摘要 t-AmX)$ yauvXosX VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何
结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。
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~Ei<Z`3}7" 5G#n"}T 介质目录中的斜光栅介质 T|$H#n} =M1I>
#Z #-Ht #mT"gs 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
Ef\-VKh 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
$qiya[&G4 _`V'r#Qn 斜光栅介质的编辑对话框 U:`Kss` ~u{uZ(~
OI*H,Z" .}t
e>]A* 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
hgmCRC 首先,光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
(Z*!#}z` 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过
折射率定义。
6863xOv{T 斜光栅介质的编辑对话框 #WuBL_nZ~
s7<AfaJPF
b}f~il w]H->B29C 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
H|*m$|$, 以下参数可用:
45e~6", - 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
QZs!{sZ - z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
T%Lx%Qn - 倾斜
角度左(脊左侧的倾斜角)
Ri{=]$ - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
a[C@ \RiP
如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
ixFi{_ @FeTz[ 斜光栅介质的编辑对话框 `A >@]d AdEMa}u6
. vV|hSc UZMd~| 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
3<!7>]A 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
Wri<h:1 )UR7i8]!0 斜光栅介质的编辑对话框 I0-MRU~[K ?}0 ,o.
O?2DQY?jT t!XwW$@ WLT"ji0w2 首先,必须选择涂层材料。
#4PN"o@ 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
sT)CxOV 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
vQCy\Gi Nc`L;CP 斜光栅的编辑对话框 %Zi} MPx
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29KiuP 0;k# *#w ?
k /` 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
<YY 14p 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
u_enqC3 w>gYx(8b 堆栈使用的评论 N)T}P\l
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X8|, aOp\91
h0$iOE 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
t0S1QC+ 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
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对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
C]6O!Pb0 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
1#x0 q:6 "sTRS* 斜光栅介质的采样配置 (>Em^(& d0D]Q 斜光栅介质采样
rp$'L7lrX @dKTx#gZ GOPfXtkC 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
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xi 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
7dWS 在右边,显示了介质的预览。
K0~rN.C!0 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
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~$'awY LV Ge]lD 采样斜光栅#1 tw;}jh [JiH\+XLPs
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1v3 采样斜光栅#3 V
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01]f2.5 Et$2Y-L. 文档信息 6P3*Z -@'FW*b