[转载]斜光栅的高级配置 [复制链接]

摘要 ^mg:<_p  
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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现，并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现，以此定义其一般性的几何结构。而且，几个高级规格选项可用，例如，添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项，并且讨论了其对光栅结构的影响。 ohbU~R3{U  
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介质目录中的斜光栅介质 .*f6n|  
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 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 qw$9i.Z  
 可用于设置复杂光学光栅结构（所谓的堆栈）和傅里叶模式法（FMM）分析。 *;)O'|  
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斜光栅介质的编辑对话框 EjFn\|VK  
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 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 g^Hf^%3xP  
 首先，光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 B~^*@5#0|  
 这些材料既可以从材料目录选择，也可以通过折射率定义。 0@!huk  
斜光栅介质的编辑对话框 Ka6u*:/  
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 在材料设置下面，可以定义光栅的几何结构。 Xy%||\P{)  
 以下参数可用： IIih9I`IR  
- 填充率（定义光栅的上部分和下部分） =.7tS'  
- z扩展（沿着z方向测量光栅高度） 5+11J[~{  
- 倾斜角度左（脊左侧的倾斜角） AmHj\NX$  
- 倾斜角度右（脊右侧的倾斜角） NTD1QJ  
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如果倾斜角相同，通过点击不等号关联两个设置。 cE:s\hG  
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斜光栅介质的编辑对话框 [.^ol6  
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 为了添加可配置的涂层，必须激活应用涂层（Apply Coating）选项。 rH!sImz,  
 现在，额外的选项和结构的图形一起显示。 QmjE\TcK/  
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斜光栅介质的编辑对话框 zzhZ1;\  
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 首先，必须选择涂层材料。 jan}}7Dly  
 同样地，材料可以从材料目录中选择，也可以通过折射率定义。 g=[OH  
 接着，分别配置每个侧壁，顶壁和底壁的涂层厚度，如草图所示。 I]`RvT  

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斜光栅的编辑对话框 iphC\*F  
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 由于斜光栅由介质定义，必须在周期选项中设置周期。  u&#>)h  
 由于用这个特别的介质来设计光栅，因此常常配置为周期性。 >({qgzV`  
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堆栈使用的评论 <wk  
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 为了使用光学堆栈里的介质，有必要定义两个作为介质边界的表面。 aSvv(iV  
 一般来说，界面之间的距离必须手动设置。 b"A,q  
 对于斜光栅介质，介质高度（z方向）直接定义在介质配置中。 TdgK.
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 因此，表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 7JGc9K+Av  
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斜光栅介质的采样配置 'KA$^  
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斜光栅介质采样 #0r~/gW  
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 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 U}5fjY  
 在每个幻灯片的左边，编辑对话框展示了相关参数。 >lV,K1Z  
 在右边，显示了介质的预览。 .p! DVQ"a  
 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 ekvs3a^  
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采样斜光栅#1 ?OFa Q  
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采样斜光栅#2 04-_ K  
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采样斜光栅#3 DLrV{8%W  
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采样斜光栅#4 :awkhx  
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