摘要
*O$CaAr\s A?!I/|E^; 利用VirtualLab中的面板型
光源,可以如现实一样对像素化显示进行建模。所述面板型光源可以由给定的像素个数和像素图形来定义,每个像素都发射出可调发散角的球面波。结合ParameterRun,可以对所有像素进行扫描,可针对特定应用灵活选择扫描方式,例如,用于分析具有像素化图像生成单元的
成像系统。
k8nLo.O 8ovM\9qT !c W[G/W8 v5ur&egVs 1. 基本
参数 8OhDjWVJ zoDZZ%{ 面板型光源
模拟确定的像素数目,每个像素用一个球形波表示,作为基本模式。
n| O [a6G 所有模式具有相同的孔径形状,并可在基本参数(Basic Parameters)选项卡中配置。
+t)n;JHN 此外,还可以设置相对或绝对边缘宽度。
EOKzzX7 S SS|z*h
Z Zi$ziDz& a~LC+8|JW 2. 特定参数-强度
qOV[TP, .aOnGp 特定参数(Specific Parameters)选项卡可以控制光源的强度和像素设置。
&NZfJs 强度分布的设置可以根据:
;$j7H&UNQj - 通过指定彩色域集或通过导入图像
文件来指定所需的变化。在这种情况下,
波长从输入分布中选择;
H5>hx{ - 或者一个波长的所有像素的常数。在这种情况下,像素的数量可以分别沿x方向和y方向设置。
w) ]H ^6 {04"LAE ks;%*d q6P
wZ_ 3. 特定参数-像素设置
#.B"q:CW*P XEM'}+d 特定参数(Specific Parameters)选项卡可以控制光源的强度和像素设置。
,3DXFV'uxb 像素间距(Pixel Pitch)可分别沿x方向和y方向设置。
9Mm!%Hu 另外,可以配置每个像素的孔径角度(Aperture Angle)。
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u'A#%}3 ._:nw=Y0<} 4.
光线选择
OK|qv [ `em9T oJV 在Ray Selection选项卡中,对于每个模式,都可以指定所需的选择方法和射线的数量。
.3 pbuU \a^,sV 5
LP?Ij >XW*T5aUA 5. 偏振设置
ra ' AF,BwLN 偏振设置(Polarization Settings)选项卡为所有像素提供偏振选项。
n";02?@F 偏振状态可以为:
>?W[PQ5 yx −线偏振;
lb'Cl 3H −圆偏振;
_A_ A$N~9 −椭圆偏振;
BfTcI) −一般通过琼斯矩阵输入。
[|`U6
8}u &:*q_$]Oz 3 *S{;p _1Z=q.sC 6. 模式选择
]LPQYL v0*N)eqDGd 在模式选择(Mode Selection)选项卡中,可以选择不同的
光谱成分和像素。
#Sg\q8(O 波长可以单独或全部选择。
v`q\6i[- 像素可以在指定的列或行中选择,也可以作为单个像素选择。
RH;:9_*F 0pe3L 0Sl]!PZR1 1[nG} D]! aT+ 1{"llD 7. 参数运行-扫描每个单个像素
;+ "f woH)0v 在模式选择选项卡中,选中“像素”。
72oWhX=M% 启动参数运行并切换到扫描模式。然后扫描选定的列和行索引。
~rbIMF4T`] 5 +9Ze9 |w}w.% 8. 文件和技术信息
+m\|e{G |tMn={ U$&hZ_A J<j&;:IRd (来源:讯技
光电)