【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:8134
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   S%+$  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! R5y+bMZ  
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主办:Zemax China     X5(S+;v"^  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     x6d0yJ <  
地点:上海 S$=e %c  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   /7bIE!Cn  
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课程安排: fnZaIV=H  
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成像设计 U%Igj:%?;`  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 FUq>+U!Qu  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; JOR ? xCc  
材料库、镜头库介绍; BUuU#e5  
如何定义新材料; %(EUZu2  
如何使用镜头库;
MTF; ;+) M~2 =  
双高斯镜头设计及优化; zF& >1y.$  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; k 5<[N2D|!  
寻找最佳非球面; nvJ2V $  
曲率套样板;  qep<7 QO  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; [jOvy>2K]  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; N|pyp*8Z  
坐标断点面的使用技巧; |;L%hIR[  
序列模式棱镜建模; q=o"] 6  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; xk1pZQ8c  
加工误差、装配误差; xaiA?  
灵敏度分析; U 0$?:C+?  
反灵敏度分析; J!%cHqR  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; m[@7!.0=  
局部优化; [7QIpt+FSo  
全局优化; D]I]I!2c  
锤形优化; aYjFRH`  
优化函数架构技巧; b&Dc DX  
透镜优化实例; B{D!5{t  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; F-=W7 D:[c  
投影系统设计; _ ]W }6?i  
集光系统设计;
公差评价标准; B!Ss 35<  
公差操作数; c'9-SY1'~  
补偿变量的使用; %H-(-v^T*  
单透镜公差分析; ~(TS>ck@  
库克镜头公差分析; %-Z0OzWe  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   b,?@_*qv+  
实例设计及分析; zLG5m]G4D  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; (IbT5  
小结及答疑;
公差脚本的使用; uW.)(l  
镜头出图、CAD出图; ^,Sl^ 9K  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 =xs{Ov=  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 a;Nj'M~U  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; xK`.^W  
光源与探测器;
案例:背光模组; p'2ZDd =v  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; ]LvpYRU$P  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; w3^>{2iqq  
光偏振与膜层;
表面散射; 7p}.r J54  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; EZm6WvlxSI  
光谱模型; x)X=sX.  
真彩色数据探测;
物体表面属性; x5Sc+5?*  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; u&iMY3=  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   ,j4 ;:F  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; py,B6UB5  
非序列系统错误排查;
体散射; ^-CQ9r*  
荧光模型
))M; .b.D  
^9})@,(D  
特色:     VQ{.Ls2`Z  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     YN\!I  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     `-l, `7e'  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     `Gl@?9,i  
=] R_6#  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     a95QDz  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     |%F[.9Dp  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     &yKUf  
A7~~{9  
报名方式:     MIcF "fB![  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     LB<,(dyh  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   _)q,:g~fu  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   Ea%} VZ&[  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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