摘要 $ ''9K cgb2K$B_" VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现，并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现，以此定义其一般性的几何
结构。而且，几个高级规格选项可用，例如，添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项，并且讨论了其对光栅结构的影响。
xil[#W]7Ge >Bs#Xb_B] 
2DB7+aZ* pG Sai & 介质目录中的斜光栅介质 >6oOZbUY0 uNn[[LS 
(_4;') 9 Dw7vv]+ S 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
, v&L :a 可用于设置复杂光学光栅结构（所谓的堆栈）和傅里叶模式法（FMM）分析。
Kf 2jD4z} `]LSbS 斜光栅介质的编辑对话框 XX1Il;1G# peJKNX.!q 
XyMG.r-, ^m/14 MN| 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
=?h~.lo 首先，光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
RNPbH. 这些材料既可以从材料目录选择，也可以通过
折射率定义。
Sa"9^_.2# 斜光栅介质的编辑对话框 GabYfU kO
PyA&ZkX>
8 ?*RIA.a k 8,?hX: 在材料设置下面，可以定义光栅的几何结构。
l88A=iLgv 以下参数可用：
_/S?# - 填充率（定义光栅的上部分和下部分）
# wc \T - z扩展（沿着z方向测量光栅高度）
9S[ XTU - 倾斜
角度左（脊左侧的倾斜角）
eZr&x~]
-w - 倾斜角度右（脊右侧的倾斜角）
4 t/&. }tPk@$ 如果倾斜角相同，通过点击不等号关联两个设置。
AF43$6KZP$ F`nb21{0y& 斜光栅介质的编辑对话框 Qm8) 4?FZ z4@k$
L8 
[T F8'jI0 4wi (? 为了添加可配置的涂层，必须激活应用涂层（Apply Coating）选项。
r-kMLw/)
现在，额外的选项和结构的图形一起显示。
DFO7uw1 WZ!WxX>zO 斜光栅介质的编辑对话框 4f~["[ *ea NNG}M(/V 
okq[ o90 * MM[u75 y<XlRTy[} 首先，必须选择涂层材料。
xsjO)))f 同样地，材料可以从材料目录中选择，也可以通过折射率定义。
XJ!(F#zc 接着，分别配置每个侧壁，顶壁和底壁的涂层厚度，如草图所示。
q{die[ J IMnP[WA ! 斜光栅的编辑对话框 /D_+{dtE
5 cK@WE:
Wk^RA _ ^MD;"A< n :U>Fj>q 由于斜光栅由介质定义，必须在周期选项中设置周期。
w(1Gi$Z(Q) 由于用这个特别的介质来设计光栅，因此常常配置为周期性。
bXYA5wG e75UMWaeC 堆栈使用的评论 0a R,H[r[?
PN$
.X"D8
7%OKH<i\2< qQ7w&9r.M [oc~iDx%W 为了使用光学堆栈里的介质，有必要定义两个作为介质边界的表面。
`\<37E\N} 一般来说，界面之间的距离必须手动设置。
NYABmI/0c 对于斜光栅介质，介质高度（z方向）直接定义在介质配置中。
"0jJh^v k 因此，表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
Lt#'W :L0/V~D 斜光栅介质的采样配置 -~)OF . BO< 斜光栅介质采样
-{|`H[nmD [ neXFp}S <-UOISyf 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
^TXf sQs 在每个幻灯片的左边，编辑对话框展示了相关参数。
R*1kR|*_) 在右边，显示了介质的预览。
/T0nLp`gi 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
K:yr-#(P/ <W l( 9$ 
AF4?IH K8^kJSF\ 采样斜光栅#1 __p_8P ZF#Rej? 
|'HLz=5\ kvsA]tK. 采样斜光栅#2 W V kR56 m nF}S5[9 
d]0a%Xh[ BOf1J1 采样斜光栅#3 ]_*S~'x #~?kYCtC) 
-ewQp9)G Aj "7q 采样斜光栅#4 -E&e1u,Mi |bZM /U= 
E\2Ml@J us)*2`?6t 文档信息 F=@i6ERi j!#O G 
