摘要 t Dah@_ x1`(Z|RJ 在
半导体产业中，晶片检测
系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微
结构的图像解析度，检测系统常使用一个高NA的
物镜，工作在紫外
波长范围。作为一个例子，
模拟了一个完整的晶片检测系统，包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用，并演示了图像的形成。
^GrSvl}v' l{.PyU5) ~,} ;FI 建模任务 1|-C(UW> frm[<-~ w0 E&z^E2 结果 EZ/_uj2&SN /6[vF)& ~N| aCi-X 结果 roAHkI 
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