切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • 1015阅读
    • 6回复

    [分享]光刻未来5~10年的主要方向 [复制链接]

    上一主题 下一主题
    离线hhxxgg00
     
    发帖
    1447
    光币
    32263
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 05-21
    193nm投影光刻是未来5~10年大规模集成电路工业化生产的主要方法. 投影物镜作为光刻机的核心分系统,其光机系统关键技术的研究进展直接影响物镜整体性能的提升. 本文分析了当前集成电路装备制造业对193nm投影物镜的需求,阐述了曝光系统设计、光学元件被动支撑、位姿调节、主动变形、元件更换和系统数值孔径调节等物镜光机系统关键技术研究现状,提炼了阻碍物镜未来发展的关键科学技术问题. 目前,193nm光刻物镜尚需进一步阐明高阶热像差的产生机理和校正策略,解决多自由度位姿标定问题,形成完备的物镜研制方法,指导高成像质量物镜的制造。 $ftxid8  
    2条评分光币+20
    mang2004 光币 +10 - 05-23
    cyqdesign 光币 +10 - 05-21
     
    这个时代,每个人都在大声说话,每个人都在争分夺秒。我们用最快的速度站上高度。但是也在瞬间失去态度。当喇叭声遮盖了引擎声,我们早已忘记,谦谦之道才是君子之道。你问我这个时代需要什么,在别人喧嚣的时候安静,在众人安静的时候发声。不喧哗,自有声。
    分享到
    离线zcp12121212
    发帖
    616
    光币
    85
    光券
    0
    只看该作者 1楼 发表于: 05-21
    了解下 22/"0=2g  
    离线聊地哼
    发帖
    49
    光币
    646
    光券
    0
    只看该作者 2楼 发表于: 05-30
    了解   光学知识阿布
    离线shima668
    发帖
    155
    光币
    1
    光券
    0
    只看该作者 3楼 发表于: 06-07
    了解   光学知识阿布
    离线345411525
    发帖
    27
    光币
    3
    光券
    0
    只看该作者 4楼 发表于: 06-12
    谢谢楼主
    离线yanzhiyan
    发帖
    228
    光币
    129
    光券
    0
    只看该作者 5楼 发表于: 10-11
    了解一下
    离线cyibao
    发帖
    213
    光币
    32
    光券
    0
    只看该作者 6楼 发表于: 10-12
    提升. 本文分析了当前集成电路装备制造业对193nm投影物镜的需求,阐述了曝光系统设计、光学元件被动支撑、位姿调节、主动变形、元件更换和系统数值孔径调节等物镜光机系统关键技术研究现状,提炼了阻碍物镜未来发展的关键科学技术问题. 目前,193nm光刻物镜尚需进一步阐明高阶热像差的产生机理和校正策略,解决多自由度位姿标定问题,形成完备的物镜研制方
    快速回复
    限100 字节
    1.发帖,回帖请文明用语;2.切勿灌水,切忌多版面重复发贴;3.打击非法内容,病毒,虚假广告.
     
    上一个 下一个