在模式选择（Mode Selection）选项卡中，可以选择不同的
光谱成分和像素。
g8##Be 波长可以单独或全部选择。
I/Vw2 像素可以在指定的列或行中选择，也可以作为单个像素选择。
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R VatGa0
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S\).0g oOW DO*U7V02 7. 参数运行-扫描每个单个像素
f$xXR$mjf wsWFD xR 在模式选择选项卡中，选中“像素”。
5CFNBb%Xy 启动参数运行并切换到扫描模式。然后扫描选定的列和行索引。
$9,&BW_* 4`5yrC d o6[.$C 8. 文件和技术信息
|:1{B1sqA %lHHTZ{+ ^<CVQ8R7 'Zu S （来源：讯技
光电）
