[转载]斜光栅的高级配置 [复制链接]

摘要 ^w2 HF  
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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现，并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现，以此定义其一般性的几何结构。而且，几个高级规格选项可用，例如，添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项，并且讨论了其对光栅结构的影响。 22U`1AD3U  
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介质目录中的斜光栅介质 { I\og  
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 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 NY.*
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 可用于设置复杂光学光栅结构（所谓的堆栈）和傅里叶模式法（FMM）分析。 Gn_DIFa  
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斜光栅介质的编辑对话框 &>E gKL  
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 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 WvSm!W  
 首先，光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 $~W5! m  
 这些材料既可以从材料目录选择，也可以通过折射率定义。 tp>YsQy]8  
斜光栅介质的编辑对话框 K,,) FM  
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 在材料设置下面，可以定义光栅的几何结构。 &tvp)B?cWk  
 以下参数可用： ck5cO-1>6  
- 填充率（定义光栅的上部分和下部分） /lu|FWbEw  
- z扩展（沿着z方向测量光栅高度） ZDgT"53  
- 倾斜角度左（脊左侧的倾斜角） zqXF`MAB=  
- 倾斜角度右（脊右侧的倾斜角） FiUwy/,ZV  
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如果倾斜角相同，通过点击不等号关联两个设置。 bvB'
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斜光栅介质的编辑对话框 G2)F<Y  
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L\:m)g,F.  
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 为了添加可配置的涂层，必须激活应用涂层（Apply Coating）选项。 J&,hC%]  
 现在，额外的选项和结构的图形一起显示。 ZL\^J8PRK  
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斜光栅介质的编辑对话框 Opcszq5n  
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 首先，必须选择涂层材料。 KGg S"d  
 同样地，材料可以从材料目录中选择，也可以通过折射率定义。 h%ys::\zF  
 接着，分别配置每个侧壁，顶壁和底壁的涂层厚度，如草图所示。 YRX^fZ-b  
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斜光栅的编辑对话框 M-Efe_VRQc  
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 由于斜光栅由介质定义，必须在周期选项中设置周期。 sA|SOAn  
 由于用这个特别的介质来设计光栅，因此常常配置为周期性。 T:X
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堆栈使用的评论 phjM(lmCo  
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 为了使用光学堆栈里的介质，有必要定义两个作为介质边界的表面。 M?"4{  
 一般来说，界面之间的距离必须手动设置。 @tm2Y%Y!  
 对于斜光栅介质，介质高度（z方向）直接定义在介质配置中。 N'WTIM3W  
 因此，表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
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斜光栅介质的采样配置 Y$v#>w_M  
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斜光栅介质采样 )-&@8`  
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 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 jsE8=zZs  
 在每个幻灯片的左边，编辑对话框展示了相关参数。 |ffHOef  
 在右边，显示了介质的预览。 A&t8C8,  
 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 Za|iU`e\  

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采样斜光栅#1 ;QXg*GNAv$  
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采样斜光栅#2 uD=K
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采样斜光栅#3 it\$Pih]  
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采样斜光栅#4 SqPqL<,e  
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