【官方培训】2018年 Zemax成像与高级成像培训_11月上海站
Zemax成像设计培训课程 & 高级成像设计培训课程 Zemax中国将于 2018 年 11 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! 主办:Zemax China 时间:成像设计:2018年11月26~28日 | 高级成像设计:2018年11月29~30日 地点:上海 讲师:Heng Li —— Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师 课程安排: 成像设计 本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。
在初阶成像课的基础上,用2天时间深入介绍OpticStudio成像系统分析优化逻辑,通过实例介绍非球面、自由曲面的设计,并介绍高级公差分析技巧。该课程需要学员熟悉成像光学原理、熟悉OpticStudio序列模式操作,包括模型建立、优化、坐标间断、公差等。
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