[转载]斜光栅的高级配置 [复制链接]

摘要 hLaQ[9  
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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现，并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现，以此定义其一般性的几何结构。而且，几个高级规格选项可用，例如，添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项，并且讨论了其对光栅结构的影响。 HMw}pp:  
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介质目录中的斜光栅介质 vofBS   
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 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 K<v:RbU|[1  
 可用于设置复杂光学光栅结构（所谓的堆栈）和傅里叶模式法（FMM）分析。 k)agbx  
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斜光栅介质的编辑对话框 cRSgP{hy  
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 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 !Hj 7|5  
 首先，光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 TlC?
?#  
 这些材料既可以从材料目录选择，也可以通过折射率定义。 )!5"\eys  
斜光栅介质的编辑对话框 <W/YC2b  
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 在材料设置下面，可以定义光栅的几何结构。 +<3e@s&  
 以下参数可用： :JK+V2B$H  
- 填充率（定义光栅的上部分和下部分） Dk}t
xw}#  
- z扩展（沿着z方向测量光栅高度） )H{OqZZYD  
- 倾斜角度左（脊左侧的倾斜角） ,<;.'r  
- 倾斜角度右（脊右侧的倾斜角） \cQ+9e)  
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如果倾斜角相同，通过点击不等号关联两个设置。 P%ZU+ET  
RggO|s+0;  
斜光栅介质的编辑对话框 Zig3WiD&  
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 为了添加可配置的涂层，必须激活应用涂层（Apply Coating）选项。 b7HT<$Wg  
 现在，额外的选项和结构的图形一起显示。 5Z[HlN|-!  
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斜光栅介质的编辑对话框 \o5
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P?zL`czWd  
 首先，必须选择涂层材料。 v&xhS yZ  
 同样地，材料可以从材料目录中选择，也可以通过折射率定义。 LGWQBEXw  
 接着，分别配置每个侧壁，顶壁和底壁的涂层厚度，如草图所示。 4TcW%  
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斜光栅的编辑对话框 =!=DISPo  
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 由于斜光栅由介质定义，必须在周期选项中设置周期。 B";Dj~y  
 由于用这个特别的介质来设计光栅，因此常常配置为周期性。 l'?(4N  
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堆栈使用的评论 YGZa##i  
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 为了使用光学堆栈里的介质，有必要定义两个作为介质边界的表面。 V""3#Tw  
 一般来说，界面之间的距离必须手动设置。 ORt)sn&~d  
 对于斜光栅介质，介质高度（z方向）直接定义在介质配置中。 tA-p!#V<k1  
 因此，表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 K?=g IC:  
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斜光栅介质的采样配置 }5y
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斜光栅介质采样 >x${I`2w  
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 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 2MDY nMy  
 在每个幻灯片的左边，编辑对话框展示了相关参数。 "O%xQ N  
 在右边，显示了介质的预览。 5-"aK~@+  
 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 HCaEETk5  
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采样斜光栅#1 J_&G\b.9/  
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采样斜光栅#2 j8?rMD~  
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采样斜光栅#3 }?Tz=hP  
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采样斜光栅#4 ]dnB,  
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