【官方培训】2018年 Zemax成像与高级成像培训_11月上海站

发布:zemax官方 2018-09-11 16:24 阅读:5692
Zemax成像设计培训课程 & 高级成像设计培训课程     ^B/{  
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Zemax中国将于 2018 年 11 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加!   2#^[`sFPO  
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主办:Zemax China       ]_h"2|  
时间:成像设计:2018年11月26~28日     |     高级成像设计:2018年11月29~30日       Vz^:| qON  
地点:上海   mon(A|$|j  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   -?[:Zn~$a  
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课程安排: 0=04:.%D  
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成像设计 'D bHXS7N  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 <8Ad\MU  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍;   Hd:ZE::Q'#  
材料库、镜头库介绍;   LX8vVj8K  
如何定义新材料;   4PdFq*A  
如何使用镜头库;
MTF;   Msf yI B  
双高斯镜头设计及优化;   I4$a#;  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用;   _%x|,vo`(  
寻找最佳非球面;   1+]e?  
曲率套样板;   CA3.fu3(p  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍;   #Jn_"cCRLx  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换;   ~7*HZ:.  
坐标断点面的使用技巧;   gaJS6*P#  
序列模式棱镜建模;   +um; eL7  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能;   jooh`| `P  
加工误差、装配误差;   Eb*DP_  
灵敏度分析;   "_^FRz#h  
反灵敏度分析;   #M:W?&.  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化;   c;Li~FLR  
局部优化;   ve$P=ZuM  
全局优化;   ? in&/ZrB  
锤形优化;   2/GH5b(  
优化函数架构技巧;   u3q!te  
透镜优化实例;   /];F4AO5  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例;   dsh}-'>  
投影系统设计;   QF>H>=Za=  
集光系统设计;
公差评价标准;   -Iq#h)Q*  
公差操作数;   6ik6JL$AI  
补偿变量的使用;   "k+QDQ3=  
单透镜公差分析;   JO _a+Yl  
库克镜头公差分析;   '?QZ7A  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   J%nJO3,  
实例设计及分析;   #pf}q+A  
小结及答疑;
暗盒系统介绍;   {MIs%w.G  
小结及答疑;
公差脚本的使用;   NY_Oo!)3  
镜头出图、CAD出图;   /q]WV^H  
小结及答疑
高级成像设计 w^r*qi"  
在初阶成像课的基础上,用2天时间深入介绍OpticStudio成像系统分析优化逻辑,通过实例介绍非球面、自由曲面的设计,并介绍高级公差分析技巧。该课程需要学员熟悉成像光学原理、熟悉OpticStudio序列模式操作,包括模型建立、优化、坐标间断、公差等。 ;$86.2S>B  
上课时间第1天第2天
9:00-10:30光学设计流程总览; qoEOM%dAqV  
案例:扩束镜设计;
衍射算法与像质评价; /GEqU^ B  
光偏振与膜层;
10:30-10:45茶歇 BYu|loc  
茶歇 \PL92HV  
10:45-12:00评价函数与优化向导; ?g9CeeH*  
全局优化; &vLZj  
选取解并精细优化;
可制造性与公差分析; R(csJ4F  
案例:双胶合透镜公差及去敏感化; b+{,c@1rd  
非球面制造与公差;
12:00-13:30午餐午餐
13:30-15:00衍射光学设计:热补偿镜头; eM8u ;i  
坐标间断:离轴抛物面反射镜设计;
案例:离轴抛物面反射镜公差分析; }=wSfr9g  
群组公差方法;
15:00-15:15茶歇茶歇
15:15-17:00Q型非球面;  pxP7yJL`  
非球面定义转化; ZV&=B%J bs  
案例:Chebyshev面离轴三反设计; 1y>P<[  
【自学】案例:自由曲面成像棱镜;
案例:Maksutov望远镜公差分析;
:kgwKuhL  
p_[k^@ $  
特色:     Qg3 -%i/@  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;       !j\  yt  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;       wj Y3:S~  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;       c!s{QWd%  
P4s:wuJ^  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     高级成像设计:3980元/人       F> ..eK  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;       X^"95Ic  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。       :I1bGa&I  
#U'n=@U@(  
报名方式:       e=YvM g  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。       %2V_%KA  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。     GX(p7ZgB2  
cD7q;|+  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
     lxV> rmD  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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