【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7379
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   AR B7>"  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! %_f;G+fK\p  
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主办:Zemax China     AU{:;%.g  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     5K.+CO<  
地点:上海 v'9m7$  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   b1^cD6sT+  
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课程安排: AV4~U:vU  
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成像设计 rla:<6tt  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 h)dRR_  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; @$U e$  
材料库、镜头库介绍; ( $d4:Ww  
如何定义新材料; Rlw3!]5+2  
如何使用镜头库;
MTF; T\sNtdF`:  
双高斯镜头设计及优化; '}{?AUDx  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; km 5E)_]  
寻找最佳非球面; \ TL82H@D  
曲率套样板; oXGZK5w<l  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; 'mV:@].le  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; dgc&[  
坐标断点面的使用技巧; /lH'hcXcX  
序列模式棱镜建模; P. V\ov7m2  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; +R\~3uj[7  
加工误差、装配误差; 8(lCi$  
灵敏度分析; BKb<2  
反灵敏度分析; o)I/P<  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; |]ucHV  
局部优化; Yj8&  
全局优化; 3,$iG e  
锤形优化; =cp;Q,t'9L  
优化函数架构技巧; e\N0@   
透镜优化实例; 5*j:K&R-.K  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; I'InZ0J2  
投影系统设计; 14l; *  
集光系统设计;
公差评价标准; p":zrf'(6  
公差操作数; yazZw}};  
补偿变量的使用; R^tcr)(  
单透镜公差分析; ?5~!i9pY  
库克镜头公差分析; z,+m[x=/N  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   `:5,e/5,  
实例设计及分析; Xj ,j0  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; `d`&R.'  
小结及答疑;
公差脚本的使用; C*pLq5s  
镜头出图、CAD出图; yN:>!SQ  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 3o0IjZ=[>  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 ^H!Lp[5c  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; @ ;J|xkJ  
光源与探测器;
案例:背光模组; fsI`DjKi)  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; A-0m8<  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; ^[TOZXL`:  
光偏振与膜层;
表面散射; cx:jUsb6  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; :?#cDyW)  
光谱模型; i'HST|!j  
真彩色数据探测;
物体表面属性; vnZ/tF  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; p JX, n  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   t>oM%/H  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; {6tx,;r(F  
非序列系统错误排查;
体散射; ca}S{"  
荧光模型
~UW{)]_jox  
Wa/geQE1<  
特色:     C$y fMK,,N  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     _z%\'(l+  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     !F,s"  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     P^;WB*V  
k>-'AWH^v  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     UP*yeT,P,  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     I,9~*^$  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     ~ i'C/[P  
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报名方式:     U]mO7HK  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     2dyxKK!\a  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   %Fm`Y .l  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   o HRbAE^  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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