摘要 n=fR%<v I |D]NY^ VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现，并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现，以此定义其一般性的几何
结构。而且，几个高级规格选项可用，例如，添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项，并且讨论了其对光栅结构的影响。
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wa 介质目录中的斜光栅介质 )fZ5.W8UE] S4O:?^28 
ZG)C#I1;O 9.goO|~ B~ 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
MD:kfPQ 可用于设置复杂光学光栅结构（所谓的堆栈）和傅里叶模式法（FMM）分析。
L3Q1az !Ct qj|B #dU 斜光栅介质的编辑对话框
uP ?gGo Y@'1}=`J 
Q;$/&Y* gk6j5 $Y"< 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
:kI
x?cc 首先，光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
r3 {o _w 这些材料既可以从材料目录选择，也可以通过
折射率定义。
0H.B>: pv 斜光栅介质的编辑对话框 H+2J.&Ch
TA Y t:
o:Z*F0q m e;}5~dSi 在材料设置下面，可以定义光栅的几何结构。
]i]s gg[ 以下参数可用：
:S7yM8 b` - 填充率（定义光栅的上部分和下部分）
2 |w.A! - z扩展（沿着z方向测量光栅高度）
zsRN\U - 倾斜
角度左（脊左侧的倾斜角）
uJp}9B60_ - 倾斜角度右（脊右侧的倾斜角）
"Lpt@g[HF z8"=W,2 如果倾斜角相同，通过点击不等号关联两个设置。
Sdt2D .}y
Lz 斜光栅介质的编辑对话框 <db/. A3 LveqG 
f W}H##b d`nS0Tf' 为了添加可配置的涂层，必须激活应用涂层（Apply Coating）选项。
C X'E+ 现在，额外的选项和结构的图形一起显示。
I A!ixabG 3S2'JOTY 斜光栅介质的编辑对话框 s3kEux^ \T]"pE+8l 
6k3l/ ~R ( &hX8 Iq}h}Wd 首先，必须选择涂层材料。
S@"=,Xj M 同样地，材料可以从材料目录中选择，也可以通过折射率定义。
!<6wrOMa O 接着，分别配置每个侧壁，顶壁和底壁的涂层厚度，如草图所示。
80]TKf> c`}X2u]k 斜光栅的编辑对话框 SCH
?RzT0HRd x)yf!Dv5$
pn7 :")Zx 由于斜光栅由介质定义，必须在周期选项中设置周期。
gX _BJ6 由于用这个特别的介质来设计光栅，因此常常配置为周期性。
}Voh5*$E` x[^A 9 堆栈使用的评论 83 5Upj>
c _a$g
Y-c~"# 5) o IPHXw qtH&]Su u, 为了使用光学堆栈里的介质，有必要定义两个作为介质边界的表面。
1 =a}{)0h 一般来说，界面之间的距离必须手动设置。
C;)
xjZiR 对于斜光栅介质，介质高度（z方向）直接定义在介质配置中。
.M{ [J]H`t 因此，表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
1DcarF .- Lqo=o\ 斜光栅介质的采样配置 7h0'R k -9*WQU9R 斜光栅介质采样
2!otVz! Mh Xbtv}g<0c >C}RZdO~ 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
>oNk(.
% 在每个幻灯片的左边，编辑对话框展示了相关参数。
c k~xj0 在右边，显示了介质的预览。
` j<tI6[e 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
S+y2eP G uRy6~' 
y&Hh8|'mC /a|NGh% 采样斜光栅#1 =|%T E .Ks vRx 
,7g;r_qwA {LD8ie|x1` 采样斜光栅#2 w1_Ux<RF qi2dTB 
&Kp+8D* `x VA]GR4c 采样斜光栅#3 E}= ,"i *]6dV ' 
%nh'F6bNgv UG_0Y8$ 采样斜光栅#4 P[K=']c vr v*k 
>[@d&28b% k#) .E X 文档信息 i=oa "^ c4 xlO2jSSAt 
