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[分享]光刻未来5~10年的主要方向 [复制链接]

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离线hhxxgg00

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只看楼主正序阅读楼主发表于: 2018-05-21

193nm投影光刻是未来5~10年大规模集成电路工业化生产的主要方法. 投影物镜作为光刻机的核心分系统,其光机系统关键技术的研究进展直接影响物镜整体性能的提升. 本文分析了当前集成电路装备制造业对193nm投影物镜的需求,阐述了曝光系统设计、光学元件被动支撑、位姿调节、主动变形、元件更换和系统数值孔径调节等物镜光机系统关键技术研究现状,提炼了阻碍物镜未来发展的关键科学技术问题. 目前,193nm光刻物镜尚需进一步阐明高阶热像差的产生机理和校正策略,解决多自由度位姿标定问题,形成完备的物镜研制方法,指导高成像质量物镜的制造。

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193nm投影光刻物镜光机系统关键技术研究进展_张德福.rar (1937 K) 下载次数:55 ，售价:2光币[记录]

共2条评分，光币+20

mang2004	光币 +10	-	2018-05-23
cyqdesign	光币 +10	-	2018-05-21

这个时代，每个人都在大声说话，每个人都在争分夺秒。我们用最快的速度站上高度。但是也在瞬间失去态度。当喇叭声遮盖了引擎声，我们早已忘记，谦谦之道才是君子之道。你问我这个时代需要什么，在别人喧嚣的时候安静，在众人安静的时候发声。不喧哗，自有声。

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离线yangpaopao

助理工程师

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只看该作者 7楼发表于: 2018-10-18

学习一下，只做过照明系统，投影物镜没做过

离线cyibao

助理工程师

发帖: 426

光币: 66

光券: 0

只看该作者 6楼发表于: 2018-10-12

提升. 本文分析了当前集成电路装备制造业对193nm投影物镜的需求,阐述了曝光系统设计、光学元件被动支撑、位姿调节、主动变形、元件更换和系统数值孔径调节等物镜光机系统关键技术研究现状,提炼了阻碍物镜未来发展的关键科学技术问题. 目前,193nm光刻物镜尚需进一步阐明高阶热像差的产生机理和校正策略,解决多自由度位姿标定问题,形成完备的物镜研制方