摘要 F,$ypGr GH6 ozWA VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现，并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现，以此定义其一般性的几何
结构。而且，几个高级规格选项可用，例如，添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项，并且讨论了其对光栅结构的影响。
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Ru^j ~Cj5 }^3ICwzm 介质目录中的斜光栅介质 "0A !fRI ~ hX sH9R
f{u3RCfX~2 !T8 h+3 I 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
km# Rh^ 可用于设置复杂光学光栅结构（所谓的堆栈）和傅里叶模式法（FMM）分析。
:k.C|V!W [n;GP@A ]R 斜光栅介质的编辑对话框 6`hHx=L ;K<W<v5m0N 
M8'
GbF=1 #1` lJ 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
ZzV%+n7<Vx 首先，光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
Sg}]5Mn` 这些材料既可以从材料目录选择，也可以通过
折射率定义。
R d{#cW~ 斜光栅介质的编辑对话框 = ^A/&[&31
}CXL\, ;
$X:r&7t+Q[ h$y0>eMWs 在材料设置下面，可以定义光栅的几何结构。
YF<;s^&@u 以下参数可用：
/MQ I5Djg - 填充率（定义光栅的上部分和下部分）
a6fqtkZ x - z扩展（沿着z方向测量光栅高度）
`(7HFq<N - 倾斜
角度左（脊左侧的倾斜角）
3[O;HS3| - 倾斜角度右（脊右侧的倾斜角）
Y^W.gGM ~%o? J"y 如果倾斜角相同，通过点击不等号关联两个设置。
{Deg1V!x> C 9:5c@G 斜光栅介质的编辑对话框 ?sBbe@OC? g<r'f"^ 
4TW>BA ?~>#(Q 为了添加可配置的涂层，必须激活应用涂层（Apply Coating）选项。
27!9LU 现在，额外的选项和结构的图形一起显示。
OCVF+D : /_G^d1T1?L 斜光栅介质的编辑对话框 }TS4D={1 +W P 
g0 BJj= SXx2 fhZD[m#D 首先，必须选择涂层材料。
Q]}aZ4L 同样地，材料可以从材料目录中选择，也可以通过折射率定义。
zT5@wm 接着，分别配置每个侧壁，顶壁和底壁的涂层厚度，如草图所示。
T] tG,W1>i dkRG4
)~g 斜光栅的编辑对话框 L:g!f
_jW}p-j
!@x'?+
]7`) |PJ S%7^7MSq A 由于斜光栅由介质定义，必须在周期选项中设置周期。
?u9JRXj% 由于用这个特别的介质来设计光栅，因此常常配置为周期性。
_XqD3?yH4 =fZ) 2q 堆栈使用的评论 MQv2C@K9F
'y?(s+
u~9gR @e2{ /J"U`/
{4 6(`Bl $M9 为了使用光学堆栈里的介质，有必要定义两个作为介质边界的表面。
)` ZTu -| 一般来说，界面之间的距离必须手动设置。
G3&l|@5 对于斜光栅介质，介质高度（z方向）直接定义在介质配置中。
Z+< zKn} 因此，表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
)NwIEk>Tf <d\Lvo[ 斜光栅介质的采样配置 zl W 5$cC[ "Oh(&N:U 斜光栅介质采样
Lit@ m2{\ l 6;}nG JPX5Jm() 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
c b k|LQ.O 在每个幻灯片的左边，编辑对话框展示了相关参数。
il \q{Y
o 在右边，显示了介质的预览。
:{d?B$ 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
od7 [h5r E r6'Ig| U 
xi]qdiA s4RqMO5eI 采样斜光栅#1 S;vE % B!=JRf T 
A PgP* , Dwq }O 采样斜光栅#2 (P-Bmu!s 0~{& 
sz' IGy% j#TtY|Po 采样斜光栅#3 .CClc(bO_/ ]Hp o[IF 
Khbk v wsyG~^> 采样斜光栅#4 f*VBSg[` d85\GEF9i 
TS9=A1J # A d0dg2Gw 文档信息 %d5;JEgA:g &J)q _Z8 
