【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7647
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   _z3Hl?qk=  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! {]a 6o[}u  
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主办:Zemax China     (\^)@Y  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     8J- ;/  
地点:上海 kZlRS^6  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   i>M*ubWE4@  
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课程安排: h)M9Oup`  
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成像设计 's]+.3">L1  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 o6} +5  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; I:~L!%  
材料库、镜头库介绍; ; md{T'  
如何定义新材料; P7Th 94  
如何使用镜头库;
MTF; x+O}RD*G  
双高斯镜头设计及优化; GMw|@?:{  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; ,H3C\.%w\  
寻找最佳非球面; kUJ\AK  
曲率套样板; [xXml On!  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; VesO/xG<  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; *5i~N}  
坐标断点面的使用技巧; tk^1Ga3  
序列模式棱镜建模; zN\~v  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; Q7y6</4f  
加工误差、装配误差; cVZCBcKC?  
灵敏度分析; 7eh|5e$@  
反灵敏度分析; %Km_Sy[7']  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; /HNZwbh]uJ  
局部优化; tVhY=X{N?  
全局优化; Bc4{$sc"O  
锤形优化; p6V`b'*>  
优化函数架构技巧; >#@1 I  
透镜优化实例; 6'Sc=;;:  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; 's{-1aW  
投影系统设计; mI=^7 'Mk  
集光系统设计;
公差评价标准; (BC3[R@/l  
公差操作数; &DX9m4,y  
补偿变量的使用; *JG?^G"l  
单透镜公差分析; Z`xz|:D+  
库克镜头公差分析; F}Bc +i#]  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   -Uz xs5Zl  
实例设计及分析; Z6&s 6MF  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; y+RT[*bX5o  
小结及答疑;
公差脚本的使用; y(:hN)  
镜头出图、CAD出图; >GiM?*cC  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 o'Q)V  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 /KEPPp  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; 's$pr#V  
光源与探测器;
案例:背光模组; {6<7M  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; *seKph+'c  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; DYH-5yX7  
光偏振与膜层;
表面散射; pBt/vSad  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; A.vcE  
光谱模型; a4,bP*H  
真彩色数据探测;
物体表面属性; v&(X& q  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; [pbX_  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;    Iz2K  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; QEM")(  
非序列系统错误排查;
体散射; q*A2>0O  
荧光模型
XJ]MPiXj  
hQBeM7$F_  
特色:     ]}9y>+>  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     o})4Jt1vj  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;      zUqiz  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     !23W=N}82  
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培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     @( 9#\%=  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     w\_NrsO!x  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     *6Rl[eXS  
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报名方式:     ##u+[ !  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     Y[T;j p(k  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   rK~362|mo  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   vD) LRO Z  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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