摘要 g{?{N KmF+3g~#s 在
半导体产业中,晶片检测
系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微
结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的
物镜,工作在紫外
波长范围。作为一个例子,
模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。
z[+pN:47 "8[Vb#=*e A{hST~s 建模任务 .GDY
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