介绍
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模拟的关键部件是来自参考文献[1]的线性锥形硅波导（160 nm至500 nm宽度变化超过100 um长度，250 nm高度），它埋在二氧化硅波导中（注意：使用的尺寸减小了（1.5 umx1.5 umx105 um），以便达到更快的模拟时间）
-~nU&$ccL 为了精确模拟线性锥形硅波导，锥形的网格尺寸应该要设置密度大一些，因此在这种情况下使用不均匀的网格。
//SH=>w2 光源在时域中设置为CW（λ= 1.55 um），在空间域上设置为高斯横向分布，并且位于二氧化硅波导的硅纸尖端。
XZ@;Tyn0, 注意：模拟时间应足够长，以确保稳态结果
Kt (Z&@ W?a{3B 
QB<9Be@e ~Rs_ep'+Q2 [1] Jaime Cardenas, et al., “High Coupling Efficiency Etched Facet Tapers in Silicon Waveguides,” IEEE Phot. Tech. Lett. VOL. 26, NO. 23, 2380-2382 (2014)
a3 &&7 n [2] Vilson R. Almeida, et al., "Nanotaper for compact mode conversion," Opt. Lett. 28, 1302-1304 (2003);
`Qf$]Eoft $=7'Cm ? 3D FDTD仿真
s 0}OsHAj dQ4VpR9|; 要模拟的关键部件是来自参考文献[1]的线性锥形硅波导（160 nm至500 nm宽度变化超过100 um长度，250 nm高度），它埋在二氧化硅波导中（注意：使用的尺寸减小了（1.5 umx1.5 umx105 um），以便达到更快的模拟时间）
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%OA 为了精确模拟线性锥形硅波导，锥形的网格尺寸应该要设置密度大一些，因此在这种情况下使用不均匀的网格。
2 EG` 光源在时域中设置为CW（λ= 1.55 um），在空间域上设置为高斯横向分布，并且位于二氧化硅波导的硅纸尖端。
>s@*S9cj: 注意：模拟时间应足够长，以确保稳态结果
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]K]$FX<f ~$#"'Tl4J 
\q2#ef@2 hJqLH ?Ri 仿真结果
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'8.r 6mP
s;I 顶视图展示了锥形硅波导的有效
耦合。
'cs!(z-{x vvJ{fi 底部视图显示了不同位置的模式转换（左：25 um，中间：65 um，右：103 um）
5XSr K 7M#eR8*[se 
D& Xh|}2A m). S0 （来源：讯技
光电）
